[發明專利]低阻襯底上的多表面集成器件有效
| 申請號: | 201210313791.4 | 申請日: | 2012-08-29 |
| 公開(公告)號: | CN102832210A | 公開(公告)日: | 2012-12-19 |
| 發明(設計)人: | 王若楠;劉燕;何松;王婷婷 | 申請(專利權)人: | 香港應用科技研究院有限公司 |
| 主分類號: | H01L27/01 | 分類號: | H01L27/01;H01L25/16;H01L23/14 |
| 代理公司: | 深圳新創友知識產權代理有限公司 44223 | 代理人: | 江耀純 |
| 地址: | 中國香港新界沙田香港科*** | 國省代碼: | 中國香港;81 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 襯底 表面 集成 器件 | ||
1.一種器件,其至少一個部件位于多個襯底表面中的一個表面上,該器件包括:
第一襯底,其電阻值在大約0.1歐姆-厘米到10歐姆-厘米,其有至少第一和第二表面;
第一導電部件,其置于所述第一襯底的第一表面上,其與所述第一表面之間可以有中間隔電層,也可以沒有;
第二導電部件,其置于所述第一襯底的第二表面上,;
一空腔,其形成在所述第一襯底上;
第二材料,其電阻值要高于所述第一襯底的電阻值,其被至少部分地填入所述第一襯底的空腔內;
一個或多個導電線路,其形成在所述第二材料內,其電連接所述第一導電部件和所述第二導電部件以形成一器件。
2.如權利要求1所述的器件,其中所述器件包括電感器。
3.如權利要求1所述的器件,其中所述器件包括電容器。
4.如權利要求1所述的器件,其中所述器件包括天線。
5.如權利要求1所述的器件,還包括集成在一起的第二器件。
6.如權利要求5所述的器件,其中所述器件和所述第二器件串聯或并聯。
7.如權利要求5所述的器件,其中所述器件和所述第二器件是分開單獨使用的。
8.如權利要求1所述的器件,其中所述第二材料的電阻值等于或高于大約10的12次方歐姆-厘米,低于大約10的16次方歐姆-厘米。
9.一種垂直集成器件堆疊,包括權利要求1所述的器件。
10.如權利要求8所述的垂直集成器件堆疊,其中所述器件堆疊包括有源器件。
11.一種器件形成方法,其中至少一個部件位于多個襯底表面中的一個表面上,該方法包括:
提供第一襯底,其電阻值在大約0.1歐姆-厘米到10歐姆-厘米,其有至少第一和第二表面;
形成第一導電部件并將其置于所述第一襯底的第一表面上,其與所述第一表面之間可以有中間隔電層,也可以沒有;
形成第二導電部件并其置于所述第一襯底的第二表面上,;
去除一部分所述第一襯底;
將第二材料填入所述第一襯底的所述去除部分,所述第二材料的電阻值要高于所述第一襯底的電阻值;
形成通孔穿過所述第二材料,在所述通孔內形成傳導線路,連接到一個或多個第一和第二焊盤;
在所述第二材料內形成一個或多個導電線路,其電連接所述第一導電部件和所述第二導電部件以形成一器件。
12.如權利要求10所述的方法,其中所述器件是一個集成的無源器件。
13.如權利要求11所述的方法,其中所述集成無源器件選自一個或多個電感器、電容器、或天線。
14.如權利要求10所述的方法,還包括:在所述第一襯底的第一表面上或第二表面下垂直地集成另一個器件。
15.如權利要求13所述的方法,其中所述另一個器件選自有源或無源器件。
16.如權利要求10所述的方法,其中所述第一襯底是硅。
17.如權利要求10所述的方法,其中所述第二材料是高阻聚合物。
18.如權利要求10所述的方法,其中所述第二材料的電阻值等于或高于大約10的12次方歐姆-厘米,低于大約10的16次方歐姆-厘米。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內或其上形成的多個半導體或其他固態組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結點的熱電元件的;包括有熱磁組件的





