[發明專利]一種摻氧化鎂同成分鈮酸鋰晶片及其制備方法有效
| 申請號: | 201210335651.7 | 申請日: | 2012-09-12 |
| 公開(公告)號: | CN102899722A | 公開(公告)日: | 2013-01-30 |
| 發明(設計)人: | 張婷;曹遠虎;夏宗仁;梁萬國 | 申請(專利權)人: | 江西勻晶光電技術有限公司 |
| 主分類號: | C30B29/30 | 分類號: | C30B29/30;C30B31/22 |
| 代理公司: | 南昌新天下專利商標代理有限公司 36115 | 代理人: | 施秀瑾 |
| 地址: | 332000 江西省九*** | 國省代碼: | 江西;36 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 氧化鎂 成分 鈮酸鋰 晶片 及其 制備 方法 | ||
1.?一種摻氧化鎂同成分鈮酸鋰晶片,其特征在于:其中氧化鎂含量為5.5~6.5mol%,晶片厚度0.5~3mm。
2.?根據權利要求1所述的摻氧化鎂同成分鈮酸鋰晶片,其特征在于:所述晶片厚度為1.5~3mm。
3.?根據權利要求1所述的摻氧化鎂同成分鈮酸鋰晶片的制備方法,其特征在于:包括如下步驟如下:
????I.?按摩爾百分比Li2CO3?Nb2O5?MgO=[(1-A1)×B1]?[(1-A1)×C1]?A1配料,經混合、燒結得到生長原料;
式中:A1為生長原料中MgO摩爾百分含量,A1=5.2~6mol%
(1-A1)×B1為生長原料中Li2CO3摩爾百分含量,其中B1=48.2~48.6mol%
(1-A1)×C1為生長原料中Nb2O5摩爾百分含量,其中C1=51.4~51.8mol%
??????B1+C1=100%
II.?取步驟I制得的所述生長原料,用提拉法生長,感應或電阻加熱,生長速度0.2~1.2mm/hr,晶轉速度4~15rpm,得到原生晶體;
III.?步驟II制得的原生晶體經高溫退火極化處理,再切割成0.5-3mm厚的毛坯;
IV.?按摩爾比Li2CO3?Nb2O5?MgO=[(1-A2)×B2]?[(1-A2)×C2]?A2配料,經混合、燒結得到擴散原料;
式中:A2為擴散原料中MgO摩爾百分含量,A2=5.5~6.5mol%
(1-A2)×B2為擴散原料中Li2CO3摩爾百分含量,B2=48.6mol%
(1-A2)×C2為擴散原料中Nb2O5摩爾百分含量,C2=51.4mol%
?????B2+C2=100%
V.?將步驟IV所得的所述擴散原料盛入有蓋鉑坩堝中,再將步驟III所得的切割好的毛坯分隔插入所述擴散原料中,加鉑蓋,在箱式爐中加熱至1000~1150℃,恒溫擴散20~40小時,降溫,晶片出爐,即得。
4.?根據權利要求3所述的制備方法,其特征在于:所述生長原料中,A1=5.8mol%,B1=48.5mol%,C1=51.5mol%。
5.?根據權利要求3或4所述的制備方法,其特征在于:所述擴散原料中,A2=6.0mol%。
6.?根據權利要求3所述的制備方法,其特征在于:所述步驟III中,原生晶體上下表面加上Pt電極,控制溫度在1210℃以上進行退火,再極化處理,極化電流密度大于3.0mA/cm2。
7.?根據權利要求3或6所述的制備方法,其特征在于:所述步驟III中,原生晶體經過高溫退火極化處理,再切割成1.5~2mm厚的毛坯。
8.?根據權利要求3所述的制備方法,其特征在于:所述步驟V中,箱式爐恒溫溫度為1050℃。
9.?根據權利要求8所述的制備方法,其特征在于:所述步驟V中,恒溫擴散時間為25~35小時。
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