[發明專利]一種對錐鏡錐角的測量方法無效
| 申請號: | 201210292245.7 | 申請日: | 2012-08-16 |
| 公開(公告)號: | CN102818542A | 公開(公告)日: | 2012-12-12 |
| 發明(設計)人: | 陳強;李世杰;萬勇建;侯溪;張晶 | 申請(專利權)人: | 中國科學院光電技術研究所 |
| 主分類號: | G01B11/26 | 分類號: | G01B11/26 |
| 代理公司: | 中科專利商標代理有限責任公司 11021 | 代理人: | 梁愛榮 |
| 地址: | 610209 *** | 國省代碼: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 錐鏡錐角 測量方法 | ||
1.一種對錐鏡錐角的測量方法,其特征在于:利用測量裝置實現對錐鏡錐角的測量的步驟如下:
步驟S1:設置含有干涉儀、平面鏡頭、被測錐鏡、旋轉平臺、光學平臺和立方體的測量裝置,在干涉儀和被測錐鏡或立方體之間設有平面鏡頭,被測錐鏡的徑向面固定在旋轉平臺中心的位置上;
步驟S2:將平面鏡頭安裝在干涉儀上面,調整干涉儀,使經過平面鏡頭出射標準平行光,將立方體安裝在旋轉平臺上,旋轉平臺放置在光學平臺上,調整旋轉平臺與光學平臺的水平方向的傾斜位置和光學平臺的垂直方向的俯仰位置,使立方體的反射面的與平面鏡頭的平行光的光軸互相垂直,利用平面鏡頭的平行光的自準直反射,將干涉儀中的干涉條紋調為零條紋,此時旋轉平臺的旋轉軸與平行光的光軸處于互相垂直的位置;
步驟S3:移走立方體,將被測錐鏡的徑向面與旋轉平臺的上平面相互垂直放置,并將被測錐鏡固定在旋轉平臺的上平面上,轉動旋轉平臺,使被測錐鏡的第一母線與第一平行光光軸垂直,利用第一母線周圍區域內光的自準直反射光與干涉儀內部的參考光形成干涉條紋,根據干涉條紋,對旋轉平臺進行調整,使干涉條紋形成帶彎曲的零干涉條紋,選擇旋轉平臺上的角度值讀數,記錄旋轉平臺此時的角度值讀數為第一角度值讀數;
步驟S4:旋轉旋轉平臺,使被測錐鏡的第二母線與第二平行光光軸垂直,利用第二母線周圍區域內光的自準直反射光,與干涉儀內部的參考光形成干涉條紋,根據干涉條紋,對旋轉平臺進行調整,使干涉條紋形成帶彎曲的零干涉條紋,記錄旋轉平臺此時的第二角度讀數;
步驟S5:對旋轉平臺的第一角度讀數B1和第二角度讀數B2進行計算,得到旋轉平臺的旋轉角度B,B=|B2-B2|,其中B1為第一角度讀數、B2為第二角度讀數;
步驟S6:利用旋轉角度B與錐角為互為補角的關系,計算出被測錐鏡的錐角A,A=π-B。
2.如權利要求1所述對錐鏡錐角的測量方法,其特征在于:所述被測錐鏡是圓錐鏡、三角錐鏡、多棱錐鏡、錐臺鏡其中之一,或是其中幾個錐鏡的組合。
3.如權利要求2所述對錐鏡錐角的測量方法,其特征在于:所述三角形錐鏡用于自準直反射的區域為平面,在步驟S2和步驟S3中,需要調節三角形錐鏡的錐面與平行光光軸垂直,利用錐面的自準直反射光與干涉儀內部的參考光束形成零干涉條紋。
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