[發明專利]含有抗靜電劑的粘合劑組合物以及粘合膜

有效

• 申請號: 201210313374.X
• 申請日: 2012-08-29
• 公開（公告）號: CN102965057A
• 公開（公告）日: 2013-03-13
• 發明（設計）人: 長倉毅;島口龍介
• 申請（專利權）人: 藤森工業株式會社
• 主分類號: C09J133/08
• 分類號: C09J133/08;C09J133/10;C09J11/06;C09J7/02;G02B5/30
• 代理公司: 北京戈程知識產權代理有限公司 11314
• 代理人: 程偉

1.一種含有抗靜電劑的粘合劑組合物，所述粘合劑組合物以(甲基)丙烯酸類聚合物作為主要成分，作為上述抗靜電劑，其含有式1所示的離子化合物，該離子化合物具有有機陽離子，所述有機陽離子包含含有可水解的硅的基團，

[化學式1]

Z⁺X^-????????(式1)

（只是，在式1中，Z⁺表示陽離子，X^-表示陰離子)。

2.根據權利要求1所述的粘合劑組合物，其中上述離子化合物的陽離子Z⁺為式2所示的1種或2種以上的含有烷氧基甲硅烷基的陽離子，

[化學式2]

(R¹O)_n(R²)_3-nSi-Q¹-E-Q²-COO-Q³-V⁺????????(式2)

（只是，在式2中，

R¹和R²表示彼此相同或不同的烷基，

n表示1-3的整數，

Q¹表示碳原子數為1至10的亞烷基，

E表示NH或S，

Q²表示單鍵或碳原子數為1至10的亞烷基，

Q³表示碳原子數為1至10的亞烷基，

V⁺表示選自銨基、吡啶嗡基、吡咯烷鎓基、咪唑鎓基、胍鎓基、異脲鎓基、硫脲鎓基、哌啶鎓基、吡唑鎓基、嗎啉鎓基、鏻基、锍基的一價的陽離子基，該陽離子基可以是無取代基或具有取代基)。

3.根據權利要求1或2所述的粘合劑組合物，其中上述含有可水解的硅的基團為選自三甲氧基甲硅烷基、三乙氧基甲硅烷基、甲基二甲氧基甲硅烷基、甲基二乙氧基甲硅烷基、乙基二甲氧基甲硅烷基、乙基二乙氧基甲硅烷基的烷氧基甲硅烷基。

4.根據權利要求1或2所述的粘合劑組合物，其中上述(甲基)丙烯酸類聚合物為由（A)烷基的碳原子數為C1～C14的(甲基)丙烯酸烷基酯單體的至少1種與（B)含有羥基和/或羧基的可共聚的乙烯基單體的至少1種形成的共聚組合物，

相對于上述共聚組合物的100重量份，上述抗靜電劑含有0.1～20重量份（C)上述式1所示的離子化合物作為必要成分。

5.根據權利要求1或2所述的粘合劑組合物，其中上述(甲基)丙烯酸類聚合物為由（A)烷基的碳原子數為C1～C14的(甲基)丙烯酸烷基酯單體的至少1種與（B’)具有乙烯基的可共聚的乙烯基單體的至少1種形成的共聚組合物，

相對于上述共聚組合物的100重量份，上述抗靜電劑含有0.1～20重量份（C)上述式1所示的離子化合物作為必要成分。

6.根據權利要求1或2所述的粘合劑組合物，其中由上述粘合劑組合物形成的粘合劑層的表面電阻率為1.0×10⁺¹²Ω／□以下。

7.根據權利要求1-6中任一項所述的粘合劑組合物，其中上述離子化合物的陰離子X^-為選自六氟化磷酸陰離子、雙(氟磺酰)亞胺陰離子、三(五氟乙基)三氟磷酸根陰離子、雙(三氟甲磺酰)亞胺陰離子、硫氰酸陰離子、烷基苯磺酸陰離子、高氯酸陰離子鹽、四氟化硼酸陰離子組成的無機或有機陰離子組的1種或2種以上。

8.一種粘合膜，其特征在于在基材的一面上層積權利要求7中所述的粘合劑組合物。

9.一種粘合膜，其特征在于在基材的一面上層積由權利要求7中所述的粘合劑組合物形成的粘合劑層。

10.一種表面保護膜，其使用權利要求9中所述的粘合膜。

11.一種偏光板用表面保護膜，其使用權利要求9中所述的粘合膜。

12.一種光學用表面保護膜，其使用權利要求9中所述的粘合膜。

13.一種附有粘合劑的光學膜，其在光學膜的至少一面上層積由權利要求7中所述的粘合劑組合物形成的粘合劑層。

14.如權利要求13所述的附有粘合劑的光學膜，其中上述光學膜為偏光板。

15.一種圖像顯示裝置，其由經由上述粘合劑層貼合如權利要求13所述的附有粘合劑的光學膜而形成。