[發明專利]采用雙段曝氣技術的MP-MBR裝置

無效

• 申請號: 201210285294.8
• 申請日: 2012-08-13
• 公開（公告）號: CN103588343A
• 公開（公告）日: 2014-02-19
• 發明（設計）人: 趙后昌;楊宗政;楊陽
• 申請（專利權）人: 天津市慶安特種設備研發有限公司
• 主分類號: C02F9/14
• 分類號: C02F9/14
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種采用雙段曝氣技術的MP-MBR裝置，包括高級氧化單元、厭氧單元、MBBR好氧單元，雙段曝氣MBR單元，原水首先流入高級氧化上部進水孔，高級氧化單元上部有可拆卸的管道與厭氧單元上部相連；厭氧單元上部有可拆卸的管道與MBBR好氧單元底部相連；MBBR好氧單元上部有可拆卸的管道與雙段曝氣MBR單元底部相連，雙段曝氣MBR單元中的膜組件產水口與抽吸泵進水口相連，處理達標的水經抽吸泵出水口排出，所有處理單元頂端標高和低端標高均相同。

2.如權利要求1所述的一種采用雙段曝氣技術的MP-MBR裝置，其特征在于高級氧化單元內設兩套加藥裝置及一套攪拌裝置。

3.如權利要求1所述的一種采用雙段曝氣技術的MP-MBR裝置，其特征在于厭氧單元內設置一套攪拌裝置。

4.如權利要求1所述的一種采用雙段曝氣技術的MP-MBR裝置，其特征在于MBBR好氧單元內設置上下兩端均固定的聚丙烯懸掛填料，底部設置曝氣盤曝氣裝置。

5.如權利要求1所述的一種采用雙段曝氣技術的MP-MBR裝置，其特征在于雙段曝氣MBR單元內設置一套MBR膜裝置，膜裝置出水口與抽吸泵進水口相連接。

6.如權利要求1或5所述的一種采用雙段曝氣技術的MP-MBR裝置，其特征在于MBR膜裝置底部和頂部均設置曝氣裝置，底部采用曝氣盤曝氣，頂部采用射流曝氣。

7.如權利要求5或6所述的一種采用雙段曝氣技術的MP-MBR裝置，其特征在于MBR膜裝置所采用的膜組件為中空纖維簾式膜組件，膜孔徑為0.03um，材質為PVDF。

8.如權利要求5或6所述的一種采用雙段曝氣技術的MP-MBR裝置，其特征在于MBR膜裝置不需從膜池中取出，可實現在線化學浸泡清洗。

9.如權利要求3或5所述的一種采用雙段曝氣技術的MP-MBR裝置，其特征在于MBR抽吸泵出水管分流一部分產水回流至厭氧單元。

10.如權利要求4或5所述的一種采用雙段曝氣技術的MP-MBR裝置，其特征在于MBBR好氧單元和雙段曝氣MBR單元共用一臺回轉風機進行。