[發明專利]一種位相型納米物體表面等離子體超分辨成像方法有效
| 申請號： | 201210324705.X | 申請日： | 2012-09-05 |
| 公開（公告）號： | CN102879916A | 公開（公告）日： | 2013-01-16 |
| 發明（設計）人： | 羅先剛;趙澤宇;王長濤;王彥欽;姚納;劉玲;黃成;陶興;蒲明薄;劉凱鵬 | 申請（專利權）人： | 中國科學院光電技術研究所 |
| 主分類號： | G02B27/58 | 分類號： | G02B27/58;G01N21/47 |
| 代理公司： | 北京科迪生專利代理有限責任公司 11251 | 代理人： | 楊學明;賈玉忠 |
| 地址： | 610209 *** | 國省代碼： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 位相 納米 物體 表面 等離子體 分辨 成像 方法 | ||
1.一種位相型納米物體表面等離子體超分辨成像方法，照明光從透明載玻片底部垂直入射，位相型納米物體表面等離子體超分辨成像器件能夠增強生物樣本層的位相型納米物體的散射倏逝場，并且能夠有效抑制背景透射照明光對位相型納米物體近場成像的影響，其特征在于步驟如下：
步驟（1）、選擇照明光的工作波長λ，根據其波長選擇可透光的載玻片材料；
步驟（2）、照明光的偏振模式要求選擇線偏振、圓偏振或自然偏振；
步驟（3）、金屬薄膜材料為能夠激發表面等離子體的金屬金、銀、鋁或銅，其介電常數為εm；
步驟（4）、根據照明光波長選擇介電常數匹配的金屬膜和生物樣本層材料，生物樣本層材料介電常數為εi；
步驟（5）、利用納米加工技術首先在載玻片上蒸鍍厚度dm的金屬膜；
步驟（6）、固體膜層或者液體膜層的生物樣本層涂敷或者滴定在蒸鍍厚度dm的金屬膜上，生物樣本層的厚度為di；
步驟（7）、利用納米加工技術緊接著在生物樣本層上蒸鍍厚度dm的金屬膜覆蓋層；
步驟（8）、位相型納米物體的成像記錄方式選擇近場掃描探針或者光記錄材料。
2.根據權利要求1所述的一種位相型物體表面等離子體超分辨成像方法，其特征在于：所述步驟（1）中的可透光的載玻片為硅或二氧化硅。
3.根據權利要求1所述的一種位相型物體表面等離子體超分辨成像方法，其特征在于：所述步驟（1）中的照明光的工作波長365納米。
4.根據權利要求1所述的一種位相型物體表面等離子體超分辨成像方法，其特征在于：所述步驟（3）中的金屬膜材料為能夠激發表面等離子體的金屬銀，介電常數εm=-2.4012+0.2488i。
5.根據權利要求1所述的一種位相型物體表面等離子體超分辨成像方法，其特征在于：所述步驟（4）中的位相型納米物體表面等離子體超分辨成像器件要求雙層金屬膜的介電常數εm和生物樣本層的介電常數εi對于工作波長λ時滿足介電常數匹配（εi~-εm）。
6.根據權利要求1所述的一種位相型物體表面等離子體超分辨成像方法，其特征在于：所述步驟（5）中的生物樣本層的厚度di要求10納米到100納米。
7.根據權利要求1所述的一種位相型物體表面等離子體超分辨成像方法，其特征在于：所述步驟（6）中的金屬膜的厚度dm要求10納米到60納米。
8.根據權利要求1所述的一種位相型物體表面等離子體超分辨成像方法，其特征在于：所述步驟（8）中的位相型納米物體的成像記錄方式要求近場掃描探針或者光記錄材料。
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