[發明專利]刻劃裝置

無效

• 申請號: 201210310305.3
• 申請日: 2012-08-22
• 公開（公告）號: CN103042610A
• 公開（公告）日: 2013-04-17
• 發明（設計）人: 蘇宇航;池田剛史;山本幸司
• 申請（專利權）人: 三星鉆石工業股份有限公司
• 主分類號: B28D1/32
• 分類號: B28D1/32;B28D7/02
• 代理公司: 北京中原華和知識產權代理有限責任公司 11019
• 代理人: 壽寧;張華輝

1.一種刻劃裝置，具備：

工作臺，其載置脆性材料基板；

刻劃頭，其對該脆性材料基板進行加熱及冷卻；及

移動機構，其使該刻劃頭相對該工作臺移動；

該刻劃頭具備：激光照射部，其對該工作臺上的脆性材料基板照射激光光束，形成作為加熱區域的激光點；及冷媒噴射部，其朝向該激光點的移動方向后方位置噴射包含液體的冷媒，形成作為冷卻區域的冷卻點；

沿著該基板假定的刻劃預定線，使該激光點及該冷卻點依序移動，形成熱應力的刻劃線；其特征在于：

該刻劃頭進一步具備朝向該激光點的移動方向前方位置噴射氣體的氣體噴射部。

2.如權利要求1所述的刻劃裝置，其特征在于其中，在該氣體噴射部具備對噴射的氣體進行加熱的氣體加熱機構。

3.如權利要求2所述的刻劃裝置，其特征在于其中，該氣體加熱機構是電熱線加熱器或燈管加熱器。