[發(fā)明專利]一種X-射線層析設(shè)備模擬裝置

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201210335563.7
• 申請(qǐng)日: 2012-09-11
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN103654820A
• 公開(kāi)（公告）日: 2014-03-26
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 劉紅林;章健
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 上海聯(lián)影醫(yī)療科技有限公司
• 主分類號(hào): A61B6/03
• 分類號(hào): A61B6/03;G01N23/04
• 代理公司: 上海思微知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 31237
• 代理人: 鄭瑋

1.一種X-射線層析設(shè)備模擬裝置，包括X-射線源、被測(cè)物體、探測(cè)裝置，其特征在于，至少還包括調(diào)節(jié)系統(tǒng)，所述調(diào)節(jié)系統(tǒng)用以支撐并調(diào)節(jié)所述X-射線源、被測(cè)物體和探測(cè)裝置中任意一個(gè)或任意組合的位置、方向或角度。

2.如權(quán)利要求1所述的X-射線層析設(shè)備模擬裝置，其特征在于，所述調(diào)節(jié)系統(tǒng)包括支撐并調(diào)節(jié)所述X-射線源的第一調(diào)節(jié)裝置、支撐并調(diào)節(jié)所述被測(cè)物體的第二調(diào)節(jié)裝置、以及支撐并調(diào)節(jié)探測(cè)裝置的第三調(diào)節(jié)裝置。

3.如權(quán)利要求2所述的X-射線層析設(shè)備模擬裝置，其特征在于，所述第一調(diào)節(jié)裝置與第三調(diào)節(jié)裝置的自由度之和大于等于6。

4.如權(quán)利要求3所述的X-射線層析設(shè)備模擬裝置，其特征在于，所述第二調(diào)節(jié)裝置的自由度不小于6。

5.如權(quán)利要求3所述的X-射線層析設(shè)備模擬裝置，其特征在于，所述第一調(diào)節(jié)裝置具有6個(gè)自由度，所述第三調(diào)節(jié)裝置具有6個(gè)自由度。

6.如權(quán)利要求2所述的X-射線層析設(shè)備模擬裝置，其特征在于，所述第一調(diào)節(jié)裝置、第二調(diào)節(jié)裝置和第三調(diào)節(jié)裝置中的任一均至少包括θZ角度調(diào)節(jié)模塊、水平度θX、θY調(diào)節(jié)模塊、Z方向升降調(diào)節(jié)模塊和XY水平位置調(diào)節(jié)模塊。

7.如權(quán)利要求6所述的X-射線層析設(shè)備模擬裝置，其特征在于，所述第二調(diào)節(jié)裝置的θZ角度調(diào)節(jié)模塊的角度調(diào)節(jié)范圍為0～360度。

8.如權(quán)利要求1所述的X-射線層析設(shè)備模擬裝置，其特征在于，X-射線源、被測(cè)物體和探測(cè)裝置中的至少兩個(gè)設(shè)置在同一運(yùn)動(dòng)軌道上；或者用以調(diào)節(jié)所述X-射線源、被測(cè)物體和探測(cè)裝置的所述調(diào)節(jié)裝置至少兩個(gè)設(shè)置在同一運(yùn)動(dòng)軌道上。

9.如權(quán)利要求8所述的X-射線層析設(shè)備模擬裝置，其特征在于，所述運(yùn)動(dòng)軌道的形狀為圓形、直線、S形狀、或8字形。

10.如權(quán)利要求1所述的X-射線層析設(shè)備模擬裝置，其特征在于，所述調(diào)節(jié)系統(tǒng)為可編程控制的機(jī)械臂、導(dǎo)軌或升降臺(tái)或其組合。