[發(fā)明專利]太陽能電池片柔性刻蝕清洗設備和方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210309730.0 | 申請日： | 2012-08-28 |
| 公開（公告）號： | CN102800581A | 公開（公告）日： | 2012-11-28 |
| 發(fā)明（設計）人： | 左國軍 | 申請（專利權(quán)）人： | 常州捷佳創(chuàng)精密機械有限公司 |
| 主分類號： | H01L21/306 | 分類號： | H01L21/306;H01L21/02 |
| 代理公司： | 深圳市康弘知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44247 | 代理人： | 胡朝陽;孫潔敏 |
| 地址： | 213125 江蘇省*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 太陽能電池 柔性 刻蝕 清洗 設備 方法 | ||
1.??一種太陽能電池片柔性刻蝕清洗設備，包括裝有刻蝕液的槽體和浸泡在
槽體內(nèi)的滾輪傳動裝置，其特征在于：所述的槽體為連續(xù)的相互隔開的多腔室槽體，所述的槽體前端設有滴水保護裝置。
2.如權(quán)利要求1所述的設備，其特征在于：所述的槽體中各腔室用兩塊相互隔開的隔板間隔，兩塊隔板之間的腔室通過管路與循環(huán)系統(tǒng)連接。
3.如權(quán)利要求1所述的設備，其特征在于：所述的滴水保護裝置包括設置在所述槽體頂端的恒壓桶，該恒壓桶底部通過管路連接多個閥門，各閥門與設置在所述滾輪傳動裝置上方的滴水刀連接。
4.如權(quán)利要求1所述的設備，其特征在于：所述的滴水保護裝置設有監(jiān)控滴水流量控制閥門開閉的控制裝置。
5.一種太陽能電池片柔性刻蝕清洗方法，其特征包括下列步驟：
（1）先通過滴水保護裝置對滾輪傳動裝置上的硅片表面進行滴水，形成保護膜；
（2）然后將硅片沿滾輪傳動裝置進入槽體各腔室進行濕法刻蝕。
6.如權(quán)利要求5所述的太陽能電池片柔性刻蝕清洗方法，其特征在于：所述濕法刻蝕后的硅片上表面有小于0.1mm的刻蝕線。
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H01L 半導體器件；其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置；專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理；集成電路器件或其特殊部件的制造
