[發(fā)明專利]光漫射機(jī)構(gòu)

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201210321605.1
• 申請日: 2012-07-09
• 公開（公告）號: CN102865551A
• 公開（公告）日: 2013-01-09
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: M·A·菲洛塞塔;J·薩莫
• 申請（專利權(quán)）人: 美泰有限公司
• 主分類號: F21V5/08
• 分類號: F21V5/08;F21V7/10;F21Y101/02
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務(wù)所 11105
• 代理人: 陳曉帆;沙捷

1.一種光漫射腔室，包括：

腔室殼體，該腔室殼體包括具有上端和下端的側(cè)壁，與下端耦合的底壁，形成在側(cè)壁中的第一開口，接近側(cè)壁上端的第二開口，和耦合到側(cè)壁的套筒，該套筒限定通過所述第一開口與腔室殼體內(nèi)部連通的通道；

接近所述第一開口的光源，所述腔室殼體接收來自該光源的光；和

覆蓋第二開口的漫射板。

2.如權(quán)利要求1所述的光漫射腔室，其中漫射板包括具有第一光控制圖案的第一表面和具有第二光控制圖案的第二表面。

3.如權(quán)利要求2所述的光漫射腔室，其中第一光控制圖案包括形成在漫射板的第一表面上的多個(gè)凹槽和脊，并且從第二開口出射的光入射到第一光控制圖案上。

4.如權(quán)利要求3所述的光漫射腔室，其中第二光控制圖案包括形成在漫射板的第二表面上的多個(gè)凹槽和脊，并且第二光控制圖案的凹槽和脊沿著一方向取向，該方向不同于第一光控制圖案的凹槽和脊沿著對準(zhǔn)的方向。

5.如權(quán)利要求1所述的光漫射腔室，其中漫射板包括接收所述側(cè)壁上端的凹槽。

6.如權(quán)利要求1所述的光漫射腔室，其中所述套筒從所述腔室殼體向外延伸。

7.如權(quán)利要求1所述的光漫射腔室，其中所述光源裝配在所述套筒中并具有一中心軸，所述中心軸大體上平行于漫射板延伸。

8.如權(quán)利要求1所述的光漫射腔室，其中所述光源裝配在所述套筒上，并從套筒的軸偏離一角度。

9.如權(quán)利要求1所述的光漫射腔室，其中所述光源實(shí)質(zhì)上容納在所述套筒內(nèi)。

10.如權(quán)利要求1所述的光漫射腔室，其中所述腔室殼體是第一腔室殼體，所述光源是第一光源，且所述光漫射腔室還包括：

耦合到所述第一腔室殼體的板；

與所述板耦合的第二腔室殼體，所述第二腔室殼體與第一腔室殼體相分離，所述第二腔室殼體限定一開口；和

可操作地發(fā)送光到第二腔室殼體內(nèi)的第二光源，來自第二光源的光從第二腔室殼體的開口出射，漫射板覆蓋第二腔室殼體的開口，漫射板包括具有第三光控制圖案的第三表面和具有第四光控制圖案的第四表面。

11.如權(quán)利要求10所述的光漫射腔室，其中第三表面和第四表面與第二腔室殼體的開口對準(zhǔn)。

12.如權(quán)利要求10所述的光漫射腔室，其中第一腔室殼體限定第一容器，第二腔室殼體限定第二容器，并且第一容器比第二容器寬。

13.如權(quán)利要求10所述的光漫射腔室，其中第一容器具有第一長度，第二容器具有第二長度，第一長度大體上與第二長度相同。

14.一種供使用者使用的電子器件，包括：

裝置殼體，其包括限定一本體開口的裝置殼體本體；

與裝置殼體耦合的電子系統(tǒng)；和

設(shè)置在裝置殼體中的光漫射腔室，所述光漫射腔室包括：

腔室殼體，其具有側(cè)壁，與側(cè)壁的底端耦合的底壁，形成在側(cè)壁中

的第一開口，接近側(cè)壁的上端的第二開口，和與側(cè)壁耦合的套筒；

光源，其可操作地將光通過第一開口發(fā)送至腔室殼體內(nèi)，所述光源被連接到所述電子系統(tǒng)；和

覆蓋第二開口的漫射板。

15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的電子器件，其中漫射板包括具有第一光控制圖案的第一表面和具有第二光控制圖案的第二表面，第二開口大體上與本體中的本體開口對準(zhǔn)。

16.如權(quán)利要求15所述的電子器件，其中所述第一表面是磨砂的。

17.如權(quán)利要求14所述的電子器件，其中來自光源的光通過所述漫射板，并通過本體開口從電子器件的裝置殼體本體出射。