[發(fā)明專利]光掩模坯料、光掩模和制造方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201210329820.6
• 申請(qǐng)日: 2012-09-07
• 公開（公告）號(hào): CN102998894A
• 公開（公告）日: 2013-03-27
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 稻月判臣;五十嵐慎一;西川和宏;吉川博樹
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 信越化學(xué)工業(yè)株式會(huì)社
• 主分類號(hào): G03F1/32
• 分類號(hào): G03F1/32
• 代理公司: 中國國際貿(mào)易促進(jìn)委員會(huì)專利商標(biāo)事務(wù)所 11038
• 代理人: 李躍龍

1.一種光掩模坯料，包含透明襯底、布置于該襯底上且由含有過渡金屬和硅的材料構(gòu)成的光學(xué)膜、以及用于精密加工光學(xué)膜的硬掩模膜，其中

所述硬掩模膜為鉻襯底料的多層膜，該多層膜包括鄰接于光學(xué)膜布置的第一層和鄰接于第一層設(shè)置的第二層，所述第一層由含有20-60原子％氧的鉻襯底料構(gòu)成，且具有0.5nm至小于5.0nm的厚度，所述第二層由含有至少50原子％鉻的鉻襯底料構(gòu)成，且其氧含量小于第一層，且

所述硬掩模膜具有2.0nm至小于10nm的總厚度。

2.權(quán)利要求1的光掩模坯料，其中所述多層膜包括作為最下層的第一層、作為中間層的第二層、和作為最外層的第三層，該第三層鄰接于第二層布置，并具有高于第二層的氧含量。

3.權(quán)利要求1的光掩模坯料，其中所述第一層具有0.5-3.0nm的厚度。

4.權(quán)利要求1的光掩模坯料，其中所述光學(xué)膜是遮光膜。

5.權(quán)利要求4的光掩模坯料，其中所述遮光膜具有35-60nm的厚度。

6.權(quán)利要求1的光掩模坯料，其中過渡金屬是鉬。

7.權(quán)利要求1的光掩模坯料，在硬掩模膜上還包含厚度為小于100nm的抗蝕膜。

8.一種光掩模，其由權(quán)利要求1的光掩模坯料制成。

9.一種由權(quán)利要求7的光掩模坯料制造光掩模的方法，包括如下步驟：使抗蝕膜圖案化，使硬掩模膜圖案化，和使光學(xué)膜圖案化，

使抗蝕膜圖案化的步驟包括通過電子束照射進(jìn)行影像寫入，

使硬掩模膜圖案化的步驟包括使用含氧的氯基氣體進(jìn)行干法蝕刻，和

使光學(xué)膜圖案化的步驟包括使用氟基氣體進(jìn)行干法蝕刻。