[發(fā)明專利]薄膜形成裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201210327850.3
• 申請日: 2012-09-06
• 公開（公告）號: CN103014617A
• 公開（公告）日: 2013-04-03
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 姜友松;鹽野一郎;宮內(nèi)充祐;青山貴昭;林達也;長江亦周
• 申請（專利權(quán)）人: 株式會社新柯隆
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04;C23C16/04
• 代理公司: 北京三友知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11127
• 代理人: 李輝;黃綸偉

1.一種薄膜形成裝置，該薄膜形成裝置具有保持多個基板的基板保持機構(gòu)，在所述多個基板上形成薄膜，該薄膜形成裝置的特征在于，

所述基板保持機構(gòu)具有：

基板保持部件，其保持所述多個基板；

支撐部件，其支撐該基板保持部件；以及

旋轉(zhuǎn)部件，其使該支撐部件旋轉(zhuǎn)，

所述基板保持部件具有：

多個保持面，其保持所述多個基板，配置在放出所述薄膜的材料的成膜源與所述多個基板之間；

多個階差部，其形成在該多個保持面之間；以及

多個開口部，其分別形成在所述多個保持面上，

能夠以如下方式搭載多個所述基板：所述多個基板中的不形成所述薄膜的非成膜部分的一部分與其他基板相互重合，并且要形成所述薄膜的成膜部分露出，在所述多個基板的端部分別與所述階差部抵接的狀態(tài)下，所述成膜部分通過所述開口部而露出到所述成膜源側(cè)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的薄膜形成裝置，其特征在于，

所述基板保持部件在所述旋轉(zhuǎn)部件的旋轉(zhuǎn)方向上被分割為2個以上12個以下。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的薄膜形成裝置，其特征在于，

所述基板保持部件形成為俯視時呈環(huán)狀，在所述基板保持部件的徑向上，相鄰配置多個所述基板保持部件。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的薄膜形成裝置，其特征在于，

所述支撐部件以能夠改變所述基板保持部件的所述多個保持面與所述旋轉(zhuǎn)部件的旋轉(zhuǎn)軸所成的角度的方式，保持所述基板保持部件。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的薄膜形成裝置，其特征在于，

所述基板保持部件以穿過所述成膜部分和所述成膜源的第一假想線與所述成膜部分的成膜面的垂線所成的角度成為0°以上45°以下的方式，保持所述多個基板。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的薄膜形成裝置，其特征在于，

所述支撐部件以形成在所述多個保持面上的所述多個開口部位于以所述旋轉(zhuǎn)部件的旋轉(zhuǎn)軸為中心軸的假想拱頂上的方式，支撐所述基板保持部件。

7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的薄膜形成裝置，其特征在于，

在所述徑向上彼此相鄰配置的所述基板保持部件配置在如下所述的位置上：對于所述成膜源而言，形成在一方的所述基板保持部件上的所述開口部不會被另一方的所述基板保持部件擋住。

8.根據(jù)權(quán)利要求3所述的薄膜形成裝置，其特征在于，

所述支撐部件支撐所述基板保持部件，該基板保持部件形成為在旋轉(zhuǎn)方向及徑向中的至少一個方向上配置多個，

在所述徑向上彼此相鄰配置的所述基板保持部件配置在如下所述的位置：穿過形成在一方的所述基板保持部件的所述保持面上的所述開口部的外周與所述成膜源的第二假想線，與另一方的所述基板保持部件的所述徑向的端部分開20mm以上。

9.根據(jù)權(quán)利要求3所述的薄膜形成裝置，其特征在于，

所述多個階差部沿著相對于所述徑向傾斜的方向形成，

所述多個基板由矩形的板材構(gòu)成，在設(shè)所述多個基板的所述徑向內(nèi)側(cè)的邊緣的長度分別為L，從所述多個基板各自的邊緣的中心點到所述旋轉(zhuǎn)部件的旋轉(zhuǎn)軸的距離為r時，

所述基板保持部件以（L/2）/r的值為0.05以上0.75以下的方式，保持所述多個基板。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的薄膜形成裝置，其特征在于，

所述基板保持部件以重合保持的所述多個基板中的一方的所述基板的邊緣與另一方的所述基板的邊緣所成的角度為0°以上90°以下的方式，保持所述多個基板。

11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的薄膜形成裝置，其特征在于，

所述多個階差部的高度形成為比所述多個基板的厚度高0.05mm以上。