[發(fā)明專利]一種鉆孔巖心方位恢復方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210323213.9 | 申請日: | 2012-09-04 |
| 公開(公告)號: | CN103670382A | 公開(公告)日: | 2014-03-26 |
| 發(fā)明(設計)人: | 陳偉明;陳亮;王駒;蘇銳;宗自華;王錫勇;羅輝;李亞偉;田霄 | 申請(專利權(quán))人: | 核工業(yè)北京地質(zhì)研究院 |
| 主分類號: | E21B49/00 | 分類號: | E21B49/00;E21B47/09;E21B47/002 |
| 代理公司: | 核工業(yè)專利中心 11007 | 代理人: | 高尚梅 |
| 地址: | 100029 北*** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 鉆孔 巖心 方位 恢復 方法 | ||
1.一種鉆孔巖心方位恢復方法,其特征在于:包括以下步驟:
①巖心基線劃定:以靠近地表方向為上,將巖心(1)按照從上到下的順序進行連接;在每個巖心完整拼接段劃定基線(2),并標明深度標識(3);
②巖心結(jié)構(gòu)面編錄:對每個基線(2)范圍內(nèi)的結(jié)構(gòu)面(4)進行編錄:記錄結(jié)構(gòu)面下頂點(5)的深度、傾角(6)、垂距(7)、以及結(jié)構(gòu)面(4)與基線(2)的相對方位(8);
其中,結(jié)構(gòu)面(4)是巖體內(nèi)具有一定方向、延展較大、厚度較小的面狀地質(zhì)界面;傾角(6)是結(jié)構(gòu)面(4)與水平面的夾角;深度是巖心結(jié)構(gòu)面下頂點(5)至地面的深度;垂距(7)是巖心結(jié)構(gòu)面上頂點和下頂點之間的垂直距離;結(jié)構(gòu)面(4)與基線(2)的相對方位(8)是指巖心結(jié)構(gòu)面下頂點(5)距基線(2)的最短弧長;
③鉆孔電視測量和解譯:采用高分辨率聲波鉆孔電視測井技術(shù),獲得鉆孔孔壁直觀圖像和孔壁各點的三維磁坐標和傾斜坐標參數(shù);通過數(shù)據(jù)解譯,獲得鉆孔孔壁分布圖;
④巖心校對并確定基準面:將鉆孔電視測量結(jié)果與巖心進行比對,根據(jù)結(jié)構(gòu)面(4)的深度、形態(tài)以及和鄰近結(jié)構(gòu)面的相互關(guān)系,在每個基線(2)范圍內(nèi)確定巖心結(jié)構(gòu)與鉆孔電視解譯結(jié)果一一對應的典型結(jié)構(gòu)面為基準面;基于鉆孔電視獲得的結(jié)構(gòu)面數(shù)據(jù),確定各基準面的傾向;
⑤確定基線方向:根據(jù)鉆孔電視測量結(jié)果獲取基準面傾向值Zi,隨后根據(jù)基準面與基線(2)的相對位置,按下式可獲得各基線的方向Yi:Yi=Zi-lB/r,其中,基線方向為巖心(1)的軸線和基線(2)所確定的平面與水平面的交線的方向;lB為基準面下頂點和基線(2)之間的最短弧長,lB在基線(2)的左側(cè)為正,lB在基線(2)的右側(cè)為負;r為巖心半徑;
⑥巖心結(jié)構(gòu)面傾向確定:根據(jù)每條基線(2)范圍內(nèi)各結(jié)構(gòu)面(4)與基線(2)的相對位置,按以下方程確定每條基線范圍內(nèi)各結(jié)構(gòu)面(4)的傾向值:Xi,j=Yi+lBi,j/r,其中,Xi,j代表第i條基線范圍內(nèi)第j條結(jié)構(gòu)面傾向;Yi為第i條基線的方向值;lBi,j代表第i條基線范圍內(nèi)第j條結(jié)構(gòu)面下頂點距基線的最短弧長。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種鉆孔巖心方位恢復方法,其特征在于:步驟①中進行基線(2)劃定時,同一基線(2)范圍內(nèi)巖心(1)無縫拼接;對于由于巖心(1)破碎或破損導致無法拼接的情況,該基線(2)結(jié)束并進行標記,在下部巖心(2)完整拼接段標記新的基線(2)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種鉆孔巖心方位恢復方法,其特征在于:步驟①中進行基線(2)劃定時,每間隔10~30m標注一次深度標識(3)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種鉆孔巖心方位恢復方法,其特征在于:步驟①中進行基線(2)劃定時,每間隔20m標注一次深度標識(3)。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于核工業(yè)北京地質(zhì)研究院,未經(jīng)核工業(yè)北京地質(zhì)研究院許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201210323213.9/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:薄煤層采煤機非機載控制電控裝置
- 下一篇:管中管稠油汽井口裝置





