[發(fā)明專利]用等離子噴涂技術(shù)制備鋁電解槽TiB2陰極涂層的方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210321048.3 | 申請日: | 2012-09-03 |
| 公開(公告)號: | CN102864404A | 公開(公告)日: | 2013-01-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 謝剛;于站良;蘇其軍;楊萬章;崔焱;陳家輝;許娜;謝天鑒;彭如振 | 申請(專利權(quán))人: | 昆明冶金研究院 |
| 主分類號: | C23C4/12 | 分類號: | C23C4/12;C23C4/10;C25C3/08 |
| 代理公司: | 昆明正原專利商標(biāo)代理有限公司 53100 | 代理人: | 陳左 |
| 地址: | 650031 *** | 國省代碼: | 云南;53 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 等離子 噴涂 技術(shù) 制備 電解槽 tib sub 陰極 涂層 方法 | ||
1.一種用等離子噴涂技術(shù)制備鋁電解槽TiB2陰極涂層的方法,其特征在于利用等離子噴涂設(shè)備通過機(jī)械手在工業(yè)鋁電解槽內(nèi)的陰極表面形成組織結(jié)構(gòu)致密、均勻和粘結(jié)強(qiáng)度大的TiB2復(fù)合材料涂層,
該方法有如下步驟:
(1)烘干的硼化鈦粉末、氧化鋁粉末和石墨粉末按一定比例加入高溫焙燒爐中形成共晶體;
(2)共晶體經(jīng)過破碎、球磨以及進(jìn)一步的超細(xì)粉碎后加入等離子噴涂設(shè)備的料斗中,并在主控制系統(tǒng)內(nèi)輸入相應(yīng)的三維空間移動數(shù)據(jù),啟動噴涂設(shè)備的主控制系統(tǒng)及機(jī)械手;
(3)通過機(jī)械手控制噴涂設(shè)備送粉器的噴嘴與陰極表面基體的距離以及噴嘴的移動速度,在鋁電解槽陰極表面形成TiB2陰極涂層復(fù)合材料。
2.如權(quán)利要求1所述的用等離子噴涂技術(shù)制備鋁電解槽TiB2陰極涂層的方法,其特征在于步驟(1)加入高溫焙燒爐中粉末的成分按重量百分比為硼化鈦粉末60%~80%、氧化鋁粉末10~30%、石墨粉末10~20%;所述的高溫焙燒爐為中頻感應(yīng)爐。
3.如權(quán)利要求1所述的用等離子噴涂技術(shù)制備鋁電解槽TiB2陰極涂層的方法,其特征在于步驟(2)中共晶體粉碎后的粒度為-325~+625目。
4.如權(quán)利要求1或3所述的用等離子噴涂技術(shù)制備鋁電解槽TiB2陰極涂層的方法,其特征在于所述共晶體超細(xì)粉碎用的設(shè)備為氣流粉碎機(jī)。
5.如權(quán)利要求1所述的用等離子噴涂技術(shù)制備鋁電解槽TiB2陰極涂層的方法,其特征在于所述等離子噴涂設(shè)備的工藝參數(shù)為:使用氬氣為主氣加次氣為氫氣聯(lián)合送粉,主氣流量2000~3000L/h,次氣流量20~35L/h;工作電流500~650A,工作電壓65~75V;料斗的送粉器流量為200~400L/h。
6.如權(quán)利要求1所述的用等離子噴涂技術(shù)制備鋁電解槽TiB2陰極涂層的方法,其特征在于所述噴嘴與陰極表面基體的距離5cm~10cm,噴嘴的移動速度0.001~0.10m/s,在鋁電解槽陰極表面形成厚度為0.4~1.5mm的TiB2陰極涂層復(fù)合材料。
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C23C4-00 熔融態(tài)覆層材料噴鍍法,例如火焰噴鍍法、等離子噴鍍法或放電噴鍍法的鍍覆
C23C4-02 .待鍍材料的預(yù)處理,例如為了在選定的表面區(qū)域鍍覆
C23C4-04 .以鍍覆材料為特征的
C23C4-12 .以噴鍍方法為特征的
C23C4-18 .后處理
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