[發(fā)明專利]直下式背光模組

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201210321710.5
• 申請日: 2012-09-04
• 公開（公告）號: CN103672568A
• 公開（公告）日: 2014-03-26
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 張超雄;陳濱全;陳立翔
• 申請（專利權(quán)）人: 展晶科技（深圳）有限公司;榮創(chuàng)能源科技股份有限公司
• 主分類號: F21S8/00
• 分類號: F21S8/00;F21V13/12;F21Y101/02
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種背光模組，尤其涉及一種出光均勻的直下式背光模組。

背景技術(shù)

現(xiàn)有的直下式背光模組包括基板、設(shè)置于基板上的若干發(fā)光二極管、位于發(fā)光二極管上方的擴(kuò)散板以及位于擴(kuò)散板上方的光學(xué)膜片。所述擴(kuò)散板為一平整的板體，其包括一入光面及與該入光面相對的一出光面；該擴(kuò)散板將發(fā)光二極管發(fā)出的光線進(jìn)行散射擴(kuò)散，從而改善該直下式背光模組出光的均勻度。

然而，由于發(fā)光二極管中部的光強較強，側(cè)向的光強較弱，以及發(fā)光二極管與背光模組的擴(kuò)散板之間的配置關(guān)系，擴(kuò)散板的入光面正對發(fā)光二極管的區(qū)域上光線較強，而遠(yuǎn)離發(fā)光二極管的區(qū)域上光線較弱，因此擴(kuò)散板的出光面上容易出現(xiàn)明暗不均的現(xiàn)象，從而影響背光模組的出光均勻度。

發(fā)明內(nèi)容

有鑒于此，有必要提供一種出光均勻度較高的直下式背光模組。

一種直下式背光模組，包括基板、設(shè)置于基板一側(cè)的發(fā)光二極管、位于發(fā)光二極管上方的擴(kuò)散板，所述擴(kuò)散板包括主體部及自主體部朝向發(fā)光二極管凸設(shè)的導(dǎo)光部，所述導(dǎo)光部位于所述發(fā)光二極管的正上方；所述導(dǎo)光部的外表面中部、沿其周緣方向設(shè)置向內(nèi)凹陷的弧狀的折射面，發(fā)光二極管發(fā)出的光線經(jīng)由導(dǎo)光部的折射面折射后自主體部射出。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明提供的直下式背光模組，發(fā)光二極管發(fā)出的光線在入射至擴(kuò)散板之前，經(jīng)由擴(kuò)散板與發(fā)光二極管正對的導(dǎo)光部的折射發(fā)散，均勻地射出擴(kuò)散板，從而提高了直下式背光模組的出光均勻度。

附圖說明

圖1為本發(fā)明一較佳實施例中的直下式背光模組的側(cè)視圖。

圖2為圖1所示的擴(kuò)散板的立體圖。

圖3為圖1所示的光學(xué)透鏡的放大圖。

圖4為圖3所示的光學(xué)透鏡的沿IV-IV線的剖視圖。

圖5為本發(fā)明一較佳實施例中的直下式背光模組的光路示意圖。

主要元件符號說明

背光模組10基板11發(fā)光二極管13凹穴14罩體15光學(xué)透鏡17擴(kuò)散板18擴(kuò)散膜19基體131發(fā)光二極管晶粒133封裝層135貼設(shè)部171發(fā)散部173鋸齒175主體部181導(dǎo)光部183斜面1751豎直面1753折射面1831