[發明專利]一種制備ZnO納米結構的電沉積方法有效
| 申請號： | 201210309019.5 | 申請日： | 2012-08-27 |
| 公開（公告）號： | CN103628107A | 公開（公告）日： | 2014-03-12 |
| 發明（設計）人： | 陳頡;湯洋 | 申請（專利權）人： | 北京低碳清潔能源研究所 |
| 主分類號： | C25D9/08 | 分類號： | C25D9/08 |
| 代理公司： | 北京市中咨律師事務所 11247 | 代理人： | 彭飛;林柏楠 |
| 地址： | 102209 北京市*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 制備 zno 納米 結構 沉積 方法 | ||
1.一種制備ZnO納米結構的方法，該方法采用由Zn(NO3)2和NH4NO3制成的水溶液經電沉積制備ZnO納米結構，其特征在于，在所述由Zn(NO3)2和NH4NO3制成的水溶液中，NH4NO3與Zn(NO3)2的摩爾濃度比大于4:1。
2.根據權利要求1所述的方法，其中，在所述由Zn(NO3)2和NH4NO3制成的水溶液中，NH4NO3與Zn(NO3)2的摩爾濃度比為大于4:1至100:1。
3.根據權利要求2所述的方法，其中，在所述由Zn(NO3)2和NH4NO3制成的水溶液中，NH4NO3與Zn(NO3)2的摩爾濃度比為5:1至90:1。
4.根據權利要求2所述的方法，其中，在所述由Zn(NO3)2和NH4NO3制成的水溶液中，NH4NO3與Zn(NO3)2的摩爾濃度比為6:1至90:1。
5.根據權利要求2所述的方法，其中，在所述由Zn(NO3)2和NH4NO3制成的水溶液中，NH4NO3與Zn(NO3)2的摩爾濃度比為8:1至90:1。
6.根據權利要求2所述的方法，其中，在所述由Zn(NO3)2和NH4NO3制成的水溶液中，NH4NO3與Zn(NO3)2的摩爾濃度比為10:1至90:1。
7.根據權利要求2所述的方法，其中，在所述由Zn(NO3)2和NH4NO3制成的水溶液中，NH4NO3與Zn(NO3)2的摩爾濃度比為10:1至50:1。
8.根據權利要求1所述的方法，其中，在由Zn(NO3)2和NH4NO3制成的水溶液中，Zn(NO3)2的濃度為1mM至500mM。
9.根據權利要求8所述的方法，其中，在由Zn(NO3)2和NH4NO3制成的電解質水溶液中，Zn(NO3)2的濃度為1mM至20mM。
10.根據權利要求8所述的方法，其中，在由Zn(NO3)2和NH4NO3制成的電解質水溶液中，Zn(NO3)2的濃度為5mM至7mM。
11.根據權利要求1所述的方法，其中，所述電沉積在包括對電極、工作電極和參比電極的三電極電化學反應體系中進行。
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