[發(fā)明專利]包含垂直入射和斜入射的光學測量系統(tǒng)無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210281800.6 | 申請日： | 2012-08-09 |
| 公開（公告）號： | CN103575661A | 公開（公告）日： | 2014-02-12 |
| 發(fā)明（設計）人： | 李國光;趙江艷;劉濤;吳文鏡 | 申請（專利權(quán)）人： | 北京智朗芯光科技有限公司 |
| 主分類號： | G01N21/21 | 分類號： | G01N21/21;G01N21/31;G01B11/06;G01B11/24;G01B11/00 |
| 代理公司： | 北京華沛德權(quán)律師事務所 11302 | 代理人： | 劉麗君 |
| 地址： | 100191 北京市*** | 國省代碼： | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 包含 垂直 入射 光學 測量 系統(tǒng) | ||
1.一種包含垂直入射和斜入射的光學測量系統(tǒng)，其特征在于，包括：
光源、光纖束、反射聚焦系統(tǒng)、第一聚光單元、第二聚光單元、第三聚光單元、第四聚光單元、第一偏振器、第二偏振器以及光譜計；
所述反射聚焦系統(tǒng)包括第一反射元件、第二反射元件及平面反射單元；
其中，
所述光源發(fā)出的光經(jīng)過所述光纖束分為第一探測光束和第二探測光束，其中，第二探測光束依次通過所述第一反射元件、平面反射元件、第二反射元件后垂直入射到樣品表面；第一探測光束依次通過所述第一聚光單元、第一偏振器、第二聚光單元斜入射到樣品表面；
經(jīng)過樣品表面反射且依次通過第二反射元件、平面反射元件、第一反射元件的垂直入射光，與從樣品表面反射且依次通過第三聚光單元、第二偏振器、第四聚光單元的斜入射光，經(jīng)所述光纖束傳輸后由同一端口輸出至所述光譜計。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學測量系統(tǒng)，其特征在于，所述第一聚光單元、第二聚光單元、第三聚光單元、第四聚光單元為消色差透鏡或曲面反射鏡；所述第一反射元件、第二反射元件為球面反射鏡；所述平面反射元件為平面反射鏡；所述第一偏振器為起偏器，所述第二偏振器為檢偏器。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學測量系統(tǒng)，其特征在于，所述光纖束包括：
第I子光纖，第II子光纖，第III子光纖和第IV子光纖；
所述第I子光纖與所述第II子光纖共用輸入端口；
所述第III子光纖和所述第IV子光纖共用輸出端口；
所述第II子光纖的輸出端口和所述第III子光纖的輸入端口捆綁連接，形成輸入輸出端口；
所述第I子光纖和第Ⅳ子光纖的另一端分別連接一光纖端口。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的光學測量系統(tǒng)，其特征在于，
所述第I子光纖，第II子光纖和第IV子光纖包含一根光纖，所述第III子光纖由六根光纖構(gòu)成；
在所述光纖束的輸入輸出端口處，所述第II子光纖位于中心部位，構(gòu)成所述第III子光纖的所述六根光纖對稱地排列所述第II子光纖的周圍，構(gòu)成一個正六邊形；
在所述光纖束的輸出端口處，所述第III子光纖和所述第IV子光纖呈一字型并列擺放；所述第IV子光纖處于正中間，構(gòu)成所述第III子光纖的所述六根光纖分成兩部分，在所述第IV子光纖兩側(cè)對稱地分布。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的光學測量系統(tǒng)，其特征在于，所述光纖束為W型光纖束；所述光纖束為波長范圍為200-1100nm的抗紫外變化光纖；所述光源為是氙燈、氘燈、鎢燈、鹵素燈、汞燈、包含氘燈和鎢燈的復合寬帶光源、包含鎢燈和鹵素燈的復合寬帶光源、包含汞燈和氙燈的復合寬帶光源、或者包含氘鎢鹵素的復合寬帶光源。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光學測量系統(tǒng)，其特征在于，所述光學測量系統(tǒng)還包括補償器；
所述補償器位于所述起偏器和樣品之間或樣品與所述檢偏器之間。
7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的光學測量系統(tǒng)，其特征在于，所述光學測量系統(tǒng)還包括第一光闌和第二光闌；
所述第一光闌設置在所述第II子光纖和所述第一反射元件之間的光路中；
所述第二光闌設置在所述第I子光纖和所述第一聚光單元之間的光路中。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的光學測量系統(tǒng)，其特征在于，所述光纖束與光譜計相連的光纖束輸出端口還包括第V子光纖；
所述第Ⅴ子光纖，將所述第二探測光束中透過樣品的部分傳輸至所述光譜計中。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的光學測量系統(tǒng)，其特征在于，所述光學測量系統(tǒng)還包括第五聚光單元；
所述第五聚光單元，將所述探測光束中透過樣品的部分聚焦至所述第Ⅴ子光纖中，所述第五聚光單元為曲面反射鏡，或消色差透鏡。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的光學測量系統(tǒng)，其特征在于，所述光學測量系統(tǒng)還包括第三光闌；
所述第三光闌設置在第五聚光單元和所述樣品之間的光路中。
11.根據(jù)權(quán)利要求1-10任一項所述的光學測量系統(tǒng)，其特征在于，所述光學測量系統(tǒng)還包括計算單元，所述計算單元用于計算樣品材料的光學常數(shù)，薄膜厚度和/或用于分析樣品的周期性結(jié)構(gòu)的臨界尺度特性或三維形貌。
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