[發明專利]一種氣體-納米粒子兩相均勻流體生成裝置

有效

• 申請號: 201210296536.3
• 申請日: 2012-08-20
• 公開（公告）號: CN102794122A
• 公開（公告）日: 2012-11-28
• 發明（設計）人: 刁東風;范紅艷;楊志儒
• 申請（專利權）人: 西安交通大學
• 主分類號: B01F5/06
• 分類號: B01F5/06;B01F3/06
• 代理公司: 西安通大專利代理有限責任公司 61200
• 代理人: 陸萬壽

1.一種氣體-納米粒子兩相均勻流體生成裝置，其特征在于，包括壓縮氣體流動控制腔，在其腔體內設有納米粒子振動式定量給料裝置；壓縮氣體在壓縮氣體流動控制腔內經過先擴散再收縮的過程，納米粒子振動式定量給料裝置供給的納米粒子被流過的氣流帶走，形成氣體-納米粒子兩相均勻流體流出；

壓縮氣體流動控制腔包括密封連接的承壓錐筒（3）和承壓圓筒（11），承壓錐筒（3）的頂端設有上供氣管（1），承壓圓筒（11）的底端設有下供氣管（15）；

納米粒子振動式定量給料裝置包括料筒（10），料筒（10）的進口端設有錐形料筒蓋（4），出口端設有落料篩網（13）；料筒固定環（7）通過均勻分布的若干個彈簧機構（9）與料筒（10）相連接；激振機構（12）與料筒（10）固定連接，激振機構（12）采用偏心塊旋轉產生振動帶動料筒（10）振動；

承壓錐筒（3）和承壓圓筒（11）的連接處設有環形臺階（1101），料筒（10）通過料筒固定環（7）與環形臺階（1101）配合連接安裝在壓縮氣體流動控制腔內。

2.如權利要求1所述的氣體-納米粒子兩相均勻流體生成裝置，其特征在于，所述的承壓錐筒（3）的形狀為圓錐形，其上下兩端分別設有第一補強圈（301）和第二補強圈（302）；承壓圓筒（11）由圓柱形和與之相連接的圓錐形收縮段組成；

承壓錐筒（3）與承壓圓筒（11）的連接面分別設有用于密封連接的法蘭結構，環形臺階（1101）設置在承壓圓筒（11）的法蘭結構處。

3.如權利要求1或2所述的氣體-納米粒子兩相均勻流體生成裝置，其特征在于，上供氣管（1）通過上供氣接頭（2）與承壓錐筒（3）相連接，下供氣管（15）通過下供氣接頭（14）與承壓圓筒（11）相連接；

承壓錐筒（3）和承壓圓筒（11）通過多個緊固螺栓（5）和固定螺母（8）連接，其連接面之間用第一密封圈（601）和第二密封圈（602）進行密封，第一密封圈（601）的直徑大于第二密封圈（602）的直徑。

4.如權利要求3所述的氣體-納米粒子兩相均勻流體生成裝置，其特征在于，上供氣管（1）插入上供氣接頭（2）內，上供氣接頭（2）與承壓錐筒（3）通過螺紋連接；下供氣管（15）插入下供氣接頭（14）內，下供氣接頭（14）與承壓圓筒（11）通過螺紋連接；壓縮氣體從上供氣管（1）流入，流過腔體，從下供氣管（15）流出。

5.如權利要求1或4所述的氣體-納米粒子兩相均勻流體生成裝置，其特征在于，料筒（10）的上部為錐形筒，下部由兩個直徑不同的圓筒組成；錐形料筒蓋（4）與料筒（10）的連接處設在料筒（10）的上部錐形筒約三分之一高處，錐形料筒蓋（4）通過筒蓋環形臺階（401）與料筒（10）配合連接；落料篩網（13）的網面呈錐形；

當料筒（10）內的納米粒子從落料篩網（13）落下后，被流過的氣流帶走，并在承壓圓筒（11）底端與氣體混合均勻，形成的氣體-納米粒子兩相均勻流體沿著下供氣管（15）流出。

6.如權利要求1所述的氣體-納米粒子兩相均勻流體生成裝置，其特征在于，激振機構（12）通過相互配合的內凹圓弧面（1201）與料筒的圓柱面（1001）的粘結而與料筒（10）固定連接；

激振機構（12）包括底座（1204），底座（1204）上設有電機（1209），電機（1209）上設有連接軸（1207），偏心塊（1206）安裝在連接軸（1207）上并通過固定螺釘（1205）固定連接；電機（1209）的軸向與料筒（10）的軸向呈45°夾角；

落料篩網（13）通過網箍（1301）固定在料筒（10）的出口端上，網面（1302）通過用螺釘（1304）和螺母（1305）固定在網箍（1301）上。

7.如權利要求6所述的氣體-納米粒子兩相均勻流體生成裝置，其特征在于，底座（1204）的一面為內凹圓弧面（1201），另一面為帶有兩個對稱凸臺的與電機（1209）連接的平面，每個凸臺上設有螺紋孔，內凹圓弧面（1201）的軸線與兩個凸臺的對稱線呈45°夾角；

電機（1209）上設有伸出的電線連接頭（1202），與電壓可調的電源相連接；電機（1209）通過固定鈑金件（1208）安裝在底座上（1204），用電機固定螺釘（1203）緊固。