[發(fā)明專(zhuān)利]超導(dǎo)磁體系統(tǒng)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201210320657.7
• 申請(qǐng)日: 2012-08-31
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN103680801B
• 公開(kāi)（公告）日: 2017-04-12
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 李廣州;T.J.霍爾里斯;伊萬(wàn)格拉斯.T.拉斯卡里斯;武安波;徐民風(fēng);江隆植;車(chē)立新;李軍;白燁
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 通用電氣公司
• 主分類(lèi)號(hào): H01F6/00
• 分類(lèi)號(hào): H01F6/00;H01F6/06
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務(wù)所11105
• 代理人: 彭久云

1.一種超導(dǎo)磁體系統(tǒng)，其特征在于：該超導(dǎo)磁體系統(tǒng)包括：

具有一內(nèi)孔的殼體，該內(nèi)孔用于放置待測(cè)物；

同中心設(shè)置在該殼體內(nèi)的第一支撐架；及

支撐于該第一支撐架上的至少一個(gè)超導(dǎo)線(xiàn)圈；

該至少一個(gè)超導(dǎo)線(xiàn)圈的兩相對(duì)端的至少一段大致沿著磁通線(xiàn)的走向設(shè)置。

2.如權(quán)利要求1所述的超導(dǎo)磁體系統(tǒng)，其中該第一支撐架及該殼體的兩相對(duì)端對(duì)應(yīng)于該至少一個(gè)超導(dǎo)線(xiàn)圈的兩相對(duì)端的至少一段的部分與超導(dǎo)磁體系統(tǒng)的旋轉(zhuǎn)軸之間具有傾斜角或弧度。

3.如權(quán)利要求1所述的超導(dǎo)磁體系統(tǒng)，其中該至少一個(gè)超導(dǎo)線(xiàn)圈安裝在該第一支撐架的外表面或內(nèi)表面上，或者一部分安裝在第一支撐架的外表面上而另一部分安裝在第一支撐架的內(nèi)表面上。

4.如權(quán)利要求1所述的超導(dǎo)磁體系統(tǒng)，其中該至少一個(gè)超導(dǎo)線(xiàn)圈包括兩個(gè)第一超導(dǎo)線(xiàn)圈，該兩個(gè)第一超導(dǎo)線(xiàn)圈分別被安裝在該第一支撐架相對(duì)的兩側(cè)，且該兩個(gè)第一超導(dǎo)線(xiàn)圈大致沿著磁通線(xiàn)的走向設(shè)置。

5.如權(quán)利要求4所述的超導(dǎo)磁體系統(tǒng)，其中該至少一個(gè)超導(dǎo)線(xiàn)圈進(jìn)一步包括兩個(gè)位于該兩個(gè)第一超導(dǎo)線(xiàn)圈之間的第二超導(dǎo)線(xiàn)圈，且該第二超導(dǎo)線(xiàn)圈與超導(dǎo)磁體系統(tǒng)的旋轉(zhuǎn)軸平行。

6.如權(quán)利要求4所述的超導(dǎo)磁體系統(tǒng)，其中該至少一個(gè)超導(dǎo)線(xiàn)圈進(jìn)一步包括兩個(gè)位于該兩個(gè)第一超導(dǎo)線(xiàn)圈之間的第二超導(dǎo)線(xiàn)圈，且該第二超導(dǎo)線(xiàn)圈也大致沿著磁通線(xiàn)的走向設(shè)置。

7.如權(quán)利要求5或6所述的超導(dǎo)磁體系統(tǒng)，其中該第一超導(dǎo)線(xiàn)圈的尺寸大于該第二超導(dǎo)線(xiàn)圈的尺寸。

8.如權(quán)利要求6所述的超導(dǎo)磁體系統(tǒng)，其中該第一超導(dǎo)線(xiàn)圈與該第二超導(dǎo)線(xiàn)圈相對(duì)于超導(dǎo)磁體系統(tǒng)的旋轉(zhuǎn)軸的傾斜度不同。

9.如權(quán)利要求4所述的超導(dǎo)磁體系統(tǒng)，其中該至少一個(gè)超導(dǎo)線(xiàn)圈進(jìn)一步包括兩個(gè)位于該兩個(gè)第一超導(dǎo)線(xiàn)圈之間的第二超導(dǎo)線(xiàn)圈，還包括兩個(gè)位于該兩個(gè)第二超導(dǎo)線(xiàn)圈之間的第三超導(dǎo)線(xiàn)圈，且該第二超導(dǎo)線(xiàn)圈也大致沿著磁通線(xiàn)的走向設(shè)置，該第三超導(dǎo)線(xiàn)圈與超導(dǎo)磁體系統(tǒng)的旋轉(zhuǎn)軸平行。

10.如權(quán)利要求4所述的超導(dǎo)磁體系統(tǒng)，其中該至少一個(gè)超導(dǎo)線(xiàn)圈進(jìn)一步包括兩個(gè)位于該兩個(gè)第一超導(dǎo)線(xiàn)圈之間的第二超導(dǎo)線(xiàn)圈，還包括兩個(gè)位于該兩個(gè)第二超導(dǎo)線(xiàn)圈之間的第三超導(dǎo)線(xiàn)圈，且該第二及第三超導(dǎo)線(xiàn)圈也大致沿著磁通線(xiàn)的走向設(shè)置。

11.如權(quán)利要求10所述的超導(dǎo)磁體系統(tǒng)，其中該第一超導(dǎo)線(xiàn)圈與該第二超導(dǎo)線(xiàn)圈相對(duì)于超導(dǎo)磁體系統(tǒng)的旋轉(zhuǎn)軸的傾斜度不同，該第二超導(dǎo)線(xiàn)圈與該第三超導(dǎo)線(xiàn)圈相對(duì)于超導(dǎo)磁體系統(tǒng)的旋轉(zhuǎn)軸的傾斜度也不同。

12.如權(quán)利要求1所述的超導(dǎo)磁體系統(tǒng)，其中該超導(dǎo)磁體系統(tǒng)進(jìn)一步包括：

同中心設(shè)置在該殼體內(nèi)且位于該第一支撐架外側(cè)的第二支撐架；及

支撐于該第二支撐架上的至少一個(gè)屏蔽線(xiàn)圈；

該至少一個(gè)屏蔽線(xiàn)圈的兩相對(duì)端的至少一段大致沿著磁通線(xiàn)的走向設(shè)置。

13.如權(quán)利要求12所述的超導(dǎo)磁體系統(tǒng)，其中該至少一個(gè)屏蔽線(xiàn)圈包括兩個(gè)屏蔽線(xiàn)圈，分別被安裝在該第二支撐架相對(duì)的兩側(cè)，且該兩個(gè)第二屏蔽線(xiàn)圈大致沿著磁通線(xiàn)的走向設(shè)置。

14.如權(quán)利要求12所述的超導(dǎo)磁體系統(tǒng)，其中該至少一個(gè)屏蔽線(xiàn)圈安裝在該第二支撐架的外表面或內(nèi)表面上，或者一部分安裝在第二支撐架的外表面上而另一部分安裝在第二支撐架的內(nèi)表面上。

15.一種超導(dǎo)磁體系統(tǒng)，其特征在于：該超導(dǎo)磁體系統(tǒng)包括：

具有一內(nèi)孔的殼體，該內(nèi)孔用于放置待測(cè)物，且該殼體為截頭圓錐體形狀；

同中心設(shè)置在該殼體內(nèi)的截頭圓錐體形狀支撐架；及

支撐于該支撐架上的若干超導(dǎo)線(xiàn)圈，且該若干超導(dǎo)線(xiàn)圈平行于該支撐架設(shè)置。

16.如權(quán)利要求15所述的超導(dǎo)磁體系統(tǒng)，其中該若干超導(dǎo)線(xiàn)圈安裝在該支撐架的外表面或內(nèi)表面上，或者一部分安裝在支撐架的外表面上而另一部分安裝在支撐架的內(nèi)表面上。

17.如權(quán)利要求16所述的超導(dǎo)磁體系統(tǒng)，其中該若干超導(dǎo)線(xiàn)圈的一部分安裝在支撐架的內(nèi)表面上且該部分靠近內(nèi)孔的大開(kāi)口處，該若干超導(dǎo)線(xiàn)圈的另一部分安裝在支撐架的外表面上且該部分靠近內(nèi)孔的小開(kāi)口處。