[發(fā)明專利]一種在線檢測接觸孔的方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201210299848.X
• 申請日: 2012-08-21
• 公開（公告）號(hào): CN102832152A
• 公開（公告）日: 2012-12-19
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 李健;杜哲;牟亮偉
• 申請（專利權(quán)）人: 無錫華潤上華科技有限公司
• 主分類號(hào): H01L21/66
• 分類號(hào): H01L21/66
• 代理公司: 北京品源專利代理有限公司 11332
• 代理人: 馬曉亞

1.一種在線檢測接觸孔的方法，所述方法包括：

進(jìn)行自對(duì)準(zhǔn)接觸孔刻蝕；

確定晶圓檢測區(qū)域，所述檢測區(qū)域?yàn)榭赡艹霈F(xiàn)接觸孔形狀異常缺陷的區(qū)域；

關(guān)鍵尺寸掃描電子顯微鏡（CD-SEM）對(duì)所述檢測區(qū)域中的接觸孔俯視圖像的內(nèi)圈直徑進(jìn)行測量；

如果測量得到的內(nèi)圈直徑不在預(yù)設(shè)范圍內(nèi)，則CD-SEM提示存在接觸孔形狀異常缺陷。

2.如權(quán)利要求1所述的在線檢測接觸孔的方法，其特征在于，所述內(nèi)圈直徑為所述接觸孔底部邊緣輪廓的直徑。

3.如權(quán)利要求1所述的在線檢測接觸孔的方法，其特征在于，所述測量得到的內(nèi)圈直徑不在預(yù)設(shè)范圍內(nèi)為所述內(nèi)圈直徑小于預(yù)設(shè)閾值。

4.如權(quán)利要求1所述的在線檢測接觸孔的方法，其特征在于，所述測量得到的內(nèi)圈直徑不在預(yù)設(shè)范圍內(nèi)為所述內(nèi)圈直徑小于下限閾值或大于上限閾值。

5.如權(quán)利要求1所述的在線檢測接觸孔的方法，其特征在于，所述檢測區(qū)域?yàn)槿姹欢嗑Ч璋鼑膮^(qū)域。

6.如權(quán)利要求1所述的在線檢測接觸孔的方法，其特征在于，所述方法還包括在測量得到的內(nèi)圈直徑不在預(yù)設(shè)閾值范圍內(nèi)時(shí)，CD-SEM輸出一個(gè)控制信號(hào)控制刻蝕設(shè)備停止進(jìn)行自對(duì)準(zhǔn)接觸孔刻蝕。

7.如權(quán)利要求3所述的在線檢測接觸孔的方法，其特征在于，對(duì)于0.13微米閃存產(chǎn)品的自對(duì)準(zhǔn)接觸孔刻蝕工藝，所述預(yù)設(shè)閾值為60納米。

8.如權(quán)利要求4所述的在線檢測接觸孔的方法，其特征在于，對(duì)于0.13微米閃存產(chǎn)品的自對(duì)準(zhǔn)接觸孔刻蝕工藝，所述上限閾值為180納米，所述下限閾值為60納米。