[發明專利]一種應用于明暗反差大場景的高精度三維重建方法無效
| 申請號: | 201210344110.0 | 申請日: | 2012-09-18 |
| 公開(公告)號: | CN102881043A | 公開(公告)日: | 2013-01-16 |
| 發明(設計)人: | 宋麗梅;楊燕罡;陳卓 | 申請(專利權)人: | 天津工業大學 |
| 主分類號: | G06T17/00 | 分類號: | G06T17/00;G06T7/00 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 300160*** | 國省代碼: | 天津;12 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 應用于 明暗 反差 場景 高精度 三維重建 方法 | ||
技術領域
本發明涉及一種應用于明暗反差大場景的高精度三維重建方法,更具體的說,本發明所提供的三維重建方法,可以實現明暗反差大場景下物體的高精度三維重建。
背景技術
三維重建方法已廣泛應用于工業檢測、逆向工程、人體掃描、文物保護、服裝鞋帽等多個領域,對自由曲面的檢測具有速度快、精度高的優勢。按照成像照明方式的不同,光學三維測量技術可分為被動三維測量和主動三維測量兩大類。在主動三維測量技術中,結構光三維測量技術發展最為迅速,尤其是相位測量輪廓術(Phase?Measuring?Profilometry,PMP),也被稱為相移測量輪廓術(Phase?Shifting?Profilometry,PSP),是目前三維測量產品中常用的測量方法。相位測量方法是向被測物體上投射固定周期的按照三角函數(正弦或者余弦)規律變化的光亮度圖像,此光亮度圖像經過大于3步的均勻相移,最好為4-6步均勻相移,向物體投射4-6次光亮度圖像,最終完成一個周期的相位移動。物體上面的每個點,經過相移圖像的投射后,在圖像中會分別獲得幾個不同的亮度值。此亮度值經過解相運算,會獲得唯一的相位值。由于目前采集到的圖像的幅面較大,為了提高相位精度,需要向被測物體投射多個周期的相位圖,因此,在一副圖像中,相同相位值會出現多次。為了在圖像中獲得唯一的相位值,格雷碼方法是常用的輔助解相方法。目前出現的三維測量產品,普遍采用格雷碼加相移的光學投射方法,如德國GOM公司的Atos-I型結構光三維測量系統、德國Steinbichler公司的COMMET系列結構光三維測量系統、德國Breuckmann公司的optoTOP系列結構光三維測量系統、北京天遠三維科技有限公司的OKIO-II型三維掃描儀、上海數造科技有限公司的3DSS綜合型三維掃描儀、天津世紀動力光電科學儀器有限公司的CPOS三維掃描儀等。由于格雷碼的編碼方法主要靠圖像的二值化來進行編碼,因此對于復雜場景中的物體以及物體表面顏色變化較多的情況,一般需要噴涂顯影劑才能實現較好的測量效果。
外差多頻方法是暨格雷碼方法之后提出的一種改進的三維重建方法,可以避免格雷碼僅僅使用二值化來進行閾值分割的情況。外差多頻的原理是利用三種不同頻率的相移光柵,兩兩疊加出一種更長波形的光柵,再利用兩個疊加后的光柵,最終疊加出全場唯一的相位。該方法由于需要進行三次疊加運算,如果背景復雜的情況下,疊加的相位存在很大的誤差,大大影響測量效果。因此,外差多頻方法雖然比格雷碼方法具有一定的優越性,但是仍然不能解決復雜場景情況下的高精度三維重建難題。
為了解決明暗反差大以及無法噴涂顯影劑的三維重建難題,本發明設計了一種新的三維重建方法,無需噴涂顯影劑,就可以高精度的恢復復雜環境以及顏色變化較多的物體的三維形貌。
發明內容
本發明提供一種基于相移光柵的三維重建方法,該方法能夠應用于高精度三維測量中,可以彌補格雷碼和外差多頻方法在三維重建過程中存在的缺陷。
所述的三維重建系統的硬件系統包括:
用于投射光信號的光源投射裝置,光源投射裝置的分辨率為LR×LC;
用于精度控制、圖像采集和數據處理的計算機;
用于采集圖像的彩色攝像機,圖像分辨率為CR×CC,相機個數為1-2個;
用于放置所述的光源投射裝置和所述的彩色攝像機的掃描平臺;
本發明所設計的三維重建方法,具體操作步驟如下:
步驟1:選取合適的λ1、λ2、λ3三種波長的正弦或者余弦函數光柵,所述的三種波長的光柵的用途是,經過所述光學投影裝置轉化為亮度信息后,可以向物體投射相移光柵。λ1、λ2、λ3的數值不同,為了表述方便,本發明暫且假設λ1>λ2>λ3,如果相移光柵為豎向排列,則三種波長應滿足的關系如下式所示:
λ1≥LR?λ1=Mλ2?λ2=Nλ3(M和N為整數)?????????????公式(1)
如果相移光柵為橫向排列,則三種波長應滿足的關系如下:
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于天津工業大學,未經天津工業大學許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201210344110.0/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





