[發明專利]一種用于實現印刷柔性集成電路的互聯、封裝結構有效
| 申請號: | 201210316399.5 | 申請日: | 2012-08-30 |
| 公開(公告)號: | CN102832344A | 公開(公告)日: | 2012-12-19 |
| 發明(設計)人: | 郭小軍;馮林潤;崔晴宇;徐小麗;唐偉 | 申請(專利權)人: | 上海交通大學 |
| 主分類號: | H01L51/05 | 分類號: | H01L51/05;H01L51/10;H01L27/28 |
| 代理公司: | 上海新天專利代理有限公司 31213 | 代理人: | 祖志翔 |
| 地址: | 200240 *** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 用于 實現 印刷 柔性 集成電路 封裝 結構 | ||
1.一種用于實現印刷柔性集成電路的互聯、封裝結構,其中基本單元晶體管為底柵底接觸結構,所述互聯、封裝結構包括有絕緣襯底(11)、器件互聯層(12)、柵電極(13)、柵極絕緣層(14)、源漏電極(15)、半導體層(16)、緩沖層(17)和封裝層(18),其特征是:
所述絕緣襯底(11)位于所述互聯、封裝結構的底層,所述器件互聯層(12)位于所述絕緣襯底(11)之上,所述柵電極(13)位于所述器件互聯層(12)之上,所述柵極絕緣層(14)覆蓋所述器件互聯層(12)和柵電極(13),所述源漏電極(15)位于所述柵極絕緣層(14)之上,所述半導體層(16)覆蓋所述源漏電極(15)電極之間的溝道區域,所述緩沖層(17)覆蓋所述柵極絕緣層(14)、所述源漏電極(15)和所述半導體層(16),所述封裝層(18)位于所述緩沖層(17)之上且在整個互聯、封裝結構的頂層。
2.根據權利要求1所述的用于實現印刷柔性集成電路的互聯、封裝結構,其特征是:所述絕緣襯底(11)為玻璃或塑料薄膜。
3.根據權利要求1所述的用于實現印刷柔性集成電路的互聯、封裝結構,其特征是:所述器件互聯層(12)由金屬互聯線和層間絕緣層組成,該金屬互聯線的材料為導電金屬或導電有機物,該層間絕緣層是指采用可溶液法加工的絕緣層或者采用氣相沉積、濺射或蒸鍍工藝加工的絕緣層。
4.根據權利要求1所述的用于實現印刷柔性集成電路的互聯、封裝結構,其特征是:所述柵電極(13)的材料為導電金屬或導電有機物。
5.根據權利要求3或4所述的用于實現印刷柔性集成電路的互聯、封裝結構,其特征是:所述導電有機物為PEDOT:PSS,所述導電金屬為金、銀、銅或鋁。
6.根據權利要求1所述的用于實現印刷柔性集成電路的互聯、封裝結構,其特征是:所述柵極絕緣層(14)為采用可溶液法加工、紫外線交聯的絕緣層或者采用氣相沉積、濺射或蒸鍍工藝加工的絕緣層。
7.根據權利要求1所述的用于實現印刷柔性集成電路的互聯、封裝結構,其特征是:所述源漏電極(15)的材料為導電金屬并用含巰基的化學單分子自組裝薄膜進行修飾。
8.根據權利要求7所述的用于實現印刷柔性集成電路的互聯、封裝結構,其特征是:所述導電金屬為金、銀或銅。
9.根據權利要求1所述的用于實現印刷柔性集成電路的互聯、封裝結構,其特征是:所述半導體層(16)為采用可溶液法加工的有機半導體。
10.根據權利要求1所述的用于實現印刷柔性集成電路的互聯、封裝結構,其特征是:所述緩沖層(17)為采用可溶液法加工的聚合物絕緣層。
11.根據權利要求1所述的用于實現印刷柔性集成電路的互聯、封裝結構,其特征是:所述封裝層(18)為導熱性良好的聚合物材料。
12.根據權利要求11所述的用于實現印刷柔性集成電路的互聯、封裝結構,其特征是:所述聚合物材料為導熱膠。
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