[發明專利]一種液晶顯示裝置、彩膜基板及其制造方法有效
| 申請號： | 201210279833.7 | 申請日： | 2012-08-07 |
| 公開（公告）號： | CN102809849A | 公開（公告）日： | 2012-12-05 |
| 發明（設計）人： | 黎敏;吳洪江;張繼凱;萬冀豫;姜晶晶 | 申請（專利權）人： | 京東方科技集團股份有限公司;北京京東方顯示技術有限公司 |
| 主分類號： | G02F1/1335 | 分類號： | G02F1/1335;G02F1/1339;G02B5/20;G03F7/00 |
| 代理公司： | 北京中博世達專利商標代理有限公司 11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 100015 *** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 液晶 顯示裝置 彩膜基板 及其 制造 方法 | ||
1.一種彩膜基板的制造方法，其特征在于，包括：
在透明基板上形成黑色膜層；
通過構圖工藝處理，使所述黑色膜層形成包括彩膜區域和隔墊物區域的黑矩陣膜層；其中，所述隔墊物區域的底部全部或部分露出所述透明基板，和/或，所述隔墊物區域的底部膜層的厚度小于所述黑矩陣膜層的厚度；
通過構圖工藝處理在所述黑矩陣膜層的所述彩膜區域形成彩膜；
通過構圖工藝處理在所述黑矩陣膜層的所述隔墊物區域形成隔墊物。
2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述隔墊物區域的底部膜層的厚度為0.1至0.8μm。
3.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述隔墊物區域的底部部分露出所述透明基板包括：所述隔墊物區域的底部膜層形成有至少一條狹縫，部分露出所述透明基板。
4.根據權利要求1至3任一所述的方法，其特征在于，所述通過構圖工藝處理在所述黑矩陣膜層的所述隔墊物區域形成隔墊物包括：
在形成有所述彩膜的基板上形成負性光刻膠層；
以所述黑矩陣膜層和所述彩膜為掩膜，從基板背面用光線照射所述負性光刻膠層；顯影后，在所述黑矩陣膜層的所述隔墊物區域形成光刻膠保留區域的隔墊物，在所述黑矩陣膜層以及所述彩膜的區域形成光刻膠完全去除區域。
5.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法還包括：
在形成有所述黑矩陣膜層、所述彩膜以及所述隔墊物的基板上形成保護膜層。
6.一種彩膜基板，包括：透明基板，形成于所述透明基板上的黑矩陣膜層和形成于所述黑矩陣膜層的彩膜區域的彩膜，其特征在于，
所述黑矩陣膜層還具有隔墊物區域；其中，所述隔墊物區域的底部全部或部分露出所述透明基板，和/或，所述隔墊物區域的底部膜層的厚度小于所述黑矩陣膜層的厚度；
所述彩膜基板還包括形成于所述黑矩陣膜層的所述隔墊物區域上的隔墊物。
7.根據權利要求6所述的彩膜基板，其特征在于，所述隔墊物區域的底部膜層的厚度為0.1至0.8μm。
8.根據權利要求6所述的彩膜基板，其特征在于，所述隔墊物區域的底部部分露出所述透明基板包括：所述隔墊物區域的底部膜層形成有至少一條狹縫，部分露出所述透明基板。
9.根據權利要求6所述的彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板還包括：
形成于所述黑矩陣膜層、所述彩膜以及所述隔墊物之上的保護膜層。
10.一種液晶顯示裝置，其特征在于，包括如權利要求6至9任一所述的彩膜基板。
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