[發(fā)明專利]絕緣金屬膜的鍍膜方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201210296707.2
• 申請(qǐng)日: 2012-08-20
• 公開（公告）號(hào): CN102808151A
• 公開（公告）日: 2012-12-05
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 潘曉勇;姚國(guó)紅;江平;劉勇;李雙月;蒲春華
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 四川長(zhǎng)虹電器股份有限公司
• 主分類號(hào): C23C14/20
• 分類號(hào): C23C14/20;C23C14/58
• 代理公司: 成都虹橋?qū)＠聞?wù)所 51124
• 代理人: 劉世平

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及鍍膜工藝，具體的講是絕緣金屬膜的鍍膜方法。

背景技術(shù)

2011年以來(lái)家電行業(yè)金屬裝飾應(yīng)用越來(lái)越流行和普及。2012年初的CES電子展中，金屬化成了很多家電的一個(gè)亮點(diǎn)，三星、LG等多款高端電視機(jī)均采用了超窄金屬邊框和金屬底座的設(shè)計(jì)。同時(shí)隨著人們生活水平日益提高，智能化也成為家電行業(yè)發(fā)展的又一大亮點(diǎn)。各個(gè)家電廠家相繼推出了智能家電，如長(zhǎng)虹3D51A9000i，TCLL42E5200-3D等型號(hào)的智能電視更是采用了內(nèi)置WIFI天線，具備無(wú)線通訊傳輸功能，可實(shí)現(xiàn)無(wú)線上網(wǎng)。

在此趨勢(shì)下，隨著家電行業(yè)的發(fā)展，將金屬化和具備無(wú)線通訊傳輸功能的智能化結(jié)合在一起的家電產(chǎn)品將成為一種新的潮流。然而導(dǎo)電金屬裝飾會(huì)屏蔽電磁波、干擾無(wú)線通訊傳輸，從而會(huì)影響智能家電的部分功能。因此，這些都對(duì)家電的有金屬質(zhì)感的面板等部分提出了不導(dǎo)電的要求。

目前家電產(chǎn)品的金屬化裝飾工藝主要為金屬件和電鍍工藝，但這兩種方式均有很大的局限性：兩種金屬化裝飾方式均會(huì)導(dǎo)電，對(duì)電磁波有很強(qiáng)的屏蔽作用，嚴(yán)重影響無(wú)線通訊傳輸功能。

發(fā)明內(nèi)容

針對(duì)上述的問(wèn)題，本發(fā)明提供了一種絕緣金屬膜的鍍膜方法，使家電部件表面具有金屬質(zhì)感的同時(shí)，不會(huì)對(duì)電磁波等通訊信號(hào)有屏蔽效應(yīng)，使家電能順利的進(jìn)行無(wú)線通信。

本發(fā)明絕緣金屬膜的鍍膜方法，包括：將需要鍍膜的基材和金屬鍍膜材料放置到真空鍍膜設(shè)備內(nèi)，在真空鍍膜設(shè)備內(nèi)通入惰性氣體，金屬鍍膜材料在惰性氣體或電阻絲加熱后熔融蒸發(fā)的作用下產(chǎn)生出金屬原子或金屬離子，所述的金屬原子或金屬離子沉積到基材表面形成絕緣且有金屬光澤的金屬膜（有些金屬可以形成絕緣膜，但是卻是透明無(wú)色的、沒(méi)有金屬光澤），所述金屬膜的厚度為納米數(shù)量級(jí)。金屬膜是由原子或離子，或是尺寸在納米級(jí)別的原子團(tuán)構(gòu)成的。原子團(tuán)指的是許多原子作為一個(gè)集團(tuán)參加反應(yīng)，它不能單獨(dú)存在，這樣的原子集團(tuán)叫做原子團(tuán)。當(dāng)組成金屬薄膜的粒子或者金屬膜厚度達(dá)到納米級(jí)別時(shí)，會(huì)產(chǎn)生納米尺寸效應(yīng)，此時(shí)薄膜的電學(xué)性質(zhì)會(huì)發(fā)生變化，金屬?gòu)膶?dǎo)體向絕緣體轉(zhuǎn)變，從而使整個(gè)金屬膜絕緣。其中金屬鍍膜材料一般分為兩種，金屬靶材和金屬絲。在濺射真空鍍膜設(shè)備中使用的金屬鍍膜材料為金屬靶材，蒸發(fā)真空鍍膜設(shè)備和離子真空鍍膜設(shè)備中使用的金屬鍍膜材料為金屬絲。當(dāng)使用濺射真空鍍膜設(shè)備時(shí)，由金屬靶材的鍍膜材料在惰性氣體的作用下濺射出金屬原子，金屬原子沉積到基材表面形成金屬薄膜；當(dāng)選用蒸發(fā)真空鍍膜設(shè)備時(shí)，則是使用電阻絲加熱金屬鍍膜材料熔融蒸發(fā)產(chǎn)生金屬原子，金屬原子沉積到基材表面形成金屬薄膜；當(dāng)選用離子真空鍍膜設(shè)備時(shí)，是由電阻絲加熱金屬鍍膜材料熔融蒸發(fā)產(chǎn)生金屬原子，部分金屬原子在惰性氣體的作用下電離產(chǎn)生金屬正離子，金屬正離子和未電離的金屬原子沉積到基材表面形成金屬薄膜。

基材可以是PC（聚碳酸酯）、ABS（丙烯腈-苯乙烯-丁二烯共聚物）、PS（聚苯乙烯）、HIPS（耐沖擊性聚苯乙烯）、PET（聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯）、PMMA（亞克力）或鋼化玻璃等。鍍膜完成后對(duì)鍍膜的基材進(jìn)行電阻率和RF（無(wú)線射頻）測(cè)試，以確認(rèn)基材表面是否達(dá)到絕緣，并且不會(huì)影響無(wú)線信號(hào)的通信。

本發(fā)明的鍍膜方法和傳統(tǒng)的鍍膜方法主要區(qū)別在于：1、對(duì)鍍膜材料的選擇有嚴(yán)格要求，主要材料為低熔點(diǎn)金屬；2、膜層厚度必須在納米級(jí)別，屬于納米薄膜。

進(jìn)一步的，所述金屬鍍膜材料的熔點(diǎn)為100℃～1500℃。低熔點(diǎn)的金屬鍍膜材料更有利于真空鍍膜工藝的實(shí)施，能夠更容易與惰性氣體或在電阻絲加熱下熔融蒸發(fā)產(chǎn)生出金屬原子。

優(yōu)選的，在將基材放置到真空鍍膜設(shè)備內(nèi)之前，將基材表面進(jìn)行平坦化處理，使基材表面更具美觀性。

具體的，所述的平坦化處理為在基材表面涂覆高分子樹脂。

優(yōu)選的，在金屬膜外設(shè)有保護(hù)層，便于對(duì)金屬膜進(jìn)行保護(hù)，保護(hù)層的厚度為200～300nm。

具體的，所述的保護(hù)層為噴涂的丙烯酸類紫外涂料，或氧化物的鍍層。

優(yōu)選的，所述金屬膜的厚度＜100nm。

優(yōu)選的，所述的金屬鍍膜材料為Sn、In或In-Sn合金，也可以是其它適合的金屬。

優(yōu)選的，所述的真空鍍膜設(shè)備為蒸發(fā)真空鍍膜設(shè)備、濺射真空鍍膜設(shè)備或離子真空鍍膜設(shè)備，也可以是其它適用的真空鍍膜設(shè)備。

測(cè)試得知，經(jīng)本發(fā)明的鍍膜方法鍍膜的基材表面的電阻率能夠達(dá)到≥109Ω.cm，符合絕緣要求，經(jīng)網(wǎng)絡(luò)分析儀測(cè)試，基材表面對(duì)無(wú)線信號(hào)沒(méi)有屏蔽影響，并且比傳統(tǒng)金屬鍍膜工藝成本更低，膜層更輕薄，也更環(huán)保。