[發明專利]一種在二氧化鈦有機無機光敏復合薄膜上制備凹透鏡陣列結構的方法

有效

• 申請號: 201210305555.8
• 申請日: 2012-08-24
• 公開（公告）號: CN102799066A
• 公開（公告）日: 2012-11-28
• 發明（設計）人: 闕文修;張雪花
• 申請（專利權）人: 西安交通大學
• 主分類號: G03F7/00
• 分類號: G03F7/00;G03F7/20;G02B3/00
• 代理公司: 西安通大專利代理有限責任公司 61200
• 代理人: 陸萬壽

1.一種在二氧化鈦有機無機光敏復合薄膜上制備凹透鏡陣列結構的方法，其特征在于：

1）首先，利用JKG-2A型光刻機通過圓形陣列掩模板在AZ5214-E型光刻膠上采用接觸式曝光60s，然后在AZ-Developer型號的顯影液中顯影60s得到圓柱體陣列結構，然后將所得到的圓柱體陣列結構在熱板上160℃熱回流30分鐘，得到具有凸透鏡陣列結構的光刻膠母版；

2）將型號為Sylgard184的PDMS預聚物和固化劑按10∶1的重量比混合攪勻，并將其放入真空干燥箱中直至氣泡完全去除，然后，將其澆注在具有凸透鏡陣列結構的光刻膠母版上并烘干固化，最后將固化完全的PDMS從凸透鏡陣列結構的光刻膠母版上剝離，得到具有凹透鏡陣列結構的PDMS軟模板；

3）將2）中去除完氣泡的PDMS預聚物和固化劑的混合物澆注到具有凹透鏡陣列結構的PDMS軟模板上，并烘干固化，最后將固化完全的PDMS剝離，得到具有凸透鏡陣列結構的PDMS軟模板；

4）利用旋涂層工藝，以每分鐘1000轉的轉速在載玻片上制備具有紫外光敏特性的二氧化鈦有機無機復合薄膜，并以此作為壓印層，將具有凸透鏡陣列結構的PDMS軟模板壓印到復合薄膜上，然后將其置于紫外燈正下方曝光固化，最后將固化完全的光敏復合薄膜從將具有凸透鏡陣列結構的PDMS軟模板剝離，在烘箱中干燥，從而在二氧化鈦有機無機光敏復合薄膜上制備得到了凹透鏡陣列結構。

2.根據權利要求1所述的在二氧化鈦有機無機光敏復合薄膜上制備凹透鏡陣列結構的方法，其特征在于：所述步驟4）紫外燈的波長為365nm，電流為15mW/cm²。