[發明專利]用于確定重疊誤差的方法和設備

有效

• 申請號: 201210308690.8
• 申請日: 2012-08-27
• 公開（公告）號: CN102967997A
• 公開（公告）日: 2013-03-13
• 發明（設計）人: A·J·登博夫
• 申請（專利權）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G01M11/02
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 吳敬蓮

1.一種確定重疊誤差的方法，所述方法包括步驟：

-測量包括第一結構和第二結構的第一目標的散射性質；

-使用所測量的散射性質重構第一結構的模型，所述模型包括對應所述第一結構的第一模型結構；

-通過將第一模型結構與中間模型結構重疊來修正所述模型；

-計算被修正的模型中的第一模型結構與中間模型結構之間的第一缺陷引入的重疊誤差；

-通過用對應第二結構的第二模型結構替換中間模型結構來進一步修正所述模型；

-計算第一模型結構和第二模型結構之間的第二缺陷引入的重疊誤差，第一和第二模型結構在進一步被修正的模型中相對于彼此被重疊；和

-使用所計算的第二缺陷引入的重疊誤差確定第二目標中的重疊誤差。

2.如權利要求1所述的方法，其中測量第一目標的散射性質的步驟包括：在形成第二結構之前測量第一目標的散射性質，和使用重構第一結構的模型的步驟中的最終所測量的散射性質；以及隨后在形成第二結構之后測量第一目標的散射性質，和使用在通過用第二模型結構替換中間模型結構的所述模型的進一步修正中的最終所測量的散射性質。

3.如權利要求1或2所述的方法，其中所述中間模型結構不展示任何缺陷。

4.如權利要求1或2或3所述的方法，其中修正所述模型的步驟包括下列步驟：

-限定第一模型結構的位置參數以補償所述缺陷；和

-使用所限定的位置參數相對于彼此定位第一和中間模型結構。

5.如前述權利要求中任一項所述的方法，其中通過用第二模型結構替換中間模型結構來進一步修正所述模型的步驟包括相對于第一模型結構將第二模型結構放置在與中間模型相同的位置中。

6.如前述權利要求中任一項所述的方法，其中所述第一和中間模型結構相對于彼此以零偏離重疊。

7.如權利要求1-5中任一項所述的方法，其中所述第一和中間模型結構相對于彼此以預定的非零偏離重疊，對多個不同的非零偏離重復所述方法；和其中使用所計算的第二缺陷引入的重疊誤差確定第二目標中的重疊誤差的步驟包括選擇具有與第二目標的所測量的重疊誤差最接近對應的對應性的、在預定偏離的情況下獲得的計算的第二缺陷引入的重疊誤差。

8.如前述權利要求中任一項所述的方法，其中計算第一模型結構與第二模型結構之間的第二缺陷引入的重疊誤差的步驟包括計算描述在第二結構中的缺陷的一個或多個參數。

9.如權利要求8所述的方法，其中計算描述在第二結構中的缺陷的一個或多個參數(p_i)的步驟包括最小化均方誤差(ε)，所述均方誤差限定為：

ϵ=||ΔOVm-ΔOVL1-Σi=1MpiSi,L2||2]]>

其中ΔOV_m是不同散射性質測量方案之間的重疊測量中所測量的變化的和，ΔOV_L1是由第一結構中的缺陷導致的不同散射性質測量方案之間的重疊計算中的變化的和，以及S_i，L2是由于參數p_i、不同散射性質測量方案之間的重疊計算中的變化的敏感性。