[發(fā)明專(zhuān)利]透明導(dǎo)電性薄膜及其制造方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201210307081.0
• 申請(qǐng)日: 2012-08-24
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN102956287B
• 公開(kāi)（公告）日: 2018-06-12
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 山崎由佳;梨木智剛;菅原英男
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 日東電工株式會(huì)社
• 主分類(lèi)號(hào): H01B5/14
• 分類(lèi)號(hào): H01B5/14;H01B13/00
• 代理公司: 北京林達(dá)劉知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇;李茂家

1.一種透明導(dǎo)電性薄膜，其具有撓性透明基材和形成在所述撓性透明基材的一個(gè)面的由結(jié)晶性導(dǎo)電性金屬氧化物形成的結(jié)晶性的透明導(dǎo)體層，

所述透明導(dǎo)體層的厚度為10～30nm，

所述撓性透明基材的厚度為80μm以下，

將具有所述結(jié)晶性的透明導(dǎo)體層的該透明導(dǎo)電性薄膜在140℃下加熱30分鐘時(shí)的尺寸變化率H₁與將通過(guò)蝕刻去除了結(jié)晶性的透明導(dǎo)體層的該透明導(dǎo)電性薄膜在140℃下加熱30分鐘時(shí)的尺寸變化率H₂之差H₁-H₂為-0.043％～0.02％，

所述透明導(dǎo)體層是通過(guò)濺射法形成的。

2.一種透明導(dǎo)電性薄膜，其具有撓性透明基材和形成在所述撓性透明基材的一個(gè)面的由結(jié)晶性導(dǎo)電性金屬氧化物形成的結(jié)晶性的透明導(dǎo)體層，

所述透明導(dǎo)體層進(jìn)行了圖案化，該透明導(dǎo)電性薄膜包括在撓性透明基材上具有結(jié)晶性的透明導(dǎo)體層的圖案形成部和在撓性透明基材上不具有結(jié)晶性的透明導(dǎo)體層的圖案開(kāi)口部，

所述撓性透明基材的厚度為80μm以下，

所述透明導(dǎo)體層的厚度為10～30nm，

將該透明導(dǎo)電性薄膜在140℃下加熱30分鐘時(shí)的、所述圖案形成部的尺寸變化率h₁與所述圖案開(kāi)口部的尺寸變化率h₂之差h₁-h₂為-0.043％～0.02％，

所述透明導(dǎo)體層是通過(guò)濺射法形成的。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的透明導(dǎo)電性薄膜，其中，所述透明導(dǎo)體層由結(jié)晶性的摻錫氧化銦形成。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的透明導(dǎo)電性薄膜，其中，所述透明導(dǎo)體層由結(jié)晶性的摻錫氧化銦形成。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的透明導(dǎo)電性薄膜，其中，所述撓性透明基材具有透明薄膜基材和在形成有透明導(dǎo)體層的一側(cè)的面上形成的至少1層底涂層。

6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的透明導(dǎo)電性薄膜，其中，所述撓性透明基材具有透明薄膜基材和在形成有透明導(dǎo)體層的一側(cè)的面上形成的至少1層底涂層。

7.一種透明導(dǎo)電性薄膜的制造方法，其是制造權(quán)利要求1～6中任一項(xiàng)所述的透明導(dǎo)電性薄膜的方法，該方法包括下述工序：

基材準(zhǔn)備工序，準(zhǔn)備撓性透明基材；

成膜工序，在撓性透明基材上形成由非晶的導(dǎo)電性金屬氧化物形成的非晶透明導(dǎo)體層；以及

熱處理工序，在圖案化工序之前，對(duì)所述非晶透明導(dǎo)體層進(jìn)行加熱，轉(zhuǎn)化成結(jié)晶性的透明導(dǎo)體層，

所述熱處理工序中的加熱溫度為70℃～140℃。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的透明導(dǎo)電性薄膜的制造方法，其中，所述熱處理工序中的尺寸變化率為0％～-0.34％。

9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的透明導(dǎo)電性薄膜的制造方法，其中，還包括圖案化工序，該工序通過(guò)蝕刻去除一部分所述結(jié)晶性的透明導(dǎo)體層，圖案化為在撓性透明基材上具有透明導(dǎo)體層的圖案形成部和在撓性透明基材上不具有透明導(dǎo)體層的圖案開(kāi)口部。