[發明專利]一種對高錫粗鉍進行精煉的方法與系統有效
| 申請號: | 201210332871.4 | 申請日: | 2012-09-10 |
| 公開(公告)號: | CN102796887A | 公開(公告)日: | 2012-11-28 |
| 發明(設計)人: | 李繼紅;劉清;李錦華;林國榮;鄒慶敏 | 申請(專利權)人: | 江西稀有金屬鎢業控股集團有限公司 |
| 主分類號: | C22B30/06 | 分類號: | C22B30/06 |
| 代理公司: | 北京王景林知識產權代理事務所 11320 | 代理人: | 王景林;梁潔 |
| 地址: | 330046 *** | 國省代碼: | 江西;36 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 高錫粗鉍 進行 精煉 方法 系統 | ||
技術領域
本發明涉及一種對高錫粗鉍進行精煉的方法與系統,是采用火法對高錫粗鉍進行氧化精煉的工藝。
術語“粗鉍”是統稱雜質元素含量超過國家技術監督局1995-10-17頒布的牌號Bi99.99所規定的含量。
術語“片堿”是氫氧化鈉俗稱。
術語“硝石”是硝酸鈉俗稱。
術語“熔化渣”是指粗鉍經過熔化后,浮在鉍液面上的不熔物。
背景技術
鉍在地殼中的含量僅為10-6%左右,極少見到單獨的原生天然的鉍礦,大都與鎢、鉬、鉛、銅、鐵等金屬礦物共生。
所以,一般都在其它主金屬提煉過程中的副產物中回收鉍,其含錫等非金屬物質尤高,用水法冶煉難于處理,市場一直需要有效的精煉高錫粗鉍的方法。
發明內容
本發明的一個目的是提供一種對高錫粗鉍精煉進行精煉的方法,其可獲得含錫≤0.01%的鉍,拓展了處理高錫粗鉍的精煉方法,增加了鉍精煉的原料來源。
本發明的另外一個目的是提供一種對高錫粗鉍精煉進行精煉的系統,其可獲得含錫≤0.01%的鉍,拓展了處理高錫粗鉍的精煉方法,增加了鉍精煉的原料來源。
為此,根據本發明的一個方面,提供了一種對高錫粗鉍進行精煉的工藝,其以高錫粗鉍為原料,具有一次精煉、二次精煉工序,其特征在于:在整個精煉過程中,將高錫粗鉍投入到鑄鐵或者鑄鋼鍋中加熱熔化,300~400℃用漏瓢攪拌均勻,撈出熔化渣,繼續升溫至450~500℃時,開啟攪拌加入片堿和氯化鈉,而后加入硝石;待堿渣變干后撈出,再加片堿和硝石,直至鉍樣表面出現網狀花紋為終點。通過以上冶煉過程可達到鉍中含錫≤0.01%。
優選地,在整個精煉工藝中,在一次精煉工序中,邊升溫邊用用漏瓢從上往下翻滾液鉍,升溫到300~400℃攪拌均勻,用漏瓢撈去熔化渣。
優選地,在整個精煉工藝中,在一次精煉工序中,根據粗鉍中含錫重量確定片堿、氯化鈉、硝石的投入總量,按Sn∶NaOH∶NaCl∶NaNO3=1∶(2~3)∶(0.4~0.6)∶(0.3~0.5)比例投入。
優選地,在一次精煉工序中,片堿、氯化鈉、硝石分3~5次投入。
優選地,在一次精煉工序中,待堿渣變干后撈出錫渣。
優選地,在一次精煉工序中,終點判斷是待鉍樣表面出現網狀花紋為終點。
優選地,在二次精煉工序中,片堿加入量為2~4包標準包裝/鍋的片堿。
優選地,在二次精煉工序中,硝石加入量為1~5Kg/鍋。
優選地,在二次精煉工序中,溫度控制在450℃~550℃。
根據本發明的另外一個方面,提供了一種對高錫粗鉍進行精煉的系統,其特征在于,該系統包括精煉容器、加熱裝置、溫控裝置、通風裝置、攪拌裝置、加料裝置、和撈渣裝置,加熱裝置設置在精煉容器的下方,溫控裝置和攪拌裝置設置在精煉容器內,加料裝置設置在精煉容器的一旁,溫控裝置在精煉容器內的溫度達到300~400℃和450~500℃時分別觸發撈渣裝置,通風裝置包括鼓風機和插入精煉容器的鉍液面內導風管,加料裝置分別向精煉容器內加片堿、氯化鈉、硝石、或木屑。
優選地,所述精煉容器是鑄鐵鍋或鑄鋼鍋。
優選地,所述加熱裝置是電加熱裝置、燃油加熱裝置、或煤加熱裝置。
優選地,所述撈渣裝置是漏瓢。
根據本發明,以高錫粗鉍為原料在精煉鍋中經過一次精煉、二次精煉等冶煉工序后,可產出含錫≤0.01%的鉍。
附圖說明
圖1是本發明的對高錫粗鉍進行氧化的精煉系統示意圖。
具體實施方式
根據本發明的粗鉍精煉方法,以高錫粗鉍為原料,主要步驟包括:一、一次精煉工序
高錫粗鉍裝入鑄鐵/鑄鋼鍋4內經加熱裝置6升溫熔化,溫度約升至300℃~400℃(優選350℃~400℃),漏瓢1從鍋沿上往下翻滾液鉍,撈出富集在鉍液面的熔化渣5,入渣斗7。繼續升溫至450℃~500℃(優選450℃)時,開啟攪拌,導風管3以60°斜角插入距鉍液面2/3處。加入片堿、氯化鈉,待片堿熔化后,緩慢加入硝石,待堿渣變干后撈出。按同樣方法反復3~5次(優選3次)加入片堿、氯化鈉、硝石,直至鉍樣表面出現網狀花紋為終點。根據粗鉍中含錫重量確定片堿、氯化鈉、硝石的投入總量,按Sn∶NaOH∶NaCl∶NaNO3=1∶(2~3)∶(0.4~0.6)∶(0.3~0.5)的比例投入(優選Sn∶NaOH∶NaCl∶NaNO3=1∶2.5∶0.4∶0.5)。
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