[發(fā)明專利]接近式曝光裝置及接近式曝光方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201210285246.9
• 申請日: 2012-08-10
• 公開（公告）號: CN102955373A
• 公開（公告）日: 2013-03-06
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 湯口悟;佐藤雅之
• 申請（專利權(quán)）人: 恩斯克科技有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G03F1/64
• 代理公司: 北京泛誠知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11298
• 代理人: 陳波;朱弋

1.一種接近式曝光裝置，其特征在于，具有：

基板載置臺，其保持作為被曝光件的基板；

掩模載置臺，其保持具有需曝光圖案的掩模；以及

照射單元，其借助所述掩模對所述基板照射圖案曝光用光，

所述接近式曝光裝置在所述掩模與所述基板接近，并以規(guī)定的曝光間隙對向配置的狀態(tài)下，將所述掩模的圖案曝光復(fù)制在所述基板上，

所述掩模載置臺具有：

掩模保持架，其將所述掩模真空吸附保持于其下表面；

玻璃蓋片，其被保持在所述掩模保持架的上表面?zhèn)龋?/p>

抽吸機構(gòu)，其抽吸至少由所述掩模保持架、所述掩模及所述玻璃蓋片所界定的空間內(nèi)部的空氣，使所述空間內(nèi)部減壓；以及

空氣導(dǎo)入通路，其從外部向被減壓的空間內(nèi)部供給空氣，且所述空氣導(dǎo)入通路至少有一條。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的接近式曝光裝置，其特征在于，

所述空氣導(dǎo)入通路是配置于所述玻璃蓋片與所述掩模保持架的接合部的空氣導(dǎo)入槽。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的接近式曝光裝置，其特征在于，

所述掩模載置臺還具有掩模框架，所述掩模框架將所述掩模保持架真空吸附并保持于所述掩模框架的下表面，所述掩模載置臺由掩模驅(qū)動部來驅(qū)動。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的接近式曝光裝置，其特征在于，

所述掩模保持架的上表面具有突起部或凹部，

所述掩模框架的下表面具有凹部或突起部，

所述掩模保持架的所述突起部或所述凹部與所述掩模框架的所述凹部或所述突起部卡合，將所述掩模保持架保持在所述掩模框架的下表面。

5.根據(jù)權(quán)利要求3或4所述的接近式曝光裝置，其特征在于，

所述掩模框架還具有掩模保持架支承機構(gòu)，所述掩模保持架支承機構(gòu)支承所述掩模保持架，防止所述掩模保持架從所述掩模框架脫落。

6.根據(jù)權(quán)利要求1～3中任意一項所述的接近式曝光裝置，其特征在于，

所述掩模保持架具有保持機構(gòu)，所述保持機構(gòu)將所述玻璃蓋片保持在所述掩模保持架的規(guī)定的位置。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的接近式曝光裝置，其特征在于，

所述掩模保持架選擇其表面密度高于掩模M的表面密度的構(gòu)件。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的接近式曝光裝置，其特征在于，

所述掩模載置臺具有掩模框架，所述掩模框架的下表面安裝有所述掩模保持架，并且將所述玻璃蓋片真空吸附并保持于所述掩模保持架的下表面，

所述空間由所述掩模框架、所述掩模保持架、所述掩模及所述玻璃蓋片所界定，

所述空氣導(dǎo)入通路是配置在所述掩模框架與掩模保持架的接合部的空氣導(dǎo)入槽。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的接近式曝光裝置，其特征在于，

所述空氣導(dǎo)入通路設(shè)置在掩模保持架的中央部。

10.一種接近式曝光方法，

其利用權(quán)利要求1～9中任意一項所述的接近式曝光裝置，在所述掩模與所述基板接近并以規(guī)定的曝光間隙對向配置的狀態(tài)下，將所述掩模的圖案曝光復(fù)制在所述基板上，

其特征在于，其具有：

將所述掩模真空吸附在所述掩模保持架的下表面，并保持所述掩模的工序；和

在由所述抽吸機構(gòu)抽吸所述空間內(nèi)部的壓力的同時，經(jīng)由所述空氣導(dǎo)入通路向所述空間供給所述外部的空氣，從而將所述空間內(nèi)部的壓力調(diào)節(jié)為規(guī)定的壓力的工序。