[發(fā)明專利]光學加工用拋光盤的光順能力評價方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201210332912.X
• 申請日: 2012-09-10
• 公開（公告）號: CN102853781A
• 公開（公告）日: 2013-01-02
• 發(fā)明（設計）人: 彭小強;戴一帆;舒勇;胡皓;石峰;宋辭
• 申請（專利權）人: 中國人民解放軍國防科學技術大學
• 主分類號: G01B11/24
• 分類號: G01B11/24
• 代理公司: 湖南兆弘專利事務所 43008
• 代理人: 趙洪;楊斌

1.一種光學加工用拋光盤的光順能力評價方法，包括以下步驟：

(1)初始面形數(shù)據(jù)預處理：首先取用一試驗工件，測量該試驗工件的初始面形數(shù)據(jù)，然后對初始面形數(shù)據(jù)進行濾波處理，濾除其中的低頻誤差成分，得到濾波后初始面形數(shù)據(jù)；

(2)最終面形數(shù)據(jù)預處理：采用待評價其光順能力的拋光盤對上述試驗工件進行光順，光順后測量該試驗工件的最終面形數(shù)據(jù)，然后對最終面形數(shù)據(jù)進行濾波處理，濾除其中的低頻誤差成分，得到濾波后最終面形數(shù)據(jù)；

(3)獲取濾波后差異面形數(shù)據(jù)：將上述步驟(1)中獲得的濾波后初始面形數(shù)據(jù)與上述步驟(2)中獲得的濾波后最終面形數(shù)據(jù)作差，得到濾波后差異面形數(shù)據(jù)；

(4)相關系數(shù)獲取：從上述的濾波后初始面形數(shù)據(jù)和濾波后差異面形數(shù)據(jù)中選擇與所述拋光盤的拋光面大小一致的某一區(qū)域的特定面形數(shù)據(jù)，并計算該特定面形數(shù)據(jù)的相關系數(shù)；

(5)相關系數(shù)判定：如果得到的相關系數(shù)在給定值以上，則說明上述的某一區(qū)域中有光順行為發(fā)生，因而進入下述的步驟(6)；如果得到的相關系數(shù)小于給定值，則該區(qū)域中的特定面形數(shù)據(jù)棄之不用，然后返回步驟(4)在另一未知區(qū)域中重新進行步驟(4)后的工藝操作；

(6)計算光順系數(shù)：將從上述某一區(qū)域中獲取得到的濾波后初始面形數(shù)據(jù)、濾波后最終面形數(shù)據(jù)及濾波后差異面形數(shù)據(jù)代入光順參數(shù)化模型，并計算該區(qū)域中的光順系數(shù)SF₁；

(7)循環(huán)操作：重新返回至步驟(4)在另一未知區(qū)域中重新進行步驟(4)～步驟(6)的工藝操作，直至選擇的區(qū)域遍歷整個試驗工件的光學表面，并最終計算得到一系列光順系數(shù)SF₂、……、SF_n，其中n為大于或等于2的整數(shù)；

(8)繪制光順直線：將上述步驟中得到的各光順系數(shù)SF₁、……、SF_n及對應于工件表面特定區(qū)域的初始面形誤差值RMS₁、……、RMS_n進行數(shù)據(jù)擬合，繪制得到所述拋光盤的光順效率直線，根據(jù)該光順效率直線即可評價所述拋光盤的光順能力。

2.根據(jù)權利要求1所述的光學加工用拋光盤的光順能力評價方法，其特征在于：所述步驟(1)和步驟(2)的濾波處理過程中，濾波的截止頻率設定為所述拋光盤直徑的1/2。

3.根據(jù)權利要求1或2所述的光學加工用拋光盤的光順能力評價方法，其特征在于，所述光順參數(shù)化模型為：

SF≡RMSini-RMSfinnomimal_removal_depth;]]>

其中，SF即光順系數(shù)，RMS_ini表示濾波后初始面形數(shù)據(jù)的均方根值，RMS_fin是濾波后最終面形數(shù)據(jù)的均方根值，nominal_removal_depth是加工過程中的材料去除量。