[發(fā)明專(zhuān)利]微針裝置和微針施用設(shè)備

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201210292484.2
• 申請(qǐng)日: 2003-07-10
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN102872526A
• 公開(kāi)（公告）日: 2013-01-16
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 格雷厄姆·M·克萊克;麥克爾·D·德?tīng)柲獱?/a>;麥克爾·K·多姆勒澤;理查德·H·費(fèi)伯;杰伊·D·雅各布斯;賈米森·C·基斯特;弗蘭克·弗雷德里克森
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 3M創(chuàng)新有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): A61M37/00
• 分類(lèi)號(hào): A61M37/00;A61K9/00;A61K9/70
• 代理公司: 中原信達(dá)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11219
• 代理人: 梁曉廣;關(guān)兆輝

1.一種微針裝置，其包括：

包括第一主表面的襯底；和

從該襯底的第一主表面伸出的至少一根微針，該至少一根微針包括靠近該襯底的第一主表面的基底，其中該至少一根微針從該基底到遠(yuǎn)離該基底的實(shí)心平頭末端漸縮，以便使該至少一根微針包括截頭的錐形；

其中，該實(shí)心平頭末端在與該基底對(duì)齊的平面中測(cè)量的表面積為20平方微米或以上并且為250平方微米或以下。

2.根據(jù)權(quán)利要求1的裝置，其中，該至少一根微針具有在該第一主表面之上從基底到平頭末端測(cè)量的高度h，其中，該至少一根微針在與基底對(duì)齊并距離該基底0.98h處的平面中測(cè)量的截面面積為20平方微米或以上并小于該至少一根微針的基底面積。

3.根據(jù)權(quán)利要求2的裝置，其中，所述截面面積為該基底面積的25％或以下。

4.根據(jù)權(quán)利要求1-3中任一項(xiàng)的裝置，其中，該至少一根微針包括多個(gè)微針。

5.根據(jù)權(quán)利要求1-4中任一項(xiàng)的裝置，其中，該平頭末端的表面積為100平方微米或以下。

6.根據(jù)權(quán)利要求1-5中任一項(xiàng)的裝置，其中，該平頭末端的表面積為50平方微米或以下。

7.根據(jù)權(quán)利要求1-6中任一項(xiàng)的裝置，其中，該至少一根微針具有在該第一主表面之上的高度和最大基底尺寸，該高度和最大基底尺寸之比定義了縱橫比，其中該縱橫比為2:1或以上。

8.根據(jù)權(quán)利要求1-7中任一項(xiàng)的裝置，其中，該至少一根微針由一種或多種聚合物形成。