[發明專利]一種手機和真空鍍膜制作方法

有效

• 申請號: 201210304539.7
• 申請日: 2012-08-24
• 公開（公告）號: CN102816993A
• 公開（公告）日: 2012-12-12
• 發明（設計）人: 小林千秋;中村段次;廖肇敏;黃錫鋒
• 申請（專利權）人: 捷榮模具工業（東莞）有限公司
• 主分類號: C23C14/08
• 分類號: C23C14/08;H04M1/02
• 代理公司: 深圳市君勝知識產權代理事務所 44268
• 代理人: 王永文;劉文求

1.一種真空鍍膜制作方法，其特征在于，包括以下步驟：

A、利用真空蒸鍍設備在塑膠基材的產品外殼表面蒸鍍一層二氧化硅鍍膜；

B、利用所述真空蒸鍍設備在所述二氧化硅鍍膜上蒸鍍一層二氧化鈦鍍膜。

2.根據權利要求1所述的真空鍍膜制作方法，其特征在于：在所述步驟A之前，先將所述真空蒸鍍設備的爐內環境抽至真空度為????????????????????????????????????????????????的真空。

3.根據權利要求1所述的真空鍍膜制作方法，其特征在于：在所述步驟A中，將氧化硅的鍍膜材料放置在第一電極上，通入氧氣，所述第一電極在的氧氣壓力環境下通電升溫至1700~2000℃。

4.根據權利要求1所述的真空鍍膜制作方法，其特征在于：在所述步驟B中，將五氧化三鈦的鍍膜材料放置第二電極上，通入氧氣，所述第二電極在的氧氣壓力環境下通電升溫至2000~2200℃。

5.一種手機，包括塑膠基材的手機外殼，其特征在于：所述手機外殼的表面設置有一層二氧化硅鍍膜和一層二氧化鈦鍍膜，所述二氧化鈦鍍膜位于所述二氧化硅鍍膜的外層。

6.根據權利要求5所述的手機，其特征在于：所述二氧化硅鍍膜與所述手機外殼的塑料基材之間設置有一層UV下涂層，所述UV下涂層由5～20%的聚氨酯丙烯酸樹脂、10～30%的甲基異丁基酮、5～15%的丙二醇甲醚、10～30%的醋酸乙酯、15～25%的醋酸丁酯、10～20%的甲苯、5～20%的活性單體和1～10%的光引發劑組成。

7.根據權利要求5所述的手機，其特征在于：在所述二氧化鈦鍍膜表面設置有一層中涂層，所述中涂層由10～15%的聚氨酯丙烯酸樹脂、20～30%的甲基異丁酮、15～20%的丙烯酸酯樹脂、15～20%的醋酸丁酯、15～20%的丁酮、1～2%的光引發劑和3～5%的活性單體組成。

8.根據權利要求7所述的手機，其特征在于：在所述中涂層表面設置有一層UV上涂層，所述UV上涂層由10～15%的聚氨酯丙烯酸樹脂、10～15%的甲基異丁酮、15～20%的丙烯酸酯樹脂、15～20%的丁酮、15～20%的醋酸丁酯、10～15%的甲苯、1～2%的光引發劑和3～5%的活性單體組成。

9.根據權利要求6至8中任一項所述的手機，其特征在于：所述活性單體采用硅烷偶聯劑制作，所述硅烷偶聯劑的通用式為，其中，n?=?0～3，X表示包括氯基、甲氧基、乙氧基、甲氧基乙氧基或乙酰氧基在內的可水解基團，Y表示包括乙烯基、氨基、環氧基、甲基丙烯酰氧基、巰基或脲基在內能與樹脂起反應的有機官能團。