[發明專利]制造光纖的方法以及光纖有效
| 申請號: | 201210339307.5 | 申請日: | 2012-09-13 |
| 公開(公告)號: | CN102992610A | 公開(公告)日: | 2013-03-27 |
| 發明(設計)人: | 中西哲也;小西達也;藤井隆志;高田崇志;橘久美子 | 申請(專利權)人: | 住友電氣工業株式會社 |
| 主分類號: | C03B37/012 | 分類號: | C03B37/012;C03B37/02;G02B6/02 |
| 代理公司: | 北京天昊聯合知識產權代理有限公司 11112 | 代理人: | 顧紅霞;何勝勇 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 制造 光纖 方法 以及 | ||
1.一種制造光纖的方法,所述方法是制造在玻璃纖維的外周上具有光纖涂層的光纖的方法,所述方法包括:
第一步,將光纖預制件拉伸成玻璃纖維,并且在所述玻璃纖維的外周上設置光纖涂層,以形成母光纖;
第二步,將所述母光纖切割成多根單獨光纖;
第三步,確定所述母光纖的至少一個位置處的斷裂強度F1以及斷裂時間T,所述斷裂強度F1是在所述母光纖的張力以1%/min的張力試驗速度增大的情況下所述母光纖斷裂時的拉力,所述斷裂時間T是纏繞在半徑為1.3mm的芯軸上的所述母光纖發生斷裂為止的時長;
第四步,確定所述多根單獨光纖各自的斷裂強度F2;以及
第五步,從由斷裂強度F1[kgf]和斷裂時間T[min]滿足不等式T>2.6×10-11×exp(4.736×F1)的所述母光纖切出的單獨光纖中選擇斷裂強度F2為5.5kgf以上的光纖。
2.根據權利要求1所述的制造光纖的方法,其中,
在所述光纖預制件的從外周面起向內延伸到等于0.98D1的內徑的區域中,所述光纖預制件的OH濃度為10重量ppm至10000重量ppm,D1是所述光纖預制件的外徑;并且
用于形成一次涂層的樹脂在被光硬化之前具有50重量ppm至20000重量ppm的含水量以及7以下的pH值,所述一次涂層是所述光纖涂層的一部分并與所述玻璃纖維的外周接觸。
3.根據權利要求1所述的制造光纖的方法,其中,
在所述第三步中,一次涂層中所含有的未反應的硅烷偶聯劑的量的減少率小于0.1/7天,所述一次涂層是所述光纖涂層的一部分并與所述玻璃纖維的外周接觸。
4.根據權利要求1所述的制造光纖的方法,其中,
用于形成一次涂層的樹脂在被光硬化之前含有:0.1重量%至10重量%的未添加低聚物的惰性四乙氧基硅烷、以及0.001重量%以下的胺基添加劑,所述一次涂層是所述光纖涂層的一部分并與所述玻璃纖維的外周接觸。
5.根據權利要求4所述的制造光纖的方法,其中,
用于形成一次涂層的樹脂在被光硬化之前含有0.3重量%至2重量%的未添加低聚物的惰性四乙氧基硅烷,所述一次涂層是所述光纖涂層的一部分并與所述玻璃纖維的外周接觸。
6.根據權利要求1所述的制造光纖的方法,其中,
一次涂層在被光硬化之后具有1.5MPa以上的斷裂拉伸應力,所述一次涂層是所述光纖涂層的一部分并與所述玻璃纖維的外周接觸。
7.根據權利要求1所述的制造光纖的方法,其中,
用于形成一次涂層的樹脂在被光硬化之前含有5重量%至15重量%的N-乙烯基單體,所述一次涂層是所述光纖涂層的一部分并與所述玻璃纖維的外周接觸;在被光硬化之后,所述一次涂層具有0.2MPa至1MPa的楊氏模量,并且圍繞所述一次涂層的二次涂層具有800MPa以上的楊氏模量。
8.一種包括設置在玻璃纖維的外周上的光纖涂層的光纖,其中,
在所述玻璃纖維的從外周面起向內延伸到等于0.95d1的內徑的區域中,所述玻璃纖維的OH濃度為10重量ppm至1000重量ppm,d1是所述玻璃纖維的外徑;并且
斷裂強度F[kgf]和斷裂時間T[min]滿足不等式T>2.6×10-11×exp(4.736×F)和F>5.5,所述斷裂強度F是在張力以1%/min的張力試驗速度增大的情況下所述光纖斷裂時的張力,所述斷裂時間T是纏繞在半徑為1.3mm的芯軸上的所述光纖發生斷裂為止的時長。
9.根據權利要求8所述的光纖,其中,
用于形成一次涂層的樹脂在被光硬化之前具有50重量ppm至20000重量ppm的含水量,在被光硬化之后具有5以下的pH值,所述一次涂層是所述光纖涂層的一部分并與所述玻璃纖維的外周接觸。
10.根據權利要求8所述的光纖,其中,
一次涂層中所包含的未反應的硅烷偶聯劑的量的減少率小于0.1/7天,所述一次涂層是所述光纖涂層的一部分并與所述玻璃纖維的外周接觸。
11.根據權利要求8所述的光纖,其中,
一次涂層在被光硬化之后具有1.5MPa以上的斷裂拉伸應力,所述一次涂層是所述光纖涂層的一部分并與所述玻璃纖維的外周接觸。
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