[發明專利]一種砷化鎵晶片生產加工廢水的除砷裝置及方法

無效

• 申請號: 201210284967.8
• 申請日: 2012-08-13
• 公開（公告）號: CN102774991A
• 公開（公告）日: 2012-11-14
• 發明（設計）人: 李安峰;駱堅平;潘濤;徐文江;袁陽洋
• 申請（專利權）人: 北京市環境保護科學研究院
• 主分類號: C02F9/04
• 分類號: C02F9/04;C02F1/52;C02F1/56;C02F1/66
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種砷化鎵晶片生產加工廢水的除砷裝置，其特征在于：該裝置包括一級除砷罐(2)、一級除砷罐攪拌機(3)、一級提升泵(4)、二級除砷罐(5)、二級除砷罐攪拌機(6)、二級提升泵(7)、中間池(8)、三級提升泵(9)、砂濾池(10)、清水池(11)和反沖泵(12)；其中，一級除砷罐(2)出水口經一級提升泵(4)與二級除砷罐(5)進水口連通；二級除砷罐(5)出水口經二級提升泵(7)與中間池(8)進水口連通；中間池(8)出水口經三級提升泵(9)與砂濾池(10)進水口連通；砂濾池(10)與清水池(11)通過管道連通；清水池(11)經反沖泵(12)與砂濾池(10)反沖水進口連通。

2.一種砷化鎵晶片生產加工廢水的除砷方法，其特征在于步驟為：

1)通過自流或泵提，將原水輸送至一級除砷罐(2)，進行序批式絮凝沉淀除砷，沉淀除砷過程包括進水、pH調節、絮凝、沉淀和出水；

2)經過步驟1)處理后的上清液進入二級除砷罐(5)，首先進行氧化反應，將三價砷氧化成五價砷，然后再進行序批式絮凝沉淀除砷，沉淀除砷過程包括進水、氧化、pH調節、絮凝、沉淀和出水；

3)經過步驟2)處理的上清液首先匯入中間池(8)，然后通過三級提升泵(9)輸送至砂濾池(10)進行重力過濾，過濾后最終出水進入清水池(11)，最后外排；

4)砂濾池(10)需利用反沖泵(12)定期進行反沖洗，反沖洗水取自清水池(11)。

3.根據權利要求2所述的一種砷化鎵晶片生產加工廢水的除砷方法，其特征在于：步驟1)中絮凝沉淀所用的絮凝劑為氯化鐵，pH調節時先用氫氧化鈣進行調節，然后再用氫氧化鈉調節pH調至6.5～7.0；絮凝過程中所用到的助凝劑為水解度為25的陰離子聚丙酰胺；反應液中鐵離子濃度為800～1200mg/L，氫氧化鈣濃度為400～500mg/L，聚丙酰胺濃度為3～5mg/L。

4.根據權利要求2所述的一種砷化鎵晶片生產加工廢水的除砷方法，其特征在于：步驟2)中氧化反應所用的氧化劑為次氯酸鈉，絮凝劑為氯化鐵，pH調節劑為氫氧化鈉，助凝劑為水解度為25的陰離子聚丙酰胺；反應液中有效氯濃度為100～200mg/L，鐵離子濃度為20～30mg/L，陰離子聚丙酰胺濃度為2～3mg/L，用氫氧化鈉將絮凝沉淀pH調至6.5～7.0。

5.根據權利要求2所述的一種砷化鎵晶片生產加工廢水的除砷方法，其特征在于：步驟3)中砂濾采用重力過濾。