[發明專利]防輻射起圈高分子膜

無效

• 申請號: 201210347501.8
• 申請日: 2012-09-07
• 公開（公告）號: CN103660438A
• 公開（公告）日: 2014-03-26
• 發明（設計）人: 李曉春
• 申請（專利權）人: 李曉春
• 主分類號: B32B15/14
• 分類號: B32B15/14;B32B33/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

(一)技術領域

本發明涉及一種高分子膜。

(二)背景技術

隨著日本福島核電站核泄露事故的發生，防核輻射已經成為時下的熱題，而世界各地建了很多的核電站，核輻射已經成為了不可避免的威脅，有效的預防核輻射，有效的消除潛在的威脅，要求有更多的保護措施。在核電站的鋼板上貼上一層膜，用于更高效的防止核輻射，確有必要。一般的高分子膜沒有防輻射的功能，不能滿足要求。且不產品不豐滿、不蓬松、不柔軟、手感不厚實。

(三)發明內容

本發明的目的在于克服上述不足，提供一種防輻射起圈高分子膜。

本發明的目的是這樣實現的：一種防輻射起圈高分子膜，它包括基層和表層，其特點是：所述基層和表層之間設置有一層防輻射層，所述防輻射層為鉛層，所述鉛層粘合在基層和表層之間，所述基層由織物制成，所述織物由經紗和緯紗交織而成，其中經紗包括起圈紗和底紗，起圈紗跨過一定數量的緯紗后形成固定地組織。其中，起圈紗形成的毛圈的起點和終點之間間隔三根緯紗；底紗形成的固定地組織，相鄰交織點之間間隔三根緯紗。

本發明的有益效果是：

1、本發明防輻射起圈高分子膜，其基層和表層之間設置有一層防輻射層，所述防輻射層為鉛層，鉛層能夠有效的阻擋一些放射性物質，從而達到防輻射的效果，因此其具有防輻射的功能。

2、本發明可以使產品豐滿、蓬松、柔軟、手感厚實。

(四)附圖說明

圖1為本發明防輻射起圈高分子膜的結構示意圖。

圖中：

基層1

表層2

防輻射層3。

(五)具體實施方式

參見圖1，本發明防輻射起圈高分子膜，它包括基層1和表層2，所述基層1和表層2之間設置有一層防輻射層3，所述防輻射層3為鉛層，所述鉛層粘合在基層1和表層2之間。所述基層1由織物制成，所述織物由經紗和緯紗交織而成，其中經紗包括起圈紗和底紗，起圈紗跨過一定數量的緯紗后形成固定地組織。其中，起圈紗形成的毛圈的起點和終點之間間隔三根緯紗；底紗形成的固定地組織，相鄰交織點之間間隔三根緯紗。