[發明專利]光學拾取裝置及其光學元件

無效

• 申請號: 201210313666.3
• 申請日: 2012-08-29
• 公開（公告）號: CN102969005A
• 公開（公告）日: 2013-03-13
• 發明（設計）人: 新出謙一;小森晃;荒川和也
• 申請（專利權）人: HOYA株式會社
• 主分類號: G11B7/135
• 分類號: G11B7/135;G11B7/1374;G11B7/1376;G02B1/11
• 代理公司: 北京戈程知識產權代理有限公司 11314
• 代理人: 程偉;王錦陽

技術領域

本發明涉及一種光學拾取裝置，以及適于根據預定標準將信息記錄到光盤和/或從光盤再現信息的光學拾取裝置的光學元件。具體地，本發明涉及一種光學元件和一種光學拾取裝置，其中通過在基材上形成底部涂層和功能薄膜來配置光學元件，光學拾取裝置上安裝有光學元件。

背景技術

存在在記錄密度、保護層厚度等方面不同的各種光盤標準，比如CD（光盤，Compact?Disc）、DVD（數字多功能光盤，Digital?Versatile?Disc）和BD（藍光光盤，Blu-ray?Disc）。安裝諸如物鏡或準直透鏡的光學元件安裝在其上的光學拾取裝置，用于采用激光束照射光盤的信息記錄層，并因此將信息記錄到光盤或從光盤再現信息。

存在一種情況，在該情況下，當光學拾取裝置執行信息記錄或信息再現時，在光學拾取裝置的光學表面上產生的不需要的反射光或散射光與信號光產生干涉，并因此惡化待記錄或待再現信號。因此，在許多情況下，在光學元件的光學表面上設置功能薄膜，比如用于防止灰塵粘附的防反射涂層或抗靜電薄膜。

當組裝光學拾取裝置時，采用溶劑消除粘附到光學元件的表面的灰塵或指紋。因此，要求功能薄膜（比如，防反射涂層）具有抗磨損性、抗化學性和到基材的粘附性。日本專利臨時公布No.HEI?6-273601A（此后稱作專利文件1）公開了一種技術，在該技術中，由氧化硅作為主要成分制成的具有預定薄膜厚度的薄膜用作防反射涂層的底部涂層。日本專利臨時公布No.2006-228285A（此后稱作專利文件2）公開了一種技術，在該技術中，交替層疊以氧化硅作為主要成分并具有不同折射率的薄膜來提高耐光性，并且層疊薄膜用作防反射涂層的底部涂層。

發明內容

從抗磨損性和抗化學性角度看，增加底部涂層的薄膜厚度是有效的。然而，存在問題：如果增加了底部涂層的薄膜厚度，那么薄膜形成之后會發生薄膜升高。

專利文件1和2中公開的底部涂層旨在解決這種問題。然而，如果我們試圖獲得顯著的優點，需要300nm或更多的薄膜厚度。在這種情況下，如果在樹脂基材上形成具有這種薄膜厚度的底部涂層，那么會導致關于抗環境性的顯著惡化（比如，在高溫條件下，發生破裂或分離）。

本發明的優點在于：它提供了一種能夠具有抗磨損性、抗化學性（抗溶劑性）和抗環境性的光學元件，和一種光學元件安裝在其上的光學拾取裝置。

根據本發明的一個方面，提供了一種用于將具有特殊波長的激光束會聚到光盤的記錄層的光學拾取的光學元件。光學元件包括基材、底部涂層和功能薄膜，基材由樹脂合成物形成，底部涂層由三個具有相同主成分的薄膜層形成并且形成在基材的上表面，功能薄膜形成在底部涂層的上表面。在該配置中，底部涂層的第一層和第三層都是不引入氧氣時形成的薄膜，第二層是引入氧氣時形成的薄膜。底部涂層的薄膜厚度處于160nm到270nm的范圍內，并且組成底部涂層的薄膜的薄膜厚度基本彼此相等。

因為，根據上述配置，底部涂層的薄膜厚度可以減少，變得可能的是，提高抗環境性同時保持抗磨損性和抗化學性（抗溶劑性）。

根據本發明的另一個方面，提供一種用于將具有特殊波長的激光束會聚到光盤的記錄層的光學拾取的光學元件。光學元件包括基材、底部涂層和功能薄膜，基材由樹脂合成物形成，底部涂層由三個具有相同主成分的薄膜層形成并且形成在基材的上表面，功能薄膜形成在底部涂層的上表面。在該配置中，底部涂層的第一層和第三層都是不引入氧氣形成的薄膜，第二層是引入氧氣時形成的薄膜。底部涂層的薄膜厚度處于120nm到270nm的范圍內，第二層的薄膜的薄膜厚度處于90nm到240nm的范圍內。

采用該配置，可以提供具有抗磨損性、抗化學性（抗溶劑性）和抗環境性的光學元件。

在至少一個方面中，第一和第三層的薄膜厚度可以彼此不同。

根據本發明的另一個方面，提供一種用于將具有特殊波長的激光束會聚到光盤的記錄層的光學拾取的光學元件。光學元件包括基材、底部涂層和功能薄膜，基材由樹脂合成物形成，底部涂層由五個具有相同主成分的薄膜層形成并且形成在基材的上表面，功能薄膜形成在底部涂層的上表面。在該配置中，底部涂層的第一層、第三層和第五層都是不引入氧氣形成的薄膜，第二層和第四層都是引入氧氣時形成的薄膜。底部涂層的薄膜厚度處于150nm到275nm的范圍內，組成底部涂層的薄膜的薄膜厚度基本彼此相等。

采用該配置，可以提供具有抗磨損性、抗化學性（抗溶劑性）和抗環境性的光學元件。