[發明專利]液體涂布裝置、圖案修正裝置、細微圖案描畫裝置及液體涂布方法無效
| 申請號: | 201210325675.4 | 申請日: | 2012-09-05 |
| 公開(公告)號: | CN102974496A | 公開(公告)日: | 2013-03-20 |
| 發明(設計)人: | 坂田清悟 | 申請(專利權)人: | NTN株式會社 |
| 主分類號: | B05B17/04 | 分類號: | B05B17/04;B05B17/06;B05B5/08;B05D1/04 |
| 代理公司: | 上海專利商標事務所有限公司 31100 | 代理人: | 胡曉萍 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 液體 裝置 圖案 修正 細微 描畫 方法 | ||
1.一種液體涂布裝置,其特征在于,包括:
涂布針;以及
振動產生裝置,該振動產生裝置在利用所述涂布針涂布液體材料時使所述涂布針振動。
2.如權利要求1所述的液體涂布裝置,其特征在于,
所述振動產生裝置包括超聲波發生器。
3.如權利要求1或2所述的液體涂布裝置,其特征在于,
所述液體涂布裝置還包括對所述涂布針的電位進行控制的電位控制裝置。
4.如權利要求3所述的液體涂布裝置,其特征在于,
所述電位控制裝置包括從由直流電源、交流電源及脈沖電源構成的組中選擇出的至少任一個電源。
5.如權利要求4所述的液體涂布裝置,其特征在于,
所述液體涂布裝置還包括對所述涂布針進行保持的保持構件,
所述涂布針與所述保持構件被電絕緣。
6.如權利要求5所述的液體涂布裝置,其特征在于,
所述保持構件包括:
底座構件,該底座構件對所述涂布針進行支承;以及
支承構件,該支承構件對所述底座構件進行支承,
所述底座構件具有第一磁性構件,
所述支承構件具有第二磁性構件,
所述底座構件被所述第一磁性構件與所述第二磁性構件之間產生的磁力保持在所述支承構件上。
7.如權利要求6所述的液體涂布裝置,其特征在于,
所述支承構件包括所述振動產生裝置。
8.一種圖案修正裝置,通過在形成于基板上的細微圖案的缺陷部涂布液體材料來修正所述缺陷部,其特征在于,
包括權利要求1或2所述的液體涂布裝置。
9.一種細微圖案描畫裝置,通過在描畫對象物上涂布液體材料來在所述描畫對象物上描畫出細微圖案,其特征在于,
包括權利要求1或2所述的液體涂布裝置。
10.一種液體涂布方法,其特征在于,包括:
朝涂布針供給液體材料的工序;以及
將供給來的所述液體材料從所述涂布針涂布到涂布對象物上的工序,
在涂布所述液體材料的工序中,一邊使所述涂布針振動,一邊將所述液體材料涂布于所述涂布對象物。
11.如權利要求10所述的液體涂布方法,其特征在于,
在涂布所述液體材料的工序中,通過在所述涂布針與所述涂布對象物之間形成電場來幫助所述液體材料脫離所述涂布針。
12.如權利要求10或11所述的液體涂布方法,其特征在于,
在涂布所述液體材料的工序中,通過使所述涂布針振動來幫助涂布于所述涂布對象物的所述液體材料擴開。
13.如權利要求10或11所述的液體涂布方法,其特征在于,
還包括在容器內攪拌要涂布于所述涂布對象物的所述液體材料的工序,
在容器內攪拌所述液體材料的工序中,通過使插入所述容器內的所述涂布針振動來攪拌所述液體材料。
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