[發(fā)明專利]一種用于觀察光斑方位變換的裝置和光束整形方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210340166.9 | 申請日: | 2012-09-13 |
| 公開(公告)號: | CN102879905A | 公開(公告)日: | 2013-01-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 邱基斯;樊仲維;唐熊忻 | 申請(專利權(quán))人: | 北京國科世紀激光技術(shù)有限公司 |
| 主分類號: | G02B27/02 | 分類號: | G02B27/02;G02B27/28;G02B27/09 |
| 代理公司: | 北京泛華偉業(yè)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11280 | 代理人: | 王勇;王博 |
| 地址: | 100192 北京市海淀區(qū)西*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 用于 觀察 光斑 方位 變換 裝置 光束 整形 方法 | ||
1.一種用于觀察光斑方位變換的裝置,其特征在于,包括透光體,所述透光體中具有多個遮光孔,并且所述多個遮光孔組成不對稱的圖案。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于觀察光斑方位變換的裝置,其特征在于,所述透光體中具有四個遮光孔,其中三個遮光孔分別處于另一遮光孔的不同方向的位置,且所述的三個遮光孔與另一遮光孔的距離各不相同。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的用于觀察光斑方位變換的裝置,其特征在于,所述四個遮光孔中,第二遮光孔處于第一遮光孔的右側(cè)位置,第三遮光孔處于第一遮光孔的下側(cè)位置,第四遮光孔處于第一遮光孔的對角位置。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的用于觀察光斑方位變換的裝置,其特征在于,所述第二遮光孔與第一遮光孔的距離顯著區(qū)別于第三遮光孔與第一遮光孔的距離。
5.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項所述的用于觀察光斑方位變換的裝置,其特征在于,所述透光體的透光區(qū)與遮光圓孔的邊緣處具有過渡帶,該過渡帶中光的透過率逐漸由全透變?yōu)椴煌浮?/p>
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的用于觀察光斑方位變換的裝置,其特征在于,所述透光體由寫入灰度圖像的液晶空間光調(diào)制器實現(xiàn)。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的用于觀察光斑方位變換的裝置,其特征在于,所述用于觀察光斑方位變換的裝置還包括沿著光路依次設(shè)置的起偏器、左旋45°轉(zhuǎn)子、右旋45°轉(zhuǎn)子和檢偏器,所述液晶空間光調(diào)制器設(shè)置在左旋45°轉(zhuǎn)子和右旋45°轉(zhuǎn)子之間,所述起偏器和檢偏器呈正交放置。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的用于觀察光斑方位變換的裝置,其特征在于,所述用于觀察光斑方位變換的裝置還包括沿著光路依次設(shè)置的起偏器、兩個二分之一玻片和檢偏器,所述液晶空間光調(diào)制器設(shè)置在兩個所述二分之一玻片之間,所述起偏器和檢偏器呈正交放置。
9.根據(jù)權(quán)利要求7或8所述的截取光斑的裝置,其特征在于,所述起偏器為偏振分光棱鏡或偏振片。
10.一種基于權(quán)利要求1至4中任一項所述的用于觀察光斑方位變換的裝置的光束整形方法,其特征在于,包括下列步驟:
1)利用所述的用于觀察光斑方位變換的裝置,獲得輸出光斑相對于初始光斑的方位變換關(guān)系;
2)調(diào)整初始光斑各區(qū)域的強度分布,使得輸出光斑對應(yīng)的區(qū)域的光強發(fā)生相應(yīng)的改變,從而實現(xiàn)光束的空間整形。
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