[發(fā)明專利]一種納米光學多參數測量平臺

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201210316462.5
• 申請日: 2012-08-30
• 公開（公告）號: CN102829961A
• 公開（公告）日: 2012-12-19
• 發(fā)明（設計）人: 王佳;王慶艷;張明倩;武曉宇
• 申請（專利權）人: 清華大學
• 主分類號: G01M11/02
• 分類號: G01M11/02;G01N21/25;G01B11/24
• 代理公司: 北京路浩知識產權代理有限公司 11002
• 代理人: 韓國勝

1.一種納米光子多參數測量平臺，其特征在于，包括多參數可變激發(fā)系統、樣品位置方向微調單元、顯微觀測對準系統、掃描近場光學顯微鏡探測系統和計算機，所述樣品位置方向微調單元用于安裝待測樣品，所述多參數可變激發(fā)系統為待測樣品提供照明激發(fā)光源信號，所述顯微觀測對準系統調節(jié)待測樣品的成像區(qū)域并采集待測樣品的圖像信息發(fā)送給計算機進行顯示，所述掃描近場光學顯微鏡探測系統采集待測樣品的光學近場信息并發(fā)送給計算機，所述計算機將光學近場信息進行處理后顯示。

2.如權利要求1所述的納米光子多參數測量平臺，其特征在于，所述多參數可變照明激發(fā)系統在激發(fā)光光路方向上依次設有：照明激發(fā)光源、光源整形單元、偏振狀態(tài)控制單元和入射角控制單元，所述照明激發(fā)光源發(fā)出的光首先經光源整形單元后成為準直平行光束，再經過偏振狀態(tài)控制單元成為具有特定偏振狀態(tài)的平行光束，繼而經過入射角控制單元，以特定的入射角度入射到待測樣品上。

3.如權利要求2所述的納米光子多參數測量平臺，其特征在于，所述照明激發(fā)光源為白光光源、激光二極管或激光器。

4.如權利要求2所述的納米光子多參數測量平臺，其特征在于，所述光源整形單元在激發(fā)光光路方向上依次設有光束擴束器、光束準直器、空間濾波器和光束轉折器。

5.如權利要求2所述的納米光子多參數測量平臺，其特征在于，所述入射角控制單元包括反射鏡、一維電動平移臺和電動旋轉臺，所述反射鏡固定在電動旋轉臺上，所述電動旋轉臺通過支架固定在一維電動平移臺上。

6.如權利要求1所述的納米光子多參數測量平臺，其特征在于，所述樣品位置方向微調單元包括樣品臺、樣品微動平移臺和樣品微動轉臺，所述樣品微動平移臺嵌入樣品臺的中部，所述樣品微動轉臺固定在樣品微動平移臺上，將待測樣品固定在樣品微動轉臺上。

7.如權利要求6所述的納米光子多參數測量平臺，其特征在于，所述樣品位置方向微調單元還包括隱失場耦合激發(fā)單元，所述隱失場耦合激發(fā)單元安裝在所述樣品微動平移臺上。

8.如權利要求7所述的納米光子多參數測量平臺，其特征在于，所述隱失場耦合激發(fā)單元包括棱鏡、棱鏡固定架和折射率匹配油，所述棱鏡固定架安裝在所述樣品微動平移臺上，所述棱鏡安裝在所述棱鏡固定架中，制備有待測樣品的基底并置于所述棱鏡的表面，并在所述基底和棱鏡二者之間滴入折射率匹配油。

9.如權利要求6所述的納米光子多參數測量平臺，其特征在于，所述顯微觀測對準系統包括可調反射鏡、變倍顯微鏡筒、軸向調焦和二維調節(jié)機構以及CCD攝像頭，所述軸向調焦和二維調節(jié)機構的底部固定在所述樣品臺上，其上部用于固定變倍顯微鏡筒，所述可調反射鏡安裝在樣品臺上并位于變倍顯微鏡筒的下方，所述CCD攝像頭固定在變倍顯微鏡筒的上方并與所述計算機連接。

10.如權利要求1所述的納米光子多參數測量平臺，其特征在于，所述掃描近場光學顯微鏡探測系統包括掃描頭、近場光學探針、控制箱和探測器，所述掃描頭置于待測樣品的上方，所述近場光學探針與掃描頭的底部連接并位于待測樣品的上方，所述探測器的兩端分別與掃描頭和控制箱連接，所述掃描頭和控制箱連接，所述控制箱與計算機連接。