[發(fā)明專利]發(fā)光裝置及電子設(shè)備有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201210336771.9 | 申請(qǐng)日: | 2006-11-28 |
| 公開(公告)號(hào): | CN103000659A | 公開(公告)日: | 2013-03-27 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 洼田岳彥;神田榮二;野澤陵一 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 精工愛普生株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | H01L27/32 | 分類號(hào): | H01L27/32;H01L51/50;G09G3/32 |
| 代理公司: | 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021 | 代理人: | 汪惠民 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 發(fā)光 裝置 電子設(shè)備 | ||
本申請(qǐng)是申請(qǐng)日為2006年11月28日、申請(qǐng)?zhí)枮?00610160486.0、發(fā)明名稱為“發(fā)光裝置及電子設(shè)備”的發(fā)明專利申請(qǐng)的分案申請(qǐng)。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種利用了有機(jī)EL(ElectroLuminescent)材料等的發(fā)光材料的發(fā)光裝置的構(gòu)造。
背景技術(shù)
以往,提出了一種將根據(jù)柵極電位控制向發(fā)光元件供給的電流量的晶體管(下面稱作“驅(qū)動(dòng)晶體管”)按每個(gè)發(fā)光元件而配置的有源矩陣方式的發(fā)光裝置(例如,專利文獻(xiàn)1)。驅(qū)動(dòng)晶體管的柵電極連接有用于設(shè)定、保持其電位的電容元件。驅(qū)動(dòng)晶體管經(jīng)由圖案形成為規(guī)定形狀的源極金屬而與發(fā)光元件電連接。
為了對(duì)應(yīng)于發(fā)光元件的高精細(xì)化和發(fā)光裝置的小型化,需要通過靠近配置與發(fā)光元件相關(guān)的各要素來縮小各發(fā)光元件的面積。但是,會(huì)在相互接近的要素之間產(chǎn)生寄生電容。例如,由于以上構(gòu)成中的源極金屬和電容元件的各電極經(jīng)由絕緣層而靠近配置在相互重疊的位置,所以,容易在兩者之間產(chǎn)生寄生電容。而且,因寄生于各要素的電容,會(huì)導(dǎo)致阻礙發(fā)光元件的舉動(dòng)(發(fā)光的時(shí)間長與光量)的高精度控制的問題。以上述情況為背景,本發(fā)明的目的在于抑制對(duì)發(fā)光元件的發(fā)光造成影響的寄生電容。
專利文獻(xiàn)1:特開2004-119219號(hào)公報(bào)
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明一個(gè)方式的發(fā)光裝置,在基板上配置有:控制供給到發(fā)光元件的電流量的驅(qū)動(dòng)晶體管、與驅(qū)動(dòng)晶體管的柵電極電連接的電容元件(例如圖2的電容元件C1和圖25及圖26的電容元件C2)、和將驅(qū)動(dòng)晶體管與發(fā)光元件電連接的元件導(dǎo)通部(例如各實(shí)施方式中的元件導(dǎo)通部71、72及73),元件導(dǎo)通部,隔著驅(qū)動(dòng)晶體管配置在與電容元件相反的一側(cè)的區(qū)域。本方式的具體例作為第一實(shí)施方式~第三實(shí)施方式將在后面敘述。
根據(jù)該構(gòu)成,由于元件導(dǎo)通部隔著驅(qū)動(dòng)晶體管配置在與電容元件相反的一側(cè),所以,與從垂直于基板的方向觀察,在元件導(dǎo)通部配置在驅(qū)動(dòng)晶體管和電容元件的間隙的構(gòu)成相比,寄生于電容元件和元件導(dǎo)通部的電容被降低。因此,可以降低電容元件及元件導(dǎo)通部的一方的電位變動(dòng)對(duì)另一方電位的影響。
另外,電容元件典型用于設(shè)定或保持驅(qū)動(dòng)晶體管的柵電極的電位。例如,一個(gè)方式中的電容元件(例如圖2的電容元件C1)介于驅(qū)動(dòng)晶體管的柵電極與數(shù)據(jù)線之間。在該構(gòu)成中,通過電容元件的電容耦合,驅(qū)動(dòng)晶體管的柵電極被設(shè)定在數(shù)據(jù)線的電位變動(dòng)量所對(duì)應(yīng)的電位。而且,其他方式中的電容元件(例如圖25和圖26的電容元件C2)介于驅(qū)動(dòng)晶體管的柵電極與被供給恒定電位的布線(例如電源線)之間。在該構(gòu)成中,從數(shù)據(jù)線供給到驅(qū)動(dòng)晶體管的柵電極的電位保持于電容元件。
在本發(fā)明的優(yōu)選方式中,驅(qū)動(dòng)晶體管包括形成有溝道區(qū)域的半導(dǎo)體層、和隔著柵極絕緣層而與溝道區(qū)域?qū)χ玫臇烹姌O;電容元件包括:與柵電極電連接的第一電極(例如圖2的電極E1)、和隔著柵極絕緣層而與第一電極對(duì)置的第二電極(例如圖2的電極E2),元件導(dǎo)通部形成在覆蓋柵電極和第一電極的絕緣層(例如圖4的第一絕緣層L1)的面上。根據(jù)該方式,由于元件導(dǎo)通部與驅(qū)動(dòng)晶體管和電容元件由不同層形成,所以,可進(jìn)一步降低在元件導(dǎo)通部和電容元件之間寄生的電容。
在更優(yōu)選的方式中,電容元件的第一電極與驅(qū)動(dòng)晶體管的柵電極連接(例如各實(shí)施方式中的中間導(dǎo)電體51、52及53)。根據(jù)該方式,與第一電極和柵電極分開形成的構(gòu)成相比,可以削減驅(qū)動(dòng)晶體管與電容元件的間隙空間。
而且,在其他的方式中,驅(qū)動(dòng)晶體管的半導(dǎo)體層和電容元件的第二電極從同一層形成。根據(jù)該構(gòu)成,與半導(dǎo)體層和電容元件由不同層形成的情況相比,可實(shí)現(xiàn)制造工序的簡(jiǎn)單化和制造成本的降低。另外,在本發(fā)明中,多個(gè)要素“從同一層形成”是指,通過選擇性除去公共的膜體(不論是單層還是多層),由同一工序形成多個(gè)要素,不論各要素是相互分離還是連接在一起。
在本發(fā)明具體的方式中,設(shè)置有根據(jù)選擇信號(hào)而變?yōu)閷?dǎo)通狀態(tài)或者截止?fàn)顟B(tài)的選擇晶體管,驅(qū)動(dòng)晶體管的柵電極經(jīng)由變?yōu)閷?dǎo)通狀態(tài)的選擇晶體管而被設(shè)定在從數(shù)據(jù)線供給的數(shù)據(jù)信號(hào)所對(duì)應(yīng)的電位,選擇晶體管隔著電容元件配置在與驅(qū)動(dòng)晶體管相反的一側(cè)。并且,在更加優(yōu)選的方式中,選擇晶體管的半導(dǎo)體層與第二電極連接(例如半導(dǎo)體層41、42及43),驅(qū)動(dòng)晶體管的柵電極的電位根據(jù)基于數(shù)據(jù)信號(hào)的供給而引起的第二電極的電位變動(dòng)量而設(shè)定(基于電容元件的電容耦合)。在該方式中,由于選擇晶體管的半導(dǎo)體層與第二電極連接而形成,所以,與分別由不同層形成的構(gòu)造相比,可實(shí)現(xiàn)制造工序的簡(jiǎn)單化和制造成本的降低。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的多個(gè)半導(dǎo)體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導(dǎo)體組件并且至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的;包括至少有一個(gè)躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對(duì)紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導(dǎo)體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發(fā)射并且包括至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的半導(dǎo)體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點(diǎn)的熱電元件的;包括有熱磁組件的





