[發(fā)明專(zhuān)利]配向膜的涂布方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201210299010.0 | 申請(qǐng)日: | 2012-08-22 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN102809851A | 公開(kāi)(公告)日: | 2012-12-05 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 朱美娜 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 深圳市華星光電技術(shù)有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | G02F1/1337 | 分類(lèi)號(hào): | G02F1/1337 |
| 代理公司: | 深圳翼盛智成知識(shí)產(chǎn)權(quán)事務(wù)所(普通合伙) 44300 | 代理人: | 歐陽(yáng)啟明 |
| 地址: | 518132 廣東*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 方法 | ||
【技術(shù)領(lǐng)域】
本發(fā)明涉及顯示面板生產(chǎn)技術(shù)領(lǐng)域,特別是涉及一種配向膜的涂布方法。
【背景技術(shù)】
隨著液晶顯示技術(shù)的不斷發(fā)展,對(duì)液晶顯示設(shè)備質(zhì)量的要求越來(lái)越高。
請(qǐng)參閱圖1,圖1為現(xiàn)有技術(shù)中薄膜場(chǎng)效應(yīng)晶體管(Thin?Film?Transistor,TFT)基板的俯視結(jié)構(gòu)示意圖。
所述TFT基板包括玻璃基底10,所述玻璃基底10形成有框膠涂布區(qū)11和配向液涂布區(qū)12,所述配向液涂布區(qū)12覆蓋顯示區(qū)(圖未繪出)。所述框膠涂布區(qū)11用于涂布框膠,而所述配向液涂布區(qū)12用于涂布配向液形成配向膜(PI)。
現(xiàn)有技術(shù)基本是通過(guò)配向膜噴印技術(shù)(inkjet)印刷形成所述配向膜,首先在所述配向液涂布區(qū)12噴注配向液,之后將配向液固化形成配向膜。但是由于在噴注配向液后,配向液的液滴受其重力影響會(huì)擴(kuò)散至所述配向液涂布區(qū)12之外,譬如擴(kuò)散至所述框膠涂布區(qū)11,從而導(dǎo)致形成的配向膜延伸至所述配向液涂布區(qū)12之外,譬如配向膜的邊界呈波浪狀或者延伸至所述框膠涂布區(qū)11,進(jìn)而影響所述框膠涂布區(qū)11的框膠的粘著力,而且會(huì)影響顯示區(qū)的顯示效果。
綜上,在所述配向液涂布區(qū)12噴注配向液形成配向膜的過(guò)程中,由于配向液的擴(kuò)散作用,影響配向膜的精度,尤其是配向膜邊界的精度,進(jìn)而影響到與所述配向液涂布區(qū)相鄰的其它區(qū)域。
【發(fā)明內(nèi)容】
本發(fā)明的一個(gè)目的在于提供一種配向膜的涂布方法,旨在解決現(xiàn)有技術(shù)中在噴注配向液形成配向膜的過(guò)程中,由于配向液的擴(kuò)散作用,影響配向膜的精度,尤其是配向膜邊界的精度,進(jìn)而影響到與所述配向液涂布區(qū)相鄰的其它區(qū)域的技術(shù)問(wèn)題。
為解決上述技術(shù)問(wèn)題,本發(fā)明構(gòu)造了一種配向膜的涂布方法,包括以下步驟:
提供一基板,具有一基底,在所述基底上形成有一配向液涂布區(qū);
在所述配向液涂布區(qū)的周?chē)坎夹纬梢蛔钃踅Y(jié)構(gòu);
在所述配向液涂布區(qū)涂布配向液,其中所述阻擋結(jié)構(gòu)阻擋所述配向液擴(kuò)散至所述配向液涂布區(qū)之外;
將所述配向液固化形成一配向膜。
在本發(fā)明一實(shí)施例中:所述阻擋結(jié)構(gòu)由可硬化成型的高分子材料形成。
在本發(fā)明一實(shí)施例中:所述高分子材料為單一高分子材料或混合高分子材料。
在本發(fā)明一實(shí)施例中:所述高分子材料為α-氨基丙烯酸乙酯。
在本發(fā)明一實(shí)施例中:在所述基底上還形成有一框膠涂布區(qū),所述框膠涂布區(qū)環(huán)繞所述配向液涂布區(qū),并在所述框膠涂布區(qū)與所述配向液涂布區(qū)之間形成有一間隔;所述阻擋結(jié)構(gòu)形成于所述配向液涂布區(qū)和所述框膠涂布區(qū)的間隔內(nèi),并且所述阻擋結(jié)構(gòu)緊密地圍繞著所述配向液涂布區(qū)。
在本發(fā)明一實(shí)施例中:將所述配向液固化形成配向膜的步驟之后,所述方法還包括以下步驟:
將所述阻擋結(jié)構(gòu)移除。
在本發(fā)明一實(shí)施例中:將所述阻擋結(jié)構(gòu)移除的步驟具體包括:
對(duì)所述阻擋結(jié)構(gòu)進(jìn)行加熱,以使得所述阻擋結(jié)構(gòu)熔化并移除。
在本發(fā)明一實(shí)施例中:將所述阻擋結(jié)構(gòu)移除的步驟具體包括:
在所述阻擋結(jié)構(gòu)上噴灑溶劑,以使得所述阻擋結(jié)構(gòu)溶解于所述溶劑并移除。
在本發(fā)明一實(shí)施例中:所述阻擋結(jié)構(gòu)相對(duì)所述基底凸起,所述阻擋結(jié)構(gòu)的橫截面垂直于所述阻擋結(jié)構(gòu)的長(zhǎng)度方向。
在本發(fā)明一實(shí)施例中:所述阻擋結(jié)構(gòu)的橫截面為三角形或者為方形。
相對(duì)于現(xiàn)有技術(shù),本發(fā)明提供的配向膜的涂布方法是首先在基底的配向液涂布區(qū)的周?chē)坎夹纬梢蛔钃踅Y(jié)構(gòu),之后在所述配向液涂布區(qū)涂布配向液,其中所述阻擋結(jié)構(gòu)阻擋所述配向液擴(kuò)散出所述配向液涂布區(qū),最后將所述配向液固化形成配向膜。顯然,本發(fā)明可通過(guò)阻擋結(jié)構(gòu)阻止配向液擴(kuò)散至所述配向液涂布區(qū)之外,進(jìn)而控制配向膜的位置精度,尤其是控制配向膜邊界的精度,保證形成的配向膜不會(huì)對(duì)其它區(qū)域造成影響。
為讓本發(fā)明的上述內(nèi)容能更明顯易懂,下文特舉優(yōu)選實(shí)施例,并配合所附圖式,作詳細(xì)說(shuō)明如下:
【附圖說(shuō)明】
圖1為現(xiàn)有技術(shù)中TFT基板的俯視結(jié)構(gòu)示意圖;
圖2為本發(fā)明配向膜的涂布方法的較佳實(shí)施例的流程示意圖;
圖3為本發(fā)明配向膜的涂布方法中在涂布配向膜之前所提供的TFT基板結(jié)構(gòu)示意圖;
圖4為本發(fā)明配向膜的涂布方法中在TFT基板上形成所述阻擋結(jié)構(gòu)的示意圖;
圖5為本發(fā)明配向膜的涂布方法中所形成的阻擋結(jié)構(gòu)的一較佳實(shí)施例橫截面示意圖;
圖6為本發(fā)明配向膜的涂布方法中所形成的阻擋結(jié)構(gòu)的另一較佳實(shí)施例橫截面示意圖;
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G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過(guò)改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來(lái)修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來(lái)自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對(duì)強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
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