[發明專利]基于脈管制冷機的面源黑體輻射源

有效

• 申請號: 201210300695.6
• 申請日: 2012-08-23
• 公開（公告）號: CN102809435A
• 公開（公告）日: 2012-12-05
• 發明（設計）人: 戴景民;王強;張清森
• 申請（專利權）人: 哈爾濱工業大學
• 主分類號: G01J5/00
• 分類號: G01J5/00
• 代理公司: 哈爾濱市松花江專利商標事務所 23109
• 代理人: 高媛

1.基于脈管制冷機的面源黑體輻射源，所述面源黑體輻射源包括脈管制冷機(1)和黑體(5)，其特征在于：所述面源黑體輻射源還包括加熱膜(4)、均溫盤(3)、真空室(2)、真空裝置(7)、支撐件(8)和多個溫度傳感器(6)，所述黑體(5)為圓盤形，真空室(2)內由上至下依次設置有黑體(5)、加熱膜(4)和均溫盤(3)，且黑體(5)和均溫盤(3)同軸設置，加熱膜(4)貼靠在黑體(5)的與均溫盤(3)相鄰的表面上，所述脈管制冷機(1)的冷頭(1-1)的端部穿過真空室(2)的底板與均溫盤(3)連接，真空室(2)的底板的上表面連接有支撐件(8)，黑體(5)和均溫盤(3)通過支撐件(8)支撐，黑體(5)的外圓周側壁上設置有多個溫度傳感器(6)，真空室(2)與真空裝置(7)可拆卸連接。

2.根據權利要求1所述的基于脈管制冷機的面源黑體輻射源，其特征在于：黑體(5)的上表面具有多圈凹槽(5-1)。

3.根據權利要求2所述的基于脈管制冷機的面源黑體輻射源，其特征在于：所述多圈凹槽(5-1)均為同心的環狀V形槽。

4.根據權利要求1所述的基于脈管制冷機的面源黑體輻射源，其特征在于：所述溫度傳感器(6)為鉑熱電阻溫度傳感器。

5.根據權利要求1或4所述的基于脈管制冷機的面源黑體輻射源，其特征在于：所述溫度傳感器(6)的數量為2個或4個。

6.根據權利要求1或2所述的基于脈管制冷機的面源黑體輻射源，其特征在于：所述支撐件(8)為由環氧玻璃鋼制成的支撐件。

7.根據權利要求1、2、3或4所述的基于脈管制冷機的面源黑體輻射源，其特征在于：所述黑體(5)的直徑(D)為100mm～106mm。

8.根據權利要求1、2、3或4所述的基于脈管制冷機的面源黑體輻射源，其特征在于：所述加熱膜(4)為由金屬薄膜加熱材料、無機薄膜加熱材料或有機薄膜加熱材料制成的加熱膜。

9.根據權利要求1、2、3或4所述的基于脈管制冷機的面源黑體輻射源，其特征在于：所述面源黑體輻射源還包括真空計(9)，真空室(2)的側壁設置有真空計接口(2-1)，所述真空計(9)插裝在真空室(2)的側壁的真空計接口(2-1)處。