[發(fā)明專利]微波處理裝置及其控制方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201210330294.5
• 申請日: 2012-09-07
• 公開（公告）號: CN103000554A
• 公開（公告）日: 2013-03-27
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 蘆田光利
• 申請（專利權(quán)）人: 東京毅力科創(chuàng)株式會社
• 主分類號: H01L21/67
• 分類號: H01L21/67;H01L21/268
• 代理公司: 北京尚誠知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11322
• 代理人: 龍淳

1.一種微波處理裝置，其特征在于，包括：

收容被處理體的處理容器；

生成用于處理所述被處理體的微波并導(dǎo)入所述處理容器的微波導(dǎo)入裝置；和

控制所述微波導(dǎo)入裝置的控制部，

所述微波導(dǎo)入裝置具有：生成所述微波的多個(gè)微波源；和將在所述多個(gè)微波源中生成的所述微波傳送到所述處理容器的多個(gè)傳送通路，能夠?qū)⒍鄠€(gè)所述微波同時(shí)導(dǎo)入所述處理容器，

所述控制部，在將多個(gè)所述微波同時(shí)導(dǎo)入所述處理容器的第一狀態(tài)繼續(xù)的期間，有選擇地且暫時(shí)地切換為在所述多個(gè)微波源中的一個(gè)微波源中生成所述微波，僅將該微波導(dǎo)入所述處理容器的第二狀態(tài)。

2.如權(quán)利要求1所述的微波處理裝置，其特征在于：

所述微波導(dǎo)入裝置還具有用于檢測所述多個(gè)傳送通路的來自所述處理容器的反射波的多個(gè)檢測器，

所述第一狀態(tài)為用于處理所述被處理體的主要的狀態(tài)，

所述第二狀態(tài)為用于檢測所述傳送通路的反射波的狀態(tài)。

3.如權(quán)利要求2所述的微波處理裝置，其特征在于：

所述控制部根據(jù)在所述第二狀態(tài)中檢測出的反射波的電能，進(jìn)行所述第二狀態(tài)中生成所述微波的微波源與所述處理容器之間的阻抗匹配。

4.如權(quán)利要求2或3所述的微波處理裝置，其特征在于：

所述控制部根據(jù)在所述第一狀態(tài)中檢測的反射波的電能，決定在所述第二狀態(tài)中生成所述微波的微波源。

5.如權(quán)利要求2或3所述的微波處理裝置，其特征在于：

所述多個(gè)微波源包括：

多個(gè)第一種類的微波源，其將在所述第一狀態(tài)中生成所述微波的狀態(tài)與不生成所述微波的狀態(tài)交替地反復(fù)多次；和

多個(gè)第二種類的微波源，其以不與所述多個(gè)第一種類的微波源同時(shí)生成所述微波的方式，將在所述第一狀態(tài)中生成所述微波的狀態(tài)與不生成所述微波的狀態(tài)交替地反復(fù)多次。

6.如權(quán)利要求5所述的微波處理裝置，其特征在于：

從所述第一狀態(tài)向所述第二狀態(tài)的切換，在所述第二狀態(tài)中生成所述微波的微波源從在所述第一狀態(tài)中不生成所述微波的狀態(tài)切換為生成所述微波的狀態(tài)的時(shí)刻進(jìn)行。

7.如權(quán)利要求6所述的微波處理裝置，其特征在于：

所述第二狀態(tài)繼續(xù)的時(shí)間為，在所述第二狀態(tài)中生成所述微波的微波源，在所述第一狀態(tài)中每一次生成所述微波的狀態(tài)的時(shí)間以下，

在從所述第二狀態(tài)切換為所述第一狀態(tài)的前后，使在所述第二狀態(tài)中生成所述微波的微波源生成所述微波的狀態(tài)繼續(xù)的時(shí)間與所述每一次的時(shí)間相等。

8.如權(quán)利要求2或3所述的微波處理裝置，其特征在于：

所述微波用于對所述被處理體進(jìn)行照射來處理所述被處理體。

9.一種微波處理裝置的控制方法，所述微波處理裝置包括：

收容被處理體的處理容器；和

生成用于處理所述被處理體的微波并導(dǎo)入所述處理容器的微波導(dǎo)入裝置，

所述微波導(dǎo)入裝置具有：生成所述微波的多個(gè)微波源；和將在所述多個(gè)微波源中生成的所述微波傳送到所述處理容器的多個(gè)傳送通路，能夠?qū)⒍鄠€(gè)所述微波同時(shí)導(dǎo)入所述處理容器，

在將多個(gè)所述微波同時(shí)導(dǎo)入所述處理容器的第一狀態(tài)繼續(xù)的期間，有選擇地且暫時(shí)地切換為在所述多個(gè)微波源中的一個(gè)微波源中生成所述微波，僅將該微波導(dǎo)入所述處理容器的第二狀態(tài)。

10.如權(quán)利要求9所述的微波處理裝置的控制方法，其特征在于：

所述微波導(dǎo)入裝置還具有用于檢測所述多個(gè)傳送通路的來自所述處理容器的反射波的多個(gè)檢測器，

所述第一狀態(tài)為用于處理所述被處理體的主要的狀態(tài)，

所述第二狀態(tài)為用于檢測所述多個(gè)傳送通路中的、傳送在所述第二狀態(tài)中生成的所述微波的傳送通路的反射波的狀態(tài)。

11.如權(quán)利要求10所述的微波處理裝置的控制方法，其特征在于：

根據(jù)在所述第二狀態(tài)中檢測出的反射波的電能，進(jìn)行所述第二狀態(tài)中生成所述微波的微波源與所述處理容器之間的阻抗匹配。

12.如權(quán)利要求10或11所述的微波處理裝置的控制方法，其特征在于：

根據(jù)在所述第一狀態(tài)中檢測的反射波的電能，決定在所述第二狀態(tài)中生成所述微波的微波源。