[發明專利]減少雜散光的投影裝置及方法

有效

• 申請號: 201210338793.9
• 申請日: 2012-09-13
• 公開（公告）號: CN103676426B
• 公開（公告）日: 2017-04-12
• 發明（設計）人: 陳惠萍;田政蔚
• 申請（專利權）人: 揚明光學股份有限公司
• 主分類號: G03B21/14
• 分類號: G03B21/14;G03B21/20;G03B21/00
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所11038
• 代理人: 李鎮江

1.一種投影裝置，具有影像光束及暗態光，其特征在于包括：

鏡頭模組；

聚光元件；

數字微鏡裝置，提供所述影像光束而進入所述鏡頭模組；以及

遮光元件，設置在所述數字微鏡裝置及所述聚光元件之間，以阻擋所述暗態光。

2.如權利要求1所述的投影裝置，其特征在于還包括：

光源、多個彩色濾光片以及積分器，所述光源用于提供所述影像光束，且所述影像光束經由所述彩色濾光片后再以所述積分器均勻化而入射至所述數字微鏡裝置，所述數字微鏡裝置具有包含多個微鏡的微鏡陣列并接收所述影像光束而轉動，使入射至每一微鏡的所述影像光束切換成為所述暗態光。

3.如權利要求2所述的投影裝置，其特征在于所述數字微鏡裝置還配置用于將所述影像光束切換成為平態光。

4.如權利要求1所述的投影裝置，其特征在于還包括另一遮光元件，其位于所述聚光元件與所述鏡頭模組之間。

5.如權利要求4所述的投影裝置，其特征在于所述遮光元件與所述另一遮光元件均配置用于阻擋所述暗態光及所述平態光。

6.如權利要求5所述的投影裝置，其特征在于所述遮光元件與所述另一遮光元件為不同形狀。

7.如權利要求5所述的投影裝置，其特征在于所述遮光元件與所述另一遮光元件為相同形狀。

8.如權利要求1所述的投影裝置，其特征在于所述遮光元件與所述聚光元件一體成型。

9.如權利要求1所述的投影裝置，其特征在于所述投影裝置具有全內反射TIR架構、反向全內反射RTIR架構、反射鏡式Mirror?type架構及場鏡field?lens架構其中之一。

10.一種投影裝置，具有影像光束及暗態光，其特征在于包括：

鏡頭模組；

聚光元件，會聚所述影像光束而進入所述鏡頭模組；以及

遮光元件，設置在所述鏡頭模組及所述聚光元件之間，以阻擋所述暗態光。

11.一種在投影裝置中減少暗態光的投影方法，所述投影裝置包括鏡頭模組、聚光元件以及數字微鏡裝置，其特征在于所述方法包括：

在所述聚光元件及所述數字微鏡裝置之間以及所述鏡頭模組及所述聚光元件之間兩者其中之一，設置遮光元件，以阻擋所述暗態光。

12.如權利要求11所述的方法，其特征在于所述投影裝置還包括平態光。

13.如權利要求12所述的方法，其特征在于所述暗態光與所述平態光構成雜散光。