[發明專利]機架裝置及包括機架裝置的醫學成像設備

有效

• 申請號: 201210337002.0
• 申請日: 2012-09-12
• 公開（公告）號: CN102988110A
• 公開（公告）日: 2013-03-27
• 發明（設計）人: B.馬賽杰夫斯基
• 申請（專利權）人: 西門子公司
• 主分類號: A61B19/00
• 分類號: A61B19/00
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 郝俊梅

技術領域

本發明涉及機架裝置，具體用于醫學成像設備，機架裝置包含至少兩個機架外殼裝置（housing?shell?unit）和用于安裝至少兩個機架外殼裝置的支撐架裝置。

背景技術

醫學成像設備具有不同尺寸，其取決于檢測裝置的實施方式和/或取決于應用領域，其中檢測裝置被包含在醫學成像設備中，因此不同地被實施的機架裝置用于不同的醫學成像設備。

例如，取決于應用領域，不同地被實施的磁體用于各磁共振設備。例如關于磁場強度和/或關于例如作為全身掃描儀或作為頭部掃描儀等的使用，不同地被實施的磁體是不同的。不同地被實施的磁體也影響各磁共振設備的幾何尺寸，因此這需要在各種情況下適合磁共振設備的并包括適合的殼蓋的機架裝置。就此而論，用于不同的磁共振設備的各機架裝置或殼蓋是不同的，尤其關于長度、和/或高度、和/或寬度。

發明內容

具體地，本發明提出了提供經濟的機架裝置的問題，該機架裝置可用于不同地被實施的裝置和/或設備。通過獨立權利要求中的特征解決了這個問題。在從屬權利要求中描述了有利實施方式。

本發明采用機架裝置作為其出發點，具體用于醫學成像設備，包括至少兩個機架外殼裝置和用于安裝至少兩個機架外殼裝置的支撐架裝置。

應當認為，至少兩個機架外殼裝置在各種情況下具有至少一個搭接元件，其中借助于搭接元件，當至少兩個機架外殼裝置在支撐架裝置上處于組裝位置時，在搭接元件的區域內可實現兩個機架外殼裝置之間的可變搭接。因此，憑借由于搭接元件得到的可變搭接區域，可以在組裝過程中以結構上簡單的方式使機架裝置適應一裝置的尺寸，例如長度、和/或高度、和/或寬度，該裝置被機架裝置圍繞，例如磁共振設備的磁性裝置。而且，機架裝置可以特別劃算地用作多個不同的裝置，例如不同的磁共振設備，因為借助于搭接元件，機架裝置可適應裝置的尺寸，具體地是磁共振設備的磁性裝置。第一機架外殼裝置的搭接元件和第二機架外殼裝置的搭接元件優選地設置在兩個鄰近機架外殼裝置的相反端區域，使得對于不同地被實施的裝置，可實現機架外殼裝置相對彼此的結構簡單的設置。在這種情況下，搭接元件應具體理解為表示機架外殼裝置的元件，所述元件專門設計為相對于另外的機架外殼裝置-具體地是另外機架外殼裝置的另外搭接元件-實現搭接和/或疊置，其中搭接和/或疊置可發生在兩個搭接元件之間，或至少一個搭接元件和例如磁共振設備的前蓋之間。為此目的，搭接元件優選地具有比剩余機架外殼裝置的厚度更小的厚度。

還應當認為，至少兩個機架外殼裝置在各種情況下包含兩個搭接元件，其被設置在機架外殼裝置的相反端區域。從而可以獲得大的調整區域，以便使機架裝置適應被機架裝置圍繞的裝置-例如磁性裝置-的尺寸，這歸功于多個搭接區域和/或疊置區域，一個搭接區域和/或疊置區域在各種情況下被設置在兩個機架外殼裝置之間。由于機架裝置關于被機架裝置圍繞的裝置-例如磁性裝置-的高度、和/或長度、和/或寬度的顯著靈活性，可以有利地拓寬這樣的機架裝置的應用領域。

在本發明的一個替代實施方式中，應當認為，至少兩個機架外殼裝置在各種情況下包含前搭接元件和后搭接元件。在這方面，前搭接元件應具體理解為厚度小于機架外殼裝置的中央元件的厚度的搭接元件，并且前搭接元件被設置為相對于中央元件的后側偏置、并相對于中央元件的前側持平。此處后搭接元件應具體理解為厚度小于機架外殼裝置的中央元件的厚度的搭接元件，并且后搭接元件被設置為相對于中央元件的前側偏置、并相對于中央元件的后側持平。前搭接元件和后搭接元件優選地設置在機架外殼裝置的相反端區域和/或邊緣區域。借助于該實施方式，結構上易于相對于另外的機架外殼裝置以疊置或搭接的方式來設置機架外殼裝置、并易于避免機架外殼裝置的任何不希望的翹曲或機架裝置的不希望的增大。

還提議搭接元件具有基本相當于至少兩個機架外殼裝置的中央元件的厚度的50%的厚度。因此當存在至少兩個機架外殼裝置的搭接和/或疊置的時候，由于在疊置或搭接區域的額外材料厚度，可以避免各機架外殼裝置的任何不希望的翹曲。

在一個特別有利的改進方案中，沿著至少兩個機架外殼裝置中的一個的全長方向，搭接元件在各種情況下具有全長的至少15%和至多35%的長度。從而可以獲得關于裝置（具體地是磁性裝置）的尺寸（具體地是長度、和/或高度、和/或寬度）的機架裝置的大的調整區域，并同時獲得高的穩定度，其中憑借具有基本兩倍搭接元件的材料厚度的大的中央區域，可以實現機架外殼裝置的高的穩定度。沿著全長方向，搭接元件有利地具有全長的至少20%和至多35%的長度，并且優選地具有全長的至少25%和至多30%。