[發明專利]圖像形成裝置在審
| 申請號: | 201210280842.8 | 申請日: | 2012-08-08 |
| 公開(公告)號: | CN103365141A | 公開(公告)日: | 2013-10-23 |
| 發明(設計)人: | 矢野健一郎 | 申請(專利權)人: | 富士施樂株式會社 |
| 主分類號: | G03G15/00 | 分類號: | G03G15/00;G03G21/16 |
| 代理公司: | 北京天昊聯合知識產權代理有限公司 11112 | 代理人: | 何立波;張天舒 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 圖像 形成 裝置 | ||
技術領域
本發明涉及一種圖像形成裝置。
背景技術
在日本特開2011—232513記載的圖像形成裝置的骨架部件中,具有沿裝置深度方向使板面相對的一對第一框架,該一對第一框架分離地配置。并且,在該一對第一框架之間,架設沿上下方向使板面相對的平板狀的頂板。
發明內容
本發明的課題是:抑制用于形成圖像的圖像保持體及曝光部件中的至少一個由于安裝部件的變形而位移。
根據本發明的第1方案,提供一種圖像形成裝置,其具有:圖像形成部,其具有圖像保持體和曝光部件,該曝光部件向前述圖像保持體的表面照射曝光光線而形成靜電潛像;第一側壁,其設置在前述圖像形成部的一個側面側;第二側壁,其設置在該圖像形成部的與前述一個側面側相反的側面側,隔著前述圖像形成部而與前述第一側壁相對;第一分隔部件,其一端固定在前述第一側壁上,并且另一端固定在前述第二側壁上,將夾在前述側壁之間的空間的一部分分隔為第一空間及第二空間;第二分隔部件,其一端固定在前述第一側壁上,并且另一端固定在前述第二側壁上,將夾在前述側壁之間的空間的一部分分隔為前述第一空間及前述第二空間,其特征在于,前述第一分隔部件及前述第二分隔部件構成為,將夾在前述側壁之間的空間內的不同區域分別分隔為前述第一空間及前述第二空間,在前述第一分隔部件上安裝前述圖像保持體及前述曝光部件中的至少一個,前述第二分隔部件的從前述第一空間朝向前述第二空間的分隔方向上的剛性,比前述第一分隔部件的分隔方向上的剛性更低。
根據本發明的第2方案,在前述圖像形成裝置中,前述第一分隔部件具有L字部位,其一端固定在前述第一側壁上,另一端固定在前述第二側壁上,從前述第一側壁和前述第一側壁相對的相對方向觀察成為L字狀。
根據本發明的第3方案,在前述第一空間內配置用于形成圖像的前述圖像保持體及前述曝光部件,在前述第二空間內搭載被輸送至前述第一空間內而記錄圖像的記錄介質,從前述第一側壁和前述第二側壁相對的相對方向觀察,從裝置主體的寬度方向的一端側至另一端側,前述第一空間和前述第二空間由前述第一分隔部件及前述第二分隔部件分隔。
發明的效果
根據前述第1方案,與第二分隔部件的剛性相對于安裝曝光部件及圖像保持體的第一分隔部件的剛性來說較高的情況相比,可以抑制用于形成圖像的圖像保持體及曝光部件中的至少一個,由于安裝部件的變形而位移。
根據前述第2方案,與第一分隔板為平板狀的情況相比,可以有效地抑制第一分隔部件的變形。
根據前述第3方案,與從裝置主體的寬度方向的一端側至另一側,未由第一分隔部件及經二分隔部件分隔為圖像形成空間和記錄介質空間的情況相比,可以抑制用戶從記錄介質空間插入的手進入圖像形成空間。
附圖說明
圖1是表示本發明的實施方式涉及的圖像形成裝置所具有的骨架部的放大主視圖。
圖2是表示本發明的實施方式涉及的圖像形成裝置所具有的骨架部的主視圖。
圖3是表示本發明的實施方式涉及的圖像形成裝置所具有的骨架部的第一分隔板及第二分隔板的斜視圖。
圖4是表示本發明的實施方式涉及的圖像形成裝置所具有的骨架部的放大斜視圖。
圖5是表示本發明的實施方式涉及的圖像形成裝置所具有的骨架部的斜視圖。
圖6是表示本發明的實施方式涉及的圖像形成裝置所具有的內架部的斜視圖。
圖7是表示本發明的實施方式涉及的圖像形成裝置所具有的骨架部的斜視圖。
圖8是表示本發明的實施方式涉及的圖像形成裝置所具有的支?撐部件的斜視圖。
圖9是表示本發明的實施方式涉及的圖像形成裝置所具有的圖像形成單元的斜視圖。
圖10是表示本發明的實施方式涉及的圖像形成裝置所具有的圖像形成單元的斜視圖。
圖11是表示本發明的實施方式涉及的圖像形成裝置所具有的骨架部的放大斜視圖。
圖12是表示本發明的實施方式涉及的圖像形成裝置所具有的圖像形成單元的結構圖。
圖13是表示本發明的實施方式涉及的圖像形成裝置的斜視圖。
圖14是表示本發明的實施方式涉及的圖像形成裝置的概略結構圖。
詳細說明
按照圖1~圖14對本發明的實施方式涉及的圖像形成裝置的一個例子進行說明。此外,圖中所示的箭頭H表示上下方向(鉛直方向),箭頭W表示裝置寬度方向(水平方向),箭頭D表示裝置深度方向(水平方向)。
整體結構
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