[發明專利]薄膜沉積設備在審
| 申請號: | 201210279825.2 | 申請日: | 2012-08-07 |
| 公開(公告)號: | CN103074579A | 公開(公告)日: | 2013-05-01 |
| 發明(設計)人: | 馬浩烈;李載昱 | 申請(專利權)人: | 塔工程有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/24 | 分類號: | C23C14/24;C23C14/12;C23C14/54 |
| 代理公司: | 北京康信知識產權代理有限責任公司 11240 | 代理人: | 余剛;吳孟秋 |
| 地址: | 韓國慶*** | 國省代碼: | 韓國;KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 薄膜 沉積 設備 | ||
1.一種薄膜沉積設備,包括:
至少一個沉積源,存儲沉積材料,所述沉積源將所述沉積材料排放到玻璃面板上;
至少一個溫度控制器,設置成鄰近所述玻璃面板,以控制所述玻璃面板的溫度或所述玻璃面板的附近區域的溫度;以及至少一個隔間,每個所述隔間均包含沉積源和所述溫度控制器。
2.根據權利要求1所述的薄膜沉積設備,其中,所述溫度控制器包括:
冷卻/加熱件,設置成鄰近所述玻璃面板;以及
溫度控制單元,控制所述冷卻/加熱件的溫度。
3.根據權利要求2所述的薄膜沉積設備,其中,所述沉積源設置在所述隔間的底表面上,并且所述冷卻/加熱件設置在所述隔間的頂表面下方,
其中,所述玻璃面板設置在所述沉積源與所述冷卻/加熱件之間。
4.根據權利要求2或3所述的薄膜沉積設備,其中,所述冷卻/加熱件的面積對應于所述隔間的頂表面的面積。
5.根據權利要求2或3所述的薄膜沉積設備,其中,所述冷卻/加熱件的長度對應于所述隔間的長度或寬度。
6.根據權利要求2或3所述的薄膜沉積設備,其中,所述冷卻/加熱件的面積對應于所述玻璃面板的面積。
7.根據權利要求2或3所述的薄膜沉積設備,其中,所述冷卻/加熱件的長度對應于所述述玻璃面板的長度或寬度。
8.根據權利要求2或3所述的薄膜沉積設備,其中,所述薄膜沉積設備包括數量設置成與所述冷卻/加熱件的數量相對應的沉積源。
9.根據權利要求2或3所述的薄膜沉積設備,其中,為了降低所述玻璃面板或所述玻璃面板的所述附近區域的溫度,在所述溫度控制單元的控制下對所述冷卻/加熱件進行冷卻,并且為了提高所述玻璃面板或所述玻璃面板的所述附近區域的溫度,利用所述隔間的大氣中所產生的熱。
10.根據權利要求2或3所述的薄膜沉積設備,其中,為了降低所述玻璃面板或所述玻璃面板的所述附近區域的溫度,在所述溫度控制單元的控制下對所述冷卻/加熱件進行冷卻,并且為了提高所述玻璃面板或所述玻璃面板的所述附近區域的溫度,在所述溫度控制單元的控制下對所述冷卻/加熱件進行加熱。
11.根據權利要求2或3所述的薄膜沉積設備,其中,所述冷卻/加熱件由多個冷卻/加熱件子單元組成,每個所述冷卻/加熱件子單元的溫度是可調整的。
12.根據權利要求1至3中任一項所述的薄膜沉積設備,其中,所述溫度控制器將所述玻璃面板或所述玻璃面板的所述附近區域的溫度維持在70℃或更低。
13.根據權利要求1至3中任一項所述的薄膜沉積設備,進一步包括:
至少一個溫度傳感器,設置在所述隔間中,所述溫度傳感器感測所述玻璃面板或所述玻璃面板的所述附近區域的溫度。
14.根據權利要求1至3中任一項所述的薄膜沉積設備,進一步包括:
至少一個噴嘴單元,連接至所述沉積源,所述噴嘴單元包括多個噴嘴,使得所述沉積材料通過所述噴嘴排放到所述玻璃面板上。
15.根據權利要求14所述的薄膜沉積設備,其中,所述噴嘴單元相對于所述玻璃面板的距離能夠調節。
16.根據權利要求2或3所述的薄膜沉積設備,進一步包括:
至少一個噴嘴單元,連接至所述沉積源,所述噴嘴單元包括多個噴嘴,使得所述沉積材料通過所述噴嘴排放到所述玻璃面板上,
其中,所述冷卻/加熱件的長度對應于所述噴嘴單元的長度。
17.根據權利要求16所述的薄膜沉積設備,其中,所述噴嘴單元能夠調節相對于所述玻璃面板的距離。
18.根據權利要求1至3中任一項所述的薄膜沉積設備,其中,所述薄膜沉積設備包括順序地一個接一個地以直線型布置方式連接的多個隔間。
19.根據權利要求18所述的薄膜沉積設備,其中,各個隔間的各個沉積源存儲不同種類的沉積材料。
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