[發(fā)明專利]鑲嵌結(jié)構(gòu)復(fù)合金屬氫分離膜無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210326615.4 | 申請日： | 2012-09-06 |
| 公開（公告）號： | CN102824821A | 公開（公告）日： | 2012-12-19 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 廖全;張浩;陳清華 | 申請（專利權(quán)）人： | 重慶大學(xué) |
| 主分類號： | B01D53/22 | 分類號： | B01D53/22;B01D71/02;C01B3/50 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 400044 重慶市沙坪*** | 國省代碼： | 重慶;85 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 鑲嵌 結(jié)構(gòu) 復(fù)合 金屬 分離 | ||
【權(quán)利要求書】：
1.一種鑲嵌結(jié)構(gòu)復(fù)合金屬氫分離膜，采用金屬鈀或鈀合金利用相關(guān)技術(shù)使其與高滲氫的致密金屬如鉭、釩等基板相結(jié)合，使易氧化的鉭、釩等金屬表面形成一層金屬保護(hù)膜，從而形成易于氫氣分離與提純的結(jié)構(gòu)效果；其特征在于：采用了金屬鈀或鈀合金顆粒利用相關(guān)技術(shù)使其鑲嵌進(jìn)入鉭、釩等基板里，形成特殊的三維鑲嵌結(jié)構(gòu)金屬分離膜。
2.如權(quán)利要求1所述的鑲嵌結(jié)構(gòu)復(fù)合金屬氫分離膜，其特征在于采用冷噴涂技術(shù)使金屬鈀或鈀合金顆粒以高速沖破鉭、釩等金屬基板表面的氧化層使其部分鑲嵌進(jìn)入基板中，形成特殊的三維結(jié)構(gòu)復(fù)合金屬氫分離膜。
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