[發明專利]涂布裝置以及帶多層膜的薄膜的制造方法

有效

• 申請號: 201210320199.7
• 申請日: 2012-08-31
• 公開（公告）號: CN103056066A
• 公開（公告）日: 2013-04-24
• 發明（設計）人: 國安諭司;原澤岳彥
• 申請（專利權）人: 富士膠片株式會社
• 主分類號: B05C5/02
• 分類號: B05C5/02;B05D1/26
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 蔣亭

技術領域

本發明涉及在使用擠出型的模具連續運送的膜片的表面上涂布涂布液進行制膜的涂布裝置以及帶多層膜的薄膜的制造方法，特別是將多個膜同時制膜的涂布裝置以及帶多層膜的薄膜的制造方法。

背景技術

以往，作為在可撓性支撐體(以下，也稱為膜片)的表面上涂布、制膜期望的厚度的涂布膜(涂布層)的涂布裝置，已知有：刮棒涂布機方式、逆轉輥涂布機方式、凹版輥涂布機方式、擠出涂布機等細縫模具(slot?die)涂布機方式等。

其中，細縫模具涂布機方式的涂布裝置，與其他方式比較，能夠高速進行薄膜(薄層)的涂布，因此應用廣泛。近年來，伴隨個人電腦的普及和家庭用電視機的薄型化，液晶監視器的需要增大，要求薄膜的制膜的偏光膜、光學補償膜等光學膜的需要也提高。隨之，能夠進行薄膜的制膜、并且能夠進行多層膜的制膜的狹縫模具涂布機方式的涂布裝置備受矚目。

作為這樣的細縫模具涂布機方式的涂布裝置，例如有：專利文獻1中記載的擠出涂布裝置。專利文獻1中記載的擠出涂布方法，是在帶狀支撐體上同時涂布二層以上的涂布層的擠出涂布方法，其特征在于，使最下層粘度低于該鄰接的層。由此，使0.01Pa·s以上的高粘度的涂布液形成薄膜，能夠高速涂布。

專利文獻1：日本特開2002-59062號公報

發明內容

但是，專利文獻1中記載的涂布方法中，需要使最下層的粘度低于相鄰接的層的粘度。這在制成多層膜的情況下成為很大的限制。

另外，相應于在膜片的行進方向上的上游側的模唇，應該將構成吐出涂布液的模具的模塊的前端面即模唇與膜片(帶狀支撐體)的距離，即模唇距離采用越大。層數越多，相應地最上游側的模唇距離越大，因此，這成為裝置構成上的制約。

另外，根據本研究者等的深入研究可知，專利文獻1的涂布方法中，發生高低不均(段ムラ)和條紋(スジ)的不良。

本發明鑒于這樣的情況，提供即使使用40mPa·s以下的低粘度的涂布液也能夠進行同時多層制膜、并且能夠降低高低不均和條紋的發生的涂布裝置以及帶多層膜的薄膜的制造方法。

本發明的課題能夠通過下述各發明來解決。

即，本發明的帶多層膜的薄膜的制造方法是，將粘度為40mPa·s以下的涂布液同時多層涂布于被支撐輥支撐并連續移動的膜片的表面，由此，制造帶多層膜的薄膜的方法，所述制造方法的主要特征在于，包括：準備工序，其中，準備由多個模塊構成的模具和抽吸空氣的抽吸裝置；減壓工序，其中，從所述模具的、在所述膜片的移動方向的上游側通過所述抽吸裝置抽吸空氣，由此，對所述模具前端部與所述膜片之間的空間進行減壓；和制膜工序，其中，一邊在所述減壓工序中進行減壓，一邊從所述模具的前端部對所述膜片吐出所述涂布液而在所述膜片制成多層膜，

所述模具具有通過組合所述多個模塊而形成且用于貯留所述涂布液的容器，所述容器配置在比涂布點靠下的位置，所述涂布點為對膜片吐出從該容器供給的涂布液而與膜片或在膜片上形成的涂布膜接觸的位置，

將在所述模塊中作為所述移動方向的最下游的模塊的前端面的下游模唇、與所述膜片的最短距離設為d1，將緊鄰所述下游模唇的鄰接模唇、與所述膜片的最短距離設為d2，所述鄰接模唇為比所述最下游的模塊靠上游側一個模塊的模塊的前端面，將所述鄰接模唇的所述移動方向的寬度設為L2，將最上層的膜厚設為h1，將除去最上層的所有膜的總膜厚設為h2時，以滿足式1～式4全部的方式設置所述模塊而構成所述模具，

10μm≤(d1-d2)≤200μm????式1

d2≤3×h2?????????????????式2

50μm≤L2≤200μm?????????式3

dP/dX＞0??????????????????式4。

由此，能夠降低高低不均、條紋的不良。

另外，本發明的涂布裝置為，從由多個模塊構成的模具的前端涂布粘度為40mPa·s以下的涂布液，并在被支撐輥支撐且連續移動的膜片的表面同時制成利用所述涂布液形成的二層以上的膜的裝置，所述涂布裝置的主要特征在于，具有：抽吸裝置，其從所述模具的、所述膜片的移動方向的上游側抽吸空氣，從而對所述模具前端部與所述膜片的表面之間的空間進行減壓；和容器，其通過組合所述多個模塊而形成并用于貯留所述涂布液，

所述容器配置在比涂布點靠下的位置，所述涂布點為對膜片吐出從所述容器供給的涂布液而與膜片或在膜片上形成的涂布膜接觸的位置，