[發(fā)明專利]一種氮化鎵系高壓發(fā)光二極管及其制作方法無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201210290019.5 | 申請(qǐng)日: | 2012-08-15 |
| 公開(公告)號(hào): | CN102769023A | 公開(公告)日: | 2012-11-07 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 馮文泉;武樂(lè)可;鐘偉榮;熊威 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 上海藍(lán)寶光電材料有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L27/15 | 分類號(hào): | H01L27/15;H01L33/62;H01L33/00 |
| 代理公司: | 上海三和萬(wàn)國(guó)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所 31230 | 代理人: | 張民華 |
| 地址: | 201616*** | 國(guó)省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 氮化 高壓 發(fā)光二極管 及其 制作方法 | ||
1.?一種氮化鎵系高壓發(fā)光二極管,包括有發(fā)光單元(100),該發(fā)光單元(100)形成于同一襯底(200)上,發(fā)光單元(100)之間由絕緣溝道(300)隔開,各發(fā)光單元(100)通過(guò)金屬連接線(400)串聯(lián)或并聯(lián),其特征在于,所述絕緣溝道(300)中具有填充層(310),所述金屬連接線(400)位于該填充層(310)上。
2.?根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種氮化鎵系高壓發(fā)光二極管,其特征在于,所述發(fā)光單元(100)包括有至少一層N型氮化鎵半導(dǎo)體層(110)和一層P型氮化鎵半導(dǎo)體層(120),N型氮化鎵半導(dǎo)體層(110)和P型氮化鎵半導(dǎo)體層(120)疊合在一起,P型氮化鎵半導(dǎo)體層(120)上具有透明導(dǎo)電膜(121)和正電極(122),N型氮化鎵半導(dǎo)體層(110)上具有負(fù)電極(111)。
3.?.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種氮化鎵系高壓發(fā)光二極管,其特征在于,所述填充層(310)由絕緣耐熱材料以旋轉(zhuǎn)涂布的方式形成。
4.?一種氮化鎵系高壓發(fā)光二極管的制作方法,其特征在于,包括有以下步驟:
1)在襯底上成長(zhǎng)發(fā)光外延層;
2)用絕緣耐熱材料在發(fā)光外延層上形成回蝕阻擋層;
3)在回蝕阻擋層及發(fā)光外延層中刻蝕形成絕緣溝道,該絕緣溝道延伸至襯底處,將發(fā)光外延層分割成獨(dú)立塊;
4)將一層非光敏型材料涂布于回蝕阻擋層外表面,并填充絕緣溝道,形成絕緣耐熱的填充層;
5)去除填充層位于回蝕阻擋層外表面的部分,并保留其位于絕緣溝道中的部分;
6)將回蝕阻擋層去除;
7)將發(fā)光外延層分割成的獨(dú)立塊分別形成發(fā)光單元;
8)完成各發(fā)光單元金屬內(nèi)連線。
5.?根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種氮化鎵系高壓發(fā)光二極管的制作方法,其特征在于,步驟1)中,發(fā)光外延層由N型氮化鎵半導(dǎo)體層和P型氮化鎵半導(dǎo)體層組成。
6.?根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種氮化鎵系高壓發(fā)光二極管的制作方法,其特征在于,步驟2)中,絕緣耐熱材料以物理氣相沉積或化學(xué)氣相沉積的方式在發(fā)光外延層上形成回蝕阻擋層。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的多個(gè)半導(dǎo)體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無(wú)源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導(dǎo)體組件并且至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的;包括至少有一個(gè)躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的無(wú)源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對(duì)紅外輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過(guò)這樣的輻射控制電能的半導(dǎo)體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發(fā)射并且包括至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的半導(dǎo)體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點(diǎn)的熱電元件的;包括有熱磁組件的
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